真空鍍膜用可移動式磁力裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種真空鍍膜用可移動式磁力裝置，包括垂直設置的冷卻基座、貼合安裝在冷卻基座側表面的永磁鐵，所述冷卻基座上設有滑軌，永磁鐵與冷卻基座相貼的側表面具有與滑軌相配的滑槽。本實用新型通過移動永磁鐵位置，可均勻地耗用靶材的各個部分，充分發(fā)揮靶材的最大使用效率，降低成本，確保靶材消耗的均勻性。
【專利說明】真空鍍膜用可移動式磁力裝置【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種真空鍍膜用可移動式磁力裝置。
【背景技術】
[0002]目前行業(yè)內真空鍍膜常用的永磁鐵一般均安裝在冷卻水槽內，位置固定不可移動，由于永磁鐵產生的磁力線轟擊靶材是垂直的，靶材的消耗一般是靶材垂直對應磁場的那部分，而靶材其他部分則不能得到有效利用，造成靶材耗用量大，浪費嚴重。
實用新型內容
[0003]本實用新型要解決的技術問題是:克服現(xiàn)有技術中之不足，提供一種能使靶材得到充分利用、降低成本的真空鍍膜用可移動式磁力裝置。
[0004]本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是:一種真空鍍膜用可移動式磁力裝置，包括垂直設置的冷卻基座、貼合安裝在冷卻基座側表面的永磁鐵，所述冷卻基座上設有滑軌，永磁鐵與冷卻基座相貼的側表面具有與滑軌相配的滑槽。
[0005]進一步地，所述的永磁鐵數(shù)量為兩塊，相距滑動設置在冷卻基座側表面。
[0006]本實用新型的有益效果是:本實用新型通過移動永磁鐵位置，可均勻地耗用靶材的各個部分，充分發(fā)揮靶 材的最大使用效率，降低成本，確保靶材消耗的均勻性。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]下面結合附圖和實施方式對本實用新型進一步說明。
[0008]圖1是本實用新型的截面結構示意圖。
[0009]圖中1.冷卻基座2.永磁鐵3.滑軌4.滑槽5.靶材6.移位裝置【具體實施方式】
[0010]現(xiàn)在結合附圖對本實用新型作進一步的說明。這些附圖均為簡化的示意圖僅以示意方式說明本實用新型的基本結構，因此其僅顯示與本實用新型有關的構成。
[0011]如圖1所示的一種真空鍍膜用可移動式磁力裝置，包括垂直設置冷卻基座1，冷卻基座I側表面貼合安裝有產生磁場的永磁鐵2，永磁鐵2數(shù)量為兩塊，相距滑動設置在冷卻基座I側表面，與永磁鐵2正面相對并相距設置有經永磁鐵2轟擊后產生微粒子的靶材5，對應地,靶材5數(shù)量也為兩個。
[0012]為實現(xiàn)永磁鐵2在冷卻基座I側表面的滑動，所述冷卻基座I上設有滑軌3，永磁鐵2與冷卻基座I相貼的側表面具有與滑軌3相配的滑槽4，通過移位裝置6作用，實現(xiàn)永磁鐵2在冷卻基座I側表面上沿滑軌3滑動。
[0013]冷卻基座I采用銅材制作，具有良好的傳導性，冷卻基座I內部灌裝有循環(huán)的冷卻水，通過冷卻水的不斷循環(huán)來冷卻永磁鐵2，從而保證了永磁鐵2磁性的穩(wěn)定性。
[0014]本實用新型通過移動永磁鐵2位置，可均勻地耗用靶材5的各個部分，充分發(fā)揮靶材5的最大使用效率，降低成本，確保靶材5消耗的均勻性。
[0015] 上述實施方式只為說明本實用新型的技術構思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術的人士能夠了解本實用新型的內容并加以實施，并不能以此限制本實用新型的保護范圍，凡根據本實用新型精神實質所作的等效變化或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍內。
【權利要求】
1.一種真空鍍膜用可移動式磁力裝置，包括垂直設置的冷卻基座(I)、貼合安裝在冷卻基座(I)側表面的永磁鐵(2)，其特征是:所述冷卻基座(I)上設有滑軌(4)，永磁鐵(2)與冷卻基座(I)相貼的側表面具有與滑軌(4)相配的滑槽(5)。
2.根據權利要求1所述的真空鍍膜用可移動式磁力裝置，其特征是:所述的永磁鐵(2)數(shù)量為兩塊，相距滑動設置在冷卻基座(I)側表面。
【文檔編號】C23C14/35GK203419979SQ201320510144
【公開日】2014年2月5日 申請日期:2013年8月20日 優(yōu)先權日:2013年8月20日
【發(fā)明者】馮新偉 申請人:江蘇津通先鋒光電顯示技術有限公司