專利名稱：真空鍍膜系統(tǒng)及其鍍膜方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空鍍膜系統(tǒng)和使用該真空鍍膜系統(tǒng)來對多批基片進(jìn)行鍍膜的鍍膜方法。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有的真空鍍膜系統(tǒng)中，都包括具有鍍膜部、真空室和真空泵的真空鍍膜機(jī)。
當(dāng)使用這種真空鍍膜機(jī)對多批基片進(jìn)行鍍膜時(shí)，在鍍膜前操作員將真空室的室門打開把基片放入真空室中，再關(guān)上室門，然后使用真空泵對真空室進(jìn)行抽吸至真空狀態(tài)，在鍍膜完成后操作員需要把真空室的艙門打開，將鍍膜完成的基片取出，再放入另一批基片并關(guān)上室門，再采用真空泵對真空室進(jìn)行抽吸。
但是在上述過程中，真空泵在工作前，真空室內(nèi)部壓強(qiáng)均為標(biāo)準(zhǔn)大氣壓強(qiáng)，這樣每次采用真空鍍膜機(jī)對一批基片進(jìn)行鍍膜，真空泵都必須對已達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)大氣壓的真空室進(jìn)行抽吸至達(dá)到真空狀態(tài)，非常耗能。發(fā)明內(nèi)容·
鑒于以上問題，本發(fā)明的目的在于提供一種能夠在真空泵開始工作前減小真空室的壓強(qiáng)，起到為真空泵節(jié)省能耗的作用的真空鍍膜系統(tǒng)及鍍膜方法。
本發(fā)明為了達(dá)到以上的目的，采用了以下結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明提供一種真空鍍膜系統(tǒng)，包括具有鍍膜部、真空室以及對該真空室內(nèi)的空氣進(jìn)行抽吸至真空狀態(tài)的真空泵的真空鍍膜機(jī)，其特征在于，還包括:輔助減壓裝置，用于在真空泵工作前，對真空室內(nèi)的空氣進(jìn)行抽吸，與真空室達(dá)到氣壓平衡狀態(tài)；和控制部，用于對真空鍍膜機(jī)和輔助減壓裝置進(jìn)行控制，其中，輔助減壓裝置含有:輔助減壓艙，為密閉腔體，體積與真空室的體積相對應(yīng)；連接管，一端與真空室相連通，另一端與輔助減壓艙相連通；以及閥門，安裝在連接管上，控制部，用于控制真空鍍膜機(jī)工作，和閥門的開啟、關(guān)閉，并基于輔助減壓艙的體積與真空室的體積的對應(yīng)關(guān)系控制真空泵對真空室進(jìn)行抽吸至真空狀態(tài)。
本發(fā)明還提供一種使用上述真空鍍膜系統(tǒng)來對多批基片進(jìn)行鍍膜的鍍膜方法，其特征在于，包括如下步驟:讓操作員將一批基片放入真空室內(nèi)；采用控制部控制真空室的室門關(guān)閉；采用控制部控制閥門開啟，使真空室與輔助減壓艙達(dá)到第一氣壓平衡狀態(tài)；采用控制部控制閥門關(guān)閉；采用控制部控制真空泵對達(dá)到第一氣壓平衡狀態(tài)的真空室內(nèi)的空氣進(jìn)行抽吸至真空狀態(tài)；采用控制部控制鍍膜部對一批基片進(jìn)行鍍膜；在鍍膜完成后，采用控制部控制閥門開啟，使真空室與輔助減壓艙達(dá)到第二氣壓平衡狀態(tài)，減小輔助減壓艙內(nèi)的氣壓；采用控制部控制真空室的室門開啟，并讓操作員取出鍍好膜的一批基片；重復(fù)上述步驟，對其它批次的基片進(jìn)行鍍膜。
發(fā)明的作用與效果
根據(jù)本發(fā)明涉及的真空鍍膜系統(tǒng)和鍍膜方法，因?yàn)檎婵斟兡は到y(tǒng)不僅具有真空鍍膜機(jī)，還具有輔助減壓裝置和控制部，所以控制部能夠控制輔助減壓裝置在真空鍍膜機(jī)中的真空泵工作前利用壓差對真空室內(nèi)的空氣進(jìn)行抽吸，從而能夠減小真空室內(nèi)的氣壓，起到輔助減壓的作用，因此能夠達(dá)到減小真空泵的能耗的目的，并且可以減小整個真空鍍膜系統(tǒng)的能耗。


圖1是本發(fā)明涉及的真空鍍膜系統(tǒng)在實(shí)施例中的結(jié)構(gòu)框圖；和
圖2是本發(fā)明涉及的真空室和輔助減壓裝置在實(shí)施例中的配合圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對本發(fā)明所涉及的真空鍍膜系統(tǒng)的優(yōu)選實(shí)施例做詳細(xì)闡述。
實(shí)施例
圖1是本發(fā)明涉及的真空鍍膜系統(tǒng)在實(shí)施例中的結(jié)構(gòu)框圖。
如圖1所示，真空鍍膜系統(tǒng)10包括真空鍍膜機(jī)11、輔助減壓裝置12以及控制部13。
真空鍍膜機(jī)11具 有鍍膜部11a、真空室Ilb以及真空泵11c。鍍膜部Ila用于對基片進(jìn)行鍍膜，真空室Ilb為基片提供真空環(huán)境，真空泵Ilc用于對真空室Ilb內(nèi)的空氣進(jìn)行抽吸使真空室Ilb至真空狀態(tài)。
圖2是本發(fā)明涉及的真空室和輔助減壓裝置在實(shí)施例中的配合圖。
如圖1、2所示，輔助減壓裝置12用于在真空泵Ilc工作前，對真空室Ilb內(nèi)的空氣進(jìn)行抽吸，與真空室Ilb達(dá)到氣壓平衡狀態(tài)。該輔助減壓裝置12含有:輔助減壓艙12a、連接管12b以及閥門12c。輔助減壓艙12a為密閉腔體，體積與真空室Ilb的體積相對應(yīng)，在本實(shí)施例中，該輔助減壓艙12a的體積與真空室Ilb的體積相等。連接管12b的一端與真空室Ilb相連通，另一端與輔助減壓艙12a相連通。閥門12c安裝在連接管12b上。
控制部13用于對真空鍍膜機(jī)11和輔助減壓裝置12進(jìn)行控制。在本實(shí)施例中，控制部13用于控制真空鍍膜機(jī)11工作，和閥門12c的開啟、關(guān)閉，并基于輔助減壓艙12a的體積與真空室Ilb的體積相等這一對應(yīng)關(guān)系控制真空泵Ilc對真空室Ilb進(jìn)行抽吸至真空狀態(tài)。
下面以對兩批基片進(jìn)行鍍膜為例來說明該真空鍍膜系統(tǒng)的鍍膜方法，一種使用上述真空鍍膜系統(tǒng)來對兩批基片進(jìn)行鍍膜的鍍膜方法，包括如下步驟:
步驟1，讓操作員將第一批基片放入真空室Ilb內(nèi)；
步驟2，采用控制部13控制真空室Ilb的室門關(guān)閉；
步驟3，采用控制部13控制閥門12c開啟，使真空室Ilb與輔助減壓艙12a達(dá)到第一氣壓平衡狀態(tài)；
步驟4，采用控制部13控制閥門12c關(guān)閉；
步驟5，采用控制部13控制真空泵Ilc對達(dá)到第一氣壓平衡狀態(tài)的真空室Ilb內(nèi)的空氣進(jìn)行抽吸至真空狀態(tài)；
步驟6，采用控制部13控制鍍膜部Ila對一批基片進(jìn)行鍍膜；
步驟7，在鍍膜完成后，采用控制部13控制閥門12c開啟，使真空室Ilb與輔助減壓艙12a達(dá)到第二氣壓平衡狀態(tài)，減小輔助減壓艙12a內(nèi)的氣壓；
步驟8，采用控制部13控制真空室Ilb的室門開啟，并讓操作員取出鍍好膜的一批基片;
步驟9，讓操作員將第二批基片放入真空室Ilb內(nèi)；
步驟10，采用控制部13控制真空室Ilb的室門關(guān)閉；
步驟11，采用控制部13控制閥門12c開啟，使真空室Ilb與輔助減壓艙12a達(dá)到第三氣壓平衡狀態(tài)；
步驟12，采用控制部13控制閥門12c關(guān)閉；
步驟13，采用控制部13控制真空泵Ilc對達(dá)到第三氣壓平衡狀態(tài)的真空室Ilb內(nèi)的空氣進(jìn)行抽吸至真空狀態(tài)；
步驟14，采用控制部13控制鍍膜部Ila對第二批基片進(jìn)行鍍膜；
步驟15，在鍍膜完成后，采用控制部13控制閥門12c開啟，使真空室I Ib與輔助減壓艙12a達(dá)到第四氣壓平衡狀態(tài)，減小輔助減壓艙12a內(nèi)的氣壓；
步驟16，采用控制部13控制真空室Ilb的室門開啟，并讓操作員取出鍍好膜的第二批基片，鍍膜完成。
在以上步驟中，由于剛開始時(shí)，真空室Ilb與輔助減壓艙12a內(nèi)的氣壓均為標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，因此在步驟3中的第一氣壓平衡狀態(tài)時(shí)，真空室Ilb與輔助減壓艙12a內(nèi)的氣壓仍為標(biāo)準(zhǔn)大氣壓(即、latm)。在步驟7中，由于真空室Ilb利用兩者的壓差對輔助減壓艙12a進(jìn)行抽吸，因此在第二氣壓平衡狀態(tài)時(shí)，真空室Ilb與輔助減壓艙12a的氣壓為0.5atm，然后閥門12c關(guān)閉輔助減壓艙12a的氣壓一直維持在0.5atm，直到步驟11中閥門12c再次開啟，這時(shí)輔助減壓艙12利用壓差對氣壓為Iatm的真空室Ilb進(jìn)行抽吸，使得真空室Ilb內(nèi)的氣壓降至0.75atm，然后在步驟11中真空泵Ilc就只需對氣壓為0.75atm的真空室Ilb抽真空了，因此，能夠減小真空泵的能耗。
當(dāng)然，本實(shí)施例 涉及的鍍膜方法還可以對三批、十批、二十批等任意多批的基片進(jìn)行鍍膜，而且鍍膜的次數(shù)越多，輔助減壓艙12a內(nèi)的氣壓就越低，這樣在真空泵Ilc工作前輔助減壓艙12a就能夠利用壓差將真空室Ilb內(nèi)的氣壓抽吸到更低，真空泵的能耗就更小，節(jié)能效果越顯著。
實(shí)施例的作用與效果
根據(jù)本實(shí)施例所涉及的真空鍍膜系統(tǒng)，因?yàn)檎婵斟兡は到y(tǒng)不僅具有真空鍍膜機(jī)，還具有輔助減壓裝置和控制部，所以控制部能夠控制輔助減壓裝置在真空鍍膜機(jī)中的真空泵工作前利用壓差對真空室內(nèi)的空氣進(jìn)行抽吸，從而能夠減小真空室內(nèi)的氣壓，起到輔助減壓的作用，因此能夠達(dá)到減小真空泵的能耗的目的，并且可以減小整個真空鍍膜系統(tǒng)的能耗。
此外，由于本發(fā)明涉及的鍍膜方法可以對任意多批的基片進(jìn)行鍍膜，而且鍍膜的次數(shù)越多，輔助減壓艙內(nèi)的氣壓就越低，這樣在真空泵工作前輔助減壓艙就能夠?qū)⒄婵帐覂?nèi)的氣壓抽吸到更低，因此不僅能夠使得真空泵的能耗更小，從而顯著提高真空鍍膜系統(tǒng)的節(jié)能效果，而且減輕了真空泵的工作強(qiáng)度，因而還可以延長真空泵的使用壽命。
當(dāng)然，本發(fā)明所涉及的真空鍍膜系統(tǒng)以及鍍膜方法并不僅僅限定于在本實(shí)施例中的結(jié)構(gòu)。
在本實(shí)施例采用的真空鍍膜系統(tǒng)中，輔助減壓艙的體積與真空室的體積相等，控制部根據(jù)輔助減壓艙的體積與真空室的體積相等這一對應(yīng)關(guān)系控制真空泵對真空室進(jìn)行抽吸至真空狀態(tài)。在本發(fā)明的真空鍍膜系統(tǒng)中，根據(jù)實(shí)際使用或安裝需要，輔助減壓艙的體積與真空室的體積也可以為任意對應(yīng)關(guān)系，控制部也可以根據(jù)不同的對應(yīng)關(guān)系控制真空泵對真空室進(jìn)行抽吸至真空狀態(tài)，因此， 也同樣可行。
權(quán)利要求
1.一種真空鍍膜系統(tǒng)，包括具有鍍膜部、真空室以及對該真空室內(nèi)的空氣進(jìn)行抽吸至真空狀態(tài)的真空泵的真空鍍膜機(jī)，其特征在于，還包括: 輔助減壓裝置，用于在所述真空泵工作前，對所述真空室內(nèi)的空氣進(jìn)行抽吸，與所述真空室達(dá)到氣壓平衡狀態(tài)；和 控制部，用于對所述真空鍍膜機(jī)和所述輔助減壓裝置進(jìn)行控制， 其中，所述輔助減壓裝置含有:輔助減壓艙，為密閉腔體，體積與所述真空室的體積相對應(yīng)；連接管，一端與所述真空室相連通，另一端與所述輔助減壓艙相連通；以及閥門，安裝在所述連接管上， 所述控制部，用于控制所述真空鍍膜機(jī)工作，和所述閥門的開啟、關(guān)閉，并基于所述輔助減壓艙的體積與所述真空室的體積的對應(yīng)關(guān)系控制所述真空泵對所述真空室進(jìn)行抽吸至真空狀態(tài)。
2.一種使用如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜系統(tǒng)來對多批基片進(jìn)行鍍膜的鍍膜方法，其特征在于，包括如下步驟: 讓操作員將一批基片放入所述真空室內(nèi)； 采用所述控制部控制所述真空室的室門關(guān)閉； 采用所述控制部控制所述閥門開啟，使所述真空室與所述輔助減壓艙達(dá)到第一氣壓平衡狀態(tài)； 采用所述控制部控制所述閥門關(guān)閉； 采用所述控制部 控制所述真空泵對達(dá)到第一氣壓平衡狀態(tài)的所述真空室內(nèi)的空氣進(jìn)行抽吸至真空狀態(tài)； 采用所述控制部控制所述鍍膜部對所述一批基片進(jìn)行鍍膜； 在鍍膜完成后，采用所述控制部控制所述閥門開啟，使所述真空室與所述輔助減壓艙達(dá)到第二氣壓平衡狀態(tài)，減小所述輔助減壓艙內(nèi)的氣壓； 采用所述控制部控制所述真空室的室門開啟，并讓操作員取出鍍好膜的一批基片； 重復(fù)上述步驟，對其它批次的基片進(jìn)行鍍膜。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠在真空泵開始工作前減小真空室的壓強(qiáng)，起到為真空泵節(jié)省能耗的作用的真空鍍膜系統(tǒng)及鍍膜方法。本發(fā)明的真空鍍膜系統(tǒng)，包括具有鍍膜部、真空室以及真空泵的真空鍍膜機(jī)，其特征在于，還包括輔助減壓裝置，用于在真空泵工作前，對真空室內(nèi)的空氣進(jìn)行抽吸，與真空室達(dá)到氣壓平衡狀態(tài)；和控制部，用于對真空鍍膜機(jī)和輔助減壓裝置進(jìn)行控制，其中，輔助減壓裝置含有輔助減壓艙，為密閉腔體，體積與真空室的體積相對應(yīng)；連接管，一端與真空室相連通，另一端與輔助減壓艙相連通；以及閥門，安裝在連接管上，控制部，用于控制真空鍍膜機(jī)工作，和閥門的開啟、關(guān)閉，并控制真空泵對真空室進(jìn)行抽吸至真空狀態(tài)。
文檔編號C23C14/56GK103147060SQ20131010685
公開日2013年6月12日 申請日期2013年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月29日
發(fā)明者仲梁維, 叢鳳杰 申請人:上海理工大學(xué)