改進拋光件吸附方式的拋光的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種改進拋光件吸附方式的拋光機，包括機架、吸附上盤、吸附下盤、上盤驅(qū)動系統(tǒng)、下盤驅(qū)動系統(tǒng)和抽真空系統(tǒng)，上/下盤驅(qū)動系統(tǒng)包括一中心軸，中心軸的底部與吸附上/下盤相連接，中心軸內(nèi)開設(shè)有封閉式連接氣路，中心軸靠近底部位置設(shè)有一旋轉(zhuǎn)氣路接頭，旋轉(zhuǎn)氣路接頭連通至封閉式連接氣路，旋轉(zhuǎn)氣路接頭外氣路接口，吸附上/下盤開設(shè)有氣路通孔，各氣路接口通過連接氣管與吸附上/下盤上開設(shè)的氣路通孔連通；吸附上/下盤的下/上方設(shè)有緊貼其下表面的緩沖墊，緩沖墊的表面開設(shè)有通透式吸附槽，氣路通孔的下/上端對齊吸附槽。本實用新型的結(jié)構(gòu)簡單、成本低、投資小、操作方便，有利于實現(xiàn)后期自動化拋光。
【專利說明】改進拋光件吸附方式的拋光機
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種拋光機，尤其涉及一種改進拋光件吸附方式的拋光機。
【背景技術(shù)】
[0002]目前拋光機所加工的玻璃都是貼在拋光機的上盤或下盤的平面來進行加工，靠聚酯合成材料的吸附墊吸附在上、下盤的平面上進行研磨拋光?，F(xiàn)有拋光機的上、下盤多為平面無孔結(jié)構(gòu)，且都不具有真空吸附功能，這些拋光機主要是依靠特殊材質(zhì)的吸附墊來完成待拋光玻璃的貼合固定，吸附墊背面通過膠水、粘結(jié)劑等與上、下盤粘合，吸附墊正面則由許多質(zhì)地細密的凹槽型小孔組成，緊壓后將小孔內(nèi)空氣排出即具有真空吸附功能。經(jīng)過一段時間的使用后，拋光粉會逐漸滲透到吸附墊正面的小孔內(nèi)，使原有的小孔不具有真空吸附功能而不能使用，必須頻繁更換。按拋光機每天工作八小時計算，聚酯合成材料的吸附墊每隔幾天就得更換一次，由此導致聚酯合成材料的吸附墊作為一種拋光用耗材的成本一直居高不下。
[0003]另外，拋光機每加工完一片玻璃需要剝離去除吸附在玻璃上的吸附墊，按照現(xiàn)有的工藝只能靠人工一點點吹氣或滲水的方法來移除，相當費時費力，且影響整個拋光機的自動化程度?，F(xiàn)有技術(shù)中也有公開了將拋光機的上盤與一陶瓷移動盤進行真空吸附連接的方式，但是陶瓷移動盤的設(shè)置不僅增加了設(shè)備成本，而且陶瓷移動盤的質(zhì)量較重，拋光所需的功耗大大增加，拋光晶片安置于陶瓷移動盤上不僅費時費力，而且這種硬性接觸容易在拋光時造成晶片損壞，拋光質(zhì)量也無法保證；現(xiàn)有技術(shù)中也有直接采用開孔的真空吸盤吸附工件的情形，但這種真空吸附方式往往氣密性不佳，導致真空吸附所需的吸附壓力過大，這不僅容易造成工件的變形而影響拋光精度，而且同樣容易造成工件的損壞，而且拋光粉等雜質(zhì)如果進入到真空吸盤上開設(shè)的細孔中，不僅清理困難，嚴重時需要更換整個真空吸盤，成本大大增加。
實用新型內(nèi)容
[0004]本實用新型要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡單、成本低、投資小、操作方便、有利于實現(xiàn)后期自動化拋光的改進拋光件吸附方式的拋光機。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提出的技術(shù)方案為一種改進拋光件吸附方式的拋光機(上吸式)，包括機架、吸附上盤、吸附下盤、上盤驅(qū)動系統(tǒng)、下盤驅(qū)動系統(tǒng)和抽真空系統(tǒng)，上盤驅(qū)動系統(tǒng)包括一中心軸，中心軸的底部與吸附上盤相連接，所述中心軸內(nèi)開設(shè)有封閉式連接氣路，中心軸靠近底部位置設(shè)有一旋轉(zhuǎn)氣路接頭，旋轉(zhuǎn)氣路接頭的內(nèi)端通過封閉式連接氣路與所述抽真空系統(tǒng)相連，旋轉(zhuǎn)氣路接頭的外端設(shè)有多個氣路接口，所述吸附上盤開設(shè)有多個氣路通孔，各氣路接口通過連接氣管與吸附上盤上開設(shè)的氣路通孔的上端連通；所述吸附上盤下方設(shè)有緊貼其下表面的緩沖墊，所述緩沖墊的表面開設(shè)有通透式吸附槽(該吸附槽包括孔形、條形、L形等各種通透式結(jié)構(gòu))，所述氣路通孔的下端對齊所述吸附槽。[0006]上述的拋光機中，優(yōu)選的，所述多個氣路接口沿所述旋轉(zhuǎn)氣路接頭的中心轉(zhuǎn)軸呈中心對稱分布。這樣的氣路接口設(shè)置有利于配合后續(xù)吸附槽的優(yōu)化布置，使緩沖墊能夠均勻受力，更好地吸附拋光件達到拋光效果。更優(yōu)選的，所述吸附上盤開設(shè)的多個氣路通孔沿吸附上盤的中心轉(zhuǎn)軸呈中心對稱分布。這樣的氣路通孔布置有利于與旋轉(zhuǎn)氣路接頭對接和連接氣路中間增加通斷閥門，而且同樣有利于配合后續(xù)吸附槽的優(yōu)化布置。更優(yōu)選的，各連接氣管上還設(shè)有通斷閥門，這使得本實用新型的拋光機具有適應大小不同型號玻璃進行拋光操作的兼容性；若遇到小型號玻璃，只需要關(guān)閉玻璃所覆蓋范圍外的真空氣路即可，而且還有利于玻璃的取片，在取片時，只需要關(guān)閉負壓，接入正壓吹氣就能去除真空，順利取下待拋光玻璃件，無須人工吹氣或滲水來移除。
[0007]上述的拋光機中，優(yōu)選的，所述緩沖墊是通過粘結(jié)劑粘合方式或通過真空吸附方式緊貼在吸附上盤的下表面上；粘結(jié)劑粘合方式更加穩(wěn)定可靠；但真空吸附方式將使得緩沖墊的清理和更換更加快捷和方便，有利于實現(xiàn)整個拋光機的全自動化，還可充分利用拋光機配套設(shè)置的抽真空系統(tǒng)。當采用真空吸附方式時，所述吸附上盤上增設(shè)有部分不對準所述吸附槽的吸附孔，該吸附孔通過連接氣管與所述旋轉(zhuǎn)氣路接頭外端設(shè)置的氣路接口連通，通過該吸附孔可將緩沖墊吸附貼合在吸附上盤的下表面。
[0008]作為一個總的技術(shù)構(gòu)思，本實用新型還提供另一種改進拋光件吸附方式的拋光機(下吸式)，包括機架、吸附上盤、吸附下盤、上盤驅(qū)動系統(tǒng)、下盤驅(qū)動系統(tǒng)和抽真空系統(tǒng)，下盤驅(qū)動系統(tǒng)包括一中心軸，中心軸的頂部與吸附下盤相連接，所述中心軸內(nèi)開設(shè)有封閉式連接氣路，中心軸靠近底部位置設(shè)有一旋轉(zhuǎn)氣路接頭，旋轉(zhuǎn)氣路接頭的上端與所述封閉式連接氣路的底端相連通，旋轉(zhuǎn)氣路接頭的下端與所述抽真空系統(tǒng)相連，所述封閉式連接氣路上部連通至中心軸外側(cè)開設(shè)的氣路接口，所述吸附下盤開設(shè)有氣路通孔，氣路接口通過連接氣管與吸附下盤上開設(shè)的氣路通孔的底端連通；所述吸附下盤上方設(shè)有緊貼其上表面的緩沖墊，所述緩沖墊的表面開設(shè)有通透式吸附槽，所述氣路通孔的上端對齊所述吸附槽。
[0009]上述的下吸式拋光機中，優(yōu)選的，所述氣路通孔的底端設(shè)有真空腔(吸附下盤與底部密封連接形成真空腔)，該真空腔位于機座和吸附下盤之間，所述連接氣管是通過該真空腔與所述吸附下盤上開設(shè)的氣路通孔連通。通過在下吸式拋光機中設(shè)置一內(nèi)部的真空腔，可使得真空吸附的壓力更加穩(wěn)定、均勻，而且便于簡化后續(xù)氣路接口和連接氣管的設(shè)置。因此，在上述的下吸式拋光機中，更優(yōu)選的，所述中心軸外側(cè)僅開設(shè)一個氣路接口，該氣路接口通過一連接氣管與所述真空腔連通。
[0010]上述的下吸式拋光機中，優(yōu)選的，所述吸附下盤開設(shè)的氣路通孔與吸附下盤的中心轉(zhuǎn)軸連通；所述真空腔被分隔成多個真空子腔，且這多個真空子腔呈中心向外圍擴散方式布置，各個真空子腔之間相互連通。
[0011]與上述上吸式拋光機相類似，優(yōu)選的，所述緩沖墊可以是通過粘結(jié)劑粘合方式或通過真空吸附方式緊貼在吸附下盤的上表面上；當采用真空吸附方式時，所述吸附上盤上增設(shè)有部分不對準所述吸附槽的吸附孔，該吸附孔同樣可通過連接氣管與所述旋轉(zhuǎn)氣路接頭外側(cè)設(shè)置的氣路接口連通或者也可直接連通至上述的真空腔，通過該吸附孔可將緩沖墊吸附貼合在吸附下盤的上表面。
[0012]上述的上吸式或下吸式拋光機中，優(yōu)選的，所述吸附槽設(shè)置有多條，這多條的吸附槽在緩沖墊表面呈中心向外圍擴散方式布置。該優(yōu)選的吸附槽設(shè)置方式有利于保證工件玻璃能夠穩(wěn)固均勻地吸附在吸附上盤或吸附下盤上，更優(yōu)選的，所述吸附槽呈類似“回”字形布置，且每兩條U形的吸附槽對接后組成一個回路，位于同一回路的兩條U形的吸附槽之間相互隔斷。
[0013]上述的上吸式或下吸式拋光機中，優(yōu)選的，當所述緩沖墊緊貼吸附上盤的下表面設(shè)置時，所述吸附上盤的下表面開設(shè)有與所述吸附槽對齊的非通透式凹槽，所述氣路通孔的下端連通至該非通透式凹槽；
[0014]當所述緩沖墊緊貼吸附下盤的上表面設(shè)置時，所述吸附下盤的上表面開設(shè)有與所述吸附槽對齊的非通透式凹槽，所述氣路通孔的上端連通至該非通透式凹槽。
[0015]上述的上吸式或下吸式拋光機中，優(yōu)選的，基于本實用新型中采用的特殊結(jié)構(gòu)或特殊方式，所述緩沖墊優(yōu)選采用橡膠墊材料制作。現(xiàn)有緩沖墊中幾乎沒有采用橡膠墊制作的情形。
[0016]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的優(yōu)點在于:
[0017]1.相比現(xiàn)有的拋光機吸附方式，本實用新型改進后的吸附方式不僅結(jié)構(gòu)簡單，而且改造成本很低；
[0018]2.本實用新型改進后的拋光機采用真空吸附和吹氣的方式，非常便于被加工玻璃的裝片和取片，而且便于緩沖墊的緊貼和剝離，能夠大大簡化人工；由于改進后的拋光機采用真空吸附和吹氣的方式，待拋光件及緩沖墊的吸附和剝離過程大大簡化，解決了目前拋光機人工取片的難題，有利于今后實現(xiàn)拋光機拋光加工的生產(chǎn)自動化；
[0019]3.本實用新型特殊的結(jié)構(gòu)設(shè)計使得本實用新型的緩沖墊不局限于采用現(xiàn)有技術(shù)中專用于粘結(jié)吸附上盤或下盤的聚酯合成材料，可以采用其他價格更低廉的材質(zhì)制作(如橡膠墊)緩沖墊，以滿足吸附功能，且不需要頻繁更換，大大降低拋光機中緩沖墊耗材的使用成本；
[0020]4.本實用新型特殊的結(jié)構(gòu)設(shè)計使得本實用新型的緩沖墊還可承擔其他更多的功能性定位，例如可以作為緩沖墊進行使用，大大提高拋光件拋光的工藝質(zhì)量。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0021]圖1為本實用新型實施例1中上吸式拋光機上部構(gòu)造的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖2為本實用新型實施例1中上吸式拋光機上部構(gòu)造沿中心軸的剖視圖。
[0023]圖3為本實用新型實施例1中上吸式拋光機的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024]圖4為本實用新型實施例2中下吸式拋光機下部構(gòu)造的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]圖5為本實用新型實施例2中下吸式拋光機下部構(gòu)造沿中心軸的剖視圖。
[0026]圖6為本實用新型實施例中緩沖墊的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027]圖7為本實用新型實施例2中下吸式拋光機的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0028]圖例說明:
[0029]1、機架；2、吸附上盤；3、吸附下盤；4、上盤驅(qū)動系統(tǒng)；5、下盤驅(qū)動系統(tǒng)；6、中心軸；61、封閉式連接氣路；62、旋轉(zhuǎn)氣路接頭；63、氣路接口 ；64、氣路通孔；65、連接氣管；66、通斷閥門；7、緩沖墊；71、吸附槽；8、真空腔；81、真空子腔；9、機座；10、拋光件。
【具體實施方式】[0030]為了便于理解本實用新型，下文將結(jié)合說明書附圖和較佳的實施例對本實用新型作更全面、細致地描述，但本實用新型的保護范圍并不限于以下具體的實施例。
[0031]需要特別說明的是，當某一元件被描述為“固定于或連接于”另一元件上時，它可以是直接固定或連接在另一元件上，也可以是通過其他中間連接件間接固定或連接在另一元件上。
[0032]除非另有定義，下文中所使用的所有專業(yè)術(shù)語與本領(lǐng)域技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中所使用的專業(yè)術(shù)語只是為了描述具體實施例的目的，并不是旨在限制本實用新型的保護范圍。
[0033]實施例1:
[0034]一種如圖1?圖3所示本實用新型的改進拋光件吸附方式的上吸式拋光機，包括機架1、吸附上盤2、吸附下盤3、上盤驅(qū)動系統(tǒng)4、下盤驅(qū)動系統(tǒng)5、回收系統(tǒng)和抽真空系統(tǒng)，上盤驅(qū)動系統(tǒng)4包括一中心軸6，中心軸6的底部與吸附上盤2相連接，中心軸6內(nèi)開設(shè)有封閉式連接氣路61，中心軸6靠近底部位置設(shè)有一旋轉(zhuǎn)氣路接頭62，旋轉(zhuǎn)氣路接頭62的內(nèi)端通過封閉式連接氣路61與外部的抽真空系統(tǒng)相連(采用常規(guī)的抽真空系統(tǒng)即可，圖中未示出)，旋轉(zhuǎn)氣路接頭62的外端設(shè)有多個氣路接口 63，吸附上盤2開設(shè)有多個氣路通孔64，各氣路接口 63通過連接氣管65與吸附上盤2上開設(shè)的氣路通孔64的上端連通；吸附上盤2下方設(shè)有通過粘結(jié)劑粘貼方式緊貼其下表面的緩沖墊7，緩沖墊7的表面開設(shè)有通透式吸附槽71，氣路通孔64的下端對齊吸附槽71。緩沖墊7的下方設(shè)置拋光件10。
[0035]本實施例的上吸式拋光機中，多個氣路接口 63沿旋轉(zhuǎn)氣路接頭62的中心轉(zhuǎn)軸呈中心對稱分布。另外，吸附上盤2開設(shè)的多個氣路通孔64沿吸附上盤2的中心轉(zhuǎn)軸呈中心對稱分布。如圖2所示，在各連接氣管65上還設(shè)有通斷閥門66。
[0036]如圖6所示，本實施例的上吸式拋光機中，吸附槽71設(shè)置有多條，這多條的吸附槽71在緩沖墊7表面呈中心向外圍擴散方式布置。具體的，吸附槽71呈類似“回”字形布置，且每兩條U形的吸附槽71對接后組成一個回路，位于同一回路的兩條U形的吸附槽之間相互隔斷。本實施例中，緩沖墊采用橡膠墊材料制作。
[0037]整個拋光機的上盤驅(qū)動系統(tǒng)4還包括有提升氣缸、傳動機構(gòu)等常規(guī)部件，而下盤驅(qū)動系統(tǒng)5則包括相應的電機、傳動機構(gòu)等部件，上盤驅(qū)動系統(tǒng)4和下盤驅(qū)動系統(tǒng)5均安裝于機架I上，且均可由操作面板控制。
[0038]上述本實施例的上吸式拋光機中，吸附上盤2的一次裝片、取片操作流程包括:首先通過操作面板控制上盤驅(qū)動系統(tǒng)4使吸附上盤2傾斜，然后開啟抽真空系統(tǒng)，將待拋光的工件玻璃對齊緩沖墊7表面開設(shè)的通透式吸附槽71，并使其貼合，然后對工件玻璃進行拋光操作，拋光完成后使吸附上盤2回正；控制上盤驅(qū)動系統(tǒng)4使吸附上盤2再次傾斜，手工托舉或機械手固定拋光后的工件玻璃，關(guān)閉負壓、接入正壓，通過吹氣即可使工件玻璃脫離。
[0039]實施例2:
[0040]一種如圖4?圖7所示本實用新型的改進拋光件吸附方式的下吸式拋光機，包括機架1、吸附上盤2、吸附下盤3、上盤驅(qū)動系統(tǒng)4、下盤驅(qū)動系統(tǒng)5、回收系統(tǒng)和抽真空系統(tǒng)(參見圖7)，下盤驅(qū)動系統(tǒng)5包括一中心軸6，中心軸6的頂部與吸附下盤3相連接，中心軸6內(nèi)開設(shè)有封閉式連接氣路61，中心軸6靠近底部位置設(shè)有一旋轉(zhuǎn)氣路接頭62，旋轉(zhuǎn)氣路接頭62的上端與封閉式連接氣路61的底端相連通，旋轉(zhuǎn)氣路接頭62的下端與抽真空系統(tǒng)相連，封閉式連接氣路61上部連通至中心軸6外側(cè)開設(shè)的氣路接口 63，吸附下盤3開設(shè)有多個氣路通孔64，氣路接口 63通過連接氣管65與吸附下盤3上開設(shè)的氣路通孔64的底端連通。吸附下盤3上方設(shè)有通過粘結(jié)劑粘貼方式緊貼其上表面的緩沖墊7。緩沖墊7的表面開設(shè)有通透式吸附槽71，氣路通孔64的上端對齊吸附槽71。本實施例中額緩沖墊7還可以通過真空吸附方式緊貼在吸附下盤3的上表面上；采用真空吸附方式時，吸附下盤3上除設(shè)置前述的多個氣路通孔64外，還增設(shè)有部分不對準吸附槽71的吸附孔，這些吸附孔與氣路通孔64在結(jié)構(gòu)上無本質(zhì)區(qū)別，均為通氣孔，且這些吸附孔同樣通過連接氣管65與旋轉(zhuǎn)氣路接頭62外端設(shè)置的氣路接口 63連通。此種情況下，氣路通孔64和吸附孔均連通至抽真空系統(tǒng)，且氣路通孔64直接透過緩沖墊7上設(shè)置的吸附槽71吸附上拋光工件，而吸附孔則直接吸附住緩沖墊7。
[0041]本實施例的下吸式拋光機中，氣路通孔64的底端設(shè)有真空腔8，該真空腔8位于機座9和吸附下盤3之間，連接氣管65是通過該真空腔8與吸附下盤3上開設(shè)的氣路通孔64連通。本實施例中，中心軸6外側(cè)僅開設(shè)一個氣路接口 63，該氣路接口 63通過一連接氣管65與真空腔8連通。吸附下盤3開設(shè)的多個氣路通孔64沿吸附下盤3的中心轉(zhuǎn)軸呈中心對稱分布；真空腔8則被分隔成多個真空子腔81，且這多個真空子腔81呈中心向外圍擴散方式布置，各個真空子腔81相互連通。相應的氣路通孔64下方對接連通真空腔8。
[0042]如圖6所示，本實施例的上吸式拋光機中，緩沖墊7的上方設(shè)置拋光件。吸附槽71設(shè)置有多條，這多條的吸附槽71在緩沖墊7表面呈中心向外圍擴散方式布置。具體的，吸附槽71呈類似“回”字形布置，且每兩條U形的吸附槽71對接后組成同一個回路，位于同一回路的兩條U形的吸附槽之間相互隔斷。相應的氣路通孔64上方對接連通同一回路。本實施例中，緩沖墊采用橡膠墊材料制作。
[0043]整個拋光機的上盤驅(qū)動系統(tǒng)還包括有提升氣缸、傳動機構(gòu)等常規(guī)部件，而下盤驅(qū)動系統(tǒng)5則包括相應的電機、傳動機構(gòu)等部件，上盤驅(qū)動系統(tǒng)和下盤驅(qū)動系統(tǒng)5均安裝于機架I上，且均可由操作面板控制。
[0044]上述本實施例的下吸式拋光機的裝片、取片操作流程與實施例1中的上吸式拋光機基本相同。
【權(quán)利要求】
1.一種改進拋光件吸附方式的拋光機，包括機架、吸附上盤、吸附下盤、上盤驅(qū)動系統(tǒng)、下盤驅(qū)動系統(tǒng)和抽真空系統(tǒng)，上盤驅(qū)動系統(tǒng)包括一中心軸，中心軸的底部與吸附上盤相連接，其特征在于:所述中心軸內(nèi)開設(shè)有封閉式連接氣路，中心軸靠近底部位置設(shè)有一旋轉(zhuǎn)氣路接頭，旋轉(zhuǎn)氣路接頭的內(nèi)端通過封閉式連接氣路與所述抽真空系統(tǒng)相連，旋轉(zhuǎn)氣路接頭的外端設(shè)有多個氣路接口，所述吸附上盤開設(shè)有多個氣路通孔，各氣路接口通過連接氣管與吸附上盤上開設(shè)的氣路通孔的上端連通；所述吸附上盤下方設(shè)有緊貼其下表面的緩沖墊，所述緩沖墊的表面開設(shè)有通透式吸附槽，所述氣路通孔的下端對齊所述吸附槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機，其特征在于:所述多個氣路接口沿所述旋轉(zhuǎn)氣路接頭的中心轉(zhuǎn)軸呈中心對稱分布；所述吸附上盤開設(shè)的多個氣路通孔沿吸附上盤的中心轉(zhuǎn)軸呈中心對稱分布；各連接氣管上設(shè)有通斷閥門。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的拋光機，其特征在于:所述緩沖墊是通過粘結(jié)劑粘合方式或通過真空吸附方式緊貼在吸附上盤的下表面上； 當采用真空吸附方式時，所述吸附上盤上增設(shè)有部分不對準所述吸附槽的吸附孔，所述吸附孔通過連接氣管與所述旋轉(zhuǎn)氣路接頭外端設(shè)置的氣路接口連通。
4.一種改進拋光件吸附方式的拋光機，包括機架、吸附上盤、吸附下盤、上盤驅(qū)動系統(tǒng)、下盤驅(qū)動系統(tǒng)和抽真空系統(tǒng)，下盤驅(qū)動系統(tǒng)包括一中心軸，中心軸的頂部與吸附下盤相連接，其特征在于:所述中心軸內(nèi)開設(shè)有封閉式連接氣路，中心軸靠近底部位置設(shè)有一旋轉(zhuǎn)氣路接頭，旋轉(zhuǎn)氣路接頭的上端與所述封閉式連接氣路的底端相連通，旋轉(zhuǎn)氣路接頭的下端與所述抽真空系統(tǒng)相連，所述封閉式連接氣路上部連通至中心軸外側(cè)開設(shè)的氣路接口，該氣路接口通過連接氣管與吸附下盤上開設(shè)的氣路通孔的底端連通；所述吸附下盤上方設(shè)有緊貼其上表面的緩沖墊，所述緩沖墊的表面開設(shè)有通透式吸附槽，所述氣路通孔的上端對齊所述吸附槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的拋光機，其特征在于:所述氣路通孔的底端設(shè)有真空腔，該真空腔位于機座和吸附下盤之間，所述連接氣管是通過該真空腔與所述吸附下盤上開設(shè)的氣路通孔連通。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的拋光機，其特征在于:所述中心軸外側(cè)僅開設(shè)一個氣路接口，該氣路接口通過一連接氣管與所述真空腔連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的拋光機，其特征在于:所述真空腔被分隔成多個真空子腔，且這多個真空子腔呈中心向外圍擴散方式布置，各個真空子腔之間相互連通。
8.根據(jù)權(quán)利要求1?7中任一項所述的拋光機，其特征在于:所述吸附槽設(shè)置有多條，這多條的吸附槽在緩沖墊表面呈中心向外圍擴散方式布置； 當所述緩沖墊緊貼吸附上盤的下表面設(shè)置時，所述吸附上盤的下表面開設(shè)有與所述吸附槽對齊的非通透式凹槽，所述氣路通孔的下端連通至該非通透式凹槽； 當所述緩沖墊緊貼吸附下盤的上表面設(shè)置時，所述吸附下盤的上表面開設(shè)有與所述吸附槽對齊的非通透式凹槽，所述氣路通孔的上端連通至該非通透式凹槽。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的拋光機，其特征在于:所述吸附槽呈類似“回”字形布置，且每兩條U形的吸附槽對接后組成一個回路，位于同一回路的兩條U形的吸附槽之間相互隔斷。
10.根據(jù)權(quán)利要求1?7中任一項所述的拋光機，其特征在于:所述緩沖墊采用橡膠墊材料制作。
【文檔編號】B24B37/30GK203726328SQ201420100924
【公開日】2014年7月23日 申請日期:2014年3月7日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月7日
【發(fā)明者】汪興, 劉亞彪, 楊會義, 劉仲寧, 周繼國, 李新良 申請人:湖南永創(chuàng)機電設(shè)備有限公司