專利名稱：掃描陰極及掃描濺射設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種真空鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種用于太陽(yáng)能電池板及OLED中的基板鍍膜用的磁控濺射陰極及磁控濺射設(shè)備。
背景技術(shù)：
隨著經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展、科學(xué)技術(shù)的不斷提高及自然資源的日益緊缺，促使企業(yè)加大投資研發(fā)力度以便能開發(fā)出新的節(jié)能產(chǎn)品，而薄膜太陽(yáng)能電池就是諸多節(jié)能產(chǎn)品中的一種。其中，在薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)過程中，會(huì)涉及到成千上萬(wàn)道工序，而薄膜太陽(yáng)能電池板的鍍膜就是諸多工序中的一種。目前，對(duì)薄膜太陽(yáng)能電池板進(jìn)行鍍膜的常用方法為磁控濺射鍍膜，它是利用電子在電場(chǎng)的作用下，使電子在飛向待鍍膜的薄膜太陽(yáng)能電池板過程中與真空腔體內(nèi)的氬原子發(fā)生碰撞，使氬原子電離產(chǎn)生出氬正離子和新的電子；新電子在電場(chǎng)的作用下飛向待鍍膜的薄膜太陽(yáng)能電池板，氬離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶材處，并以高能量轟擊靶材的表面，使靶材發(fā)生濺射，產(chǎn)生濺射粒子；而在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在待鍍膜的薄膜太陽(yáng)能電池板上形成薄膜出來，從而完成薄膜太陽(yáng)能電池板的鍍膜過程，因此，磁控濺射鍍膜是薄膜太陽(yáng)能電池板的重要組成部分。但是，現(xiàn)有的應(yīng)用于磁控濺射鍍膜的磁控濺射設(shè)備對(duì)靶材刻蝕的區(qū)域面積小，從而使得靶材的利用率低，相應(yīng)地增加了靶材的使用數(shù)量及靶材的更換次數(shù)，從而增加了磁控濺射鍍膜的成本。同樣,在其它行業(yè)中，比如OLED(英文全稱為0rganic Light-Emitting Diode,中文名稱為有機(jī)發(fā)光二極管文)及液晶電視的制造中所涉及到的都是類似的。因 此，急需要一種提高靶材刻蝕區(qū)域面積以提高靶材的利用率而降低鍍膜成本的掃描陰極及掃描濺射設(shè)備來克服上述的缺陷。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型之一目的在于提供一種能提高靶材刻蝕區(qū)域的面積以提高靶材的利用率而降低鍍膜成本的掃描陰極。本實(shí)用新型之另一目的在于提供一種能提高靶材刻蝕區(qū)域的面積以提高靶材的利用率而降低鍍膜成本的掃描濺射設(shè)備。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供了一種掃描陰極，設(shè)于真空腔體上并對(duì)真空腔體內(nèi)的靶材進(jìn)行磁控掃描，其中，本實(shí)用新型的掃描陰極包括位于真空腔體外的磁性部件及驅(qū)動(dòng)器，磁性部件與靶材相對(duì)應(yīng)，驅(qū)動(dòng)器驅(qū)使磁性部件在真空腔體外做平面的活動(dòng)而對(duì)靶材進(jìn)行平面的磁性掃描。較佳地，本實(shí)用新型的掃描陰極還包括連接于磁性部件及驅(qū)動(dòng)器之間的中間傳動(dòng)組件，中間傳動(dòng)組件包括與驅(qū)動(dòng)器的輸出端相平行并樞接于真空腔體外的絲桿、套于絲桿上并與絲桿嚙合傳動(dòng)的絲母及連接于絲桿和驅(qū)動(dòng)器之輸出端的中間傳送部件，絲母固定于磁性部件上。較佳地，中間傳送部件為安裝在驅(qū)動(dòng)器的輸出端上的主動(dòng)輪、安裝在絲桿上的從動(dòng)輪及套于主動(dòng)輪及從動(dòng)輪上的傳送件；或者中間傳送部件為安裝在驅(qū)動(dòng)器的輸出端上的主動(dòng)齒輪及安裝在絲桿上并與主動(dòng)齒輪嚙合傳動(dòng)的從動(dòng)齒輪。較佳地，本實(shí)用新型的掃描陰極還包括相互配合的導(dǎo)向桿及導(dǎo)向套，導(dǎo)向桿安裝在真空腔體外并與絲桿相平行，導(dǎo)向套安裝在磁性部件上并套于導(dǎo)向桿上。較佳地，真空腔體具有與外界冷卻系統(tǒng)相連通的循環(huán)通道，循環(huán)通道位于磁性部件與靶材之間，且循環(huán)通道與靶材相對(duì)應(yīng)。較佳地，真空腔體內(nèi)設(shè)置有一密封金屬板，且真空腔體開設(shè)有貫穿該真空腔體面對(duì)靶材的一側(cè)的循環(huán)通槽，密封金屬板密封循環(huán)通槽面對(duì)靶材的一側(cè)并形成出循環(huán)通道，靶材緊貼密封金屬板。較佳地,靶材面對(duì)磁性部件的磁力集中區(qū)處對(duì)應(yīng)地設(shè)置有一凸臺(tái)。本實(shí)用新型的掃描濺射設(shè)備適用對(duì)基板進(jìn)行真空濺射鍍膜，包括真空腔體、控制器及掃描陰極?？刂破髟O(shè)置于真空腔體外，真空腔體內(nèi)設(shè)置有靶材；掃描陰極包含位于真空腔體外的磁性部件及驅(qū)動(dòng)器，磁性部件與靶材相對(duì)應(yīng)，驅(qū)動(dòng)器與控制器電性連接，驅(qū)動(dòng)器驅(qū)使磁性部件在真空腔體外做平面的活動(dòng)而對(duì)靶材進(jìn)行平面的磁性掃描。較佳地，掃描陰極還包括連接于磁性部件及驅(qū)動(dòng)器之間的中間傳動(dòng)組件，中間傳動(dòng)組件包括與驅(qū)動(dòng)器的輸出端相平行并樞接于真空腔體外的絲桿、套于絲桿上并與絲桿嚙合的絲母及連接于絲桿和驅(qū)動(dòng)器之輸出端的中間傳送部件，絲母固定于磁性部件上。較佳地，中間傳送部件為安裝在驅(qū)動(dòng)器的輸出端上的主動(dòng)輪、安裝在絲桿上的從動(dòng)輪及套于主動(dòng)輪及從動(dòng)輪上的傳送件；或者中間傳送部件為安裝在驅(qū)動(dòng)器的輸出端上的主動(dòng)齒輪及安裝在絲桿上 并與主動(dòng)齒輪嚙合傳動(dòng)的從動(dòng)齒輪。較佳地，掃描陰極還包括相互配合的導(dǎo)向桿及導(dǎo)向套，導(dǎo)向桿安裝在真空腔體外并與絲桿相平行，導(dǎo)向套安裝在磁性部件上并套于導(dǎo)向桿上。較佳地，真空腔體具有與外界冷卻系統(tǒng)相連通的循環(huán)通道，循環(huán)通道位于磁性部件與靶材之間，且循環(huán)通道與靶材相對(duì)應(yīng)。較佳地，真空腔體內(nèi)設(shè)置有一密封金屬板，且真空腔體開設(shè)有貫穿該真空腔體面對(duì)靶材的一側(cè)的循環(huán)通槽，密封金屬板密封循環(huán)通槽面對(duì)靶材的一側(cè)并形成出循環(huán)通道，靶材緊貼密封金屬板。較佳地，靶材面對(duì)磁性部件的磁力集中區(qū)處對(duì)應(yīng)地設(shè)置有一凸臺(tái)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于本實(shí)用新型的驅(qū)動(dòng)器驅(qū)使磁性部件在真空腔體外做平面的活動(dòng)而對(duì)靶材進(jìn)行平面的磁性掃描，一方面增加了靶材的磁性掃描區(qū)域的面積，另一方面使得靶材各處的磁場(chǎng)強(qiáng)度因磁性部件的移動(dòng)而呈周期性的變化過程，因而使得靶材的刻蝕更均勻且增加靶材刻蝕區(qū)域的面積，從而提高了靶材的利用率以減少靶材的更換次數(shù)和使用數(shù)量而降低鍍膜成本。同時(shí)，由于本實(shí)用新型的驅(qū)動(dòng)器及磁性部件是位于真空腔體外的，一方面便于驅(qū)動(dòng)器及磁性部件的檢修維護(hù)，另一方面能防止磁控濺射鍍膜過程中離子轟擊靶材所產(chǎn)生的熱量導(dǎo)致磁性部件因高溫而消磁，從而使得磁性部件能更可靠地工作。由于本實(shí)用新型的掃描濺射設(shè)備具有本實(shí)用新型掃描陰極，故本實(shí)用新型的掃描濺射設(shè)備能提高靶材刻蝕區(qū)域的面積以提高靶材的利用率而降低鍍膜成本。
圖1是本實(shí)用新型掃描濺射設(shè)備的立體結(jié)構(gòu)圖。圖2是圖1中A部分的放大圖。圖3及圖4是本實(shí)用新型掃描濺射設(shè)備的工作原理圖。圖5是本實(shí)用新型掃描濺射設(shè)備中靶材的一局部平面圖。圖6是本實(shí)用新型掃描濺射設(shè)備中靶材的另一局部平面圖。圖7是靶材被現(xiàn)有的磁控濺射設(shè)備所刻蝕后的狀態(tài)示意圖。圖8是被本實(shí)用新型的掃描濺射設(shè)備所刻蝕后的狀態(tài)示意圖。
具體實(shí)施方式
為了詳細(xì)說明本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征，以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖作進(jìn)一步說明。請(qǐng)參閱圖1及圖2，本實(shí)用新型的掃描濺射設(shè)備100用于對(duì)基板200 (見圖3)進(jìn)行真空濺射鍍膜，其包括真空腔體10、控制器20及掃描陰極30。控制器20設(shè)置于真空腔體10外，具體地，在本實(shí)施例中，真空腔體10是向外延伸出兩相對(duì)應(yīng)的側(cè)板15，兩側(cè)板15較優(yōu)是呈相互平行的設(shè)置以便于外界物件的安裝布局，而控制器20是安裝在兩側(cè)板15的頂部上，以便于控制器20的安裝及布局，且控制器20為電氣控制類的控制器。同時(shí)，真空腔體10內(nèi)設(shè)置有靶材11，較優(yōu)地，靶材11是呈板狀結(jié)構(gòu)，且靶材11設(shè)置有一凸臺(tái)111 (見圖5及圖6)，該凸臺(tái)111是面對(duì)下述提到的磁性部件31的磁力集中區(qū)，以確保靶材11各處最終刻蝕的厚度接近一致以進(jìn)一步地提高靶材11的利用率。而掃描陰極30包含位于真空腔體10外的磁性部件31及驅(qū)動(dòng)器32，磁性部件31與靶材11相對(duì)應(yīng)，具體地，在本實(shí)施例中，驅(qū)動(dòng)器32是安裝在上述提到的兩側(cè)板15上以便于驅(qū)動(dòng)器32的安裝及布局，而磁性部件31是位于兩側(cè)板15之間以便于磁性部件31的移動(dòng)掃描；且驅(qū)動(dòng)器32與控制器20電性連接，與控制器20電性連接的驅(qū)動(dòng)器32驅(qū)使磁性部件31在真空腔體10外做平面的活動(dòng)而對(duì)靶材11進(jìn)行平面的磁性掃描，較優(yōu)是，在本實(shí)施例中，驅(qū)動(dòng)器32是驅(qū)使磁性部件31在真空腔體10外做平面的移動(dòng)而實(shí)現(xiàn)對(duì)靶材11的磁性掃描，以減少對(duì)空間的占有量，當(dāng)然，在其它實(shí)施例中，驅(qū)動(dòng)器32可以去驅(qū)使磁性部件31做平面的旋轉(zhuǎn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)靶材11的磁性掃描的目的，而磁性部件31的磁性排列方式較優(yōu)是中間為N極，兩側(cè)為S極以滿足工藝要求，N極被夾于兩S極之間，狀態(tài)如圖3及圖4所示。其中，為了使靶材11的冷卻效果更好，并能避免受電子轟擊靶材11久后不斷發(fā)熱導(dǎo)致磁性部件31的消磁而影響鍍膜工藝的穩(wěn)定性，故真空腔體10具有與外界冷卻系統(tǒng)相連通的循環(huán)通道12，循環(huán)通道12位于磁性部件31與靶材11之間，且循環(huán)通道12與靶材11相對(duì)應(yīng)；具體地，真空腔體10內(nèi)設(shè)置有一密封金屬板13，密封金屬板13較優(yōu)為銅板以獲得更好的導(dǎo)熱性及穩(wěn)定性，且真空腔體10開設(shè)有貫穿該真空腔體10面對(duì)靶材11的一側(cè)的循環(huán)通槽14，密封金屬板13密封循環(huán)通槽14面對(duì)靶材11的一側(cè)并形成出上面提及的循環(huán)通道12，靶材11緊貼密封金屬板13，以更好地將靶材11的熱量導(dǎo)走的同時(shí)，還便于循環(huán)通道12的加工及制造；為了便于基板200在真空腔體10內(nèi)傳輸，故真空腔體10內(nèi)還設(shè)置有用于傳輸基板200的傳動(dòng)輪16。更具體地,如下[0034]較優(yōu)者，掃描陰極30還包括連接于磁性部件31及驅(qū)動(dòng)器32之間的中間傳動(dòng)組件33，中間傳動(dòng)組件33包括與驅(qū)動(dòng)器32的輸出端相平行并樞接于真空腔體10外的絲桿331(具體是絲桿331樞接于兩側(cè)板15上)、套于絲桿331上并與絲桿331嚙合的絲母332及連接于絲桿331和驅(qū)動(dòng)器32之輸出端的中間傳送部件333，絲母332固定于磁性部件31上；較優(yōu)是，驅(qū)動(dòng)器32為一電機(jī)以簡(jiǎn)化驅(qū)動(dòng)器32的結(jié)構(gòu)，并使得驅(qū)動(dòng)器32通過中間傳動(dòng)組件33能更精準(zhǔn)及更可靠地驅(qū)使磁性部件31在真空腔體10外(具體是兩側(cè)板15之間)做往復(fù)的磁性掃描以增加靶材11的刻蝕區(qū)域(即是圖6中雙點(diǎn)劃線所圍成的區(qū)域)。具體地，中間傳送部件333為安裝在驅(qū)動(dòng)器32的輸出端上的主動(dòng)輪333a、安裝在絲桿331上的從動(dòng)輪333b及套于主動(dòng)輪333a及從動(dòng)輪333b上的傳送件333c，以將驅(qū)動(dòng)器32的轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)化為磁性部件31的往復(fù)移動(dòng)；較優(yōu)是，主動(dòng)輪333a及從動(dòng)輪333b均為帶輪，對(duì)應(yīng)地，傳送件333c為傳動(dòng)帶，以使得中間傳送部件333的傳動(dòng)更平穩(wěn)；更優(yōu)是，主動(dòng)輪333a及從動(dòng)輪333b均為同步帶輪，對(duì)應(yīng)地，傳送件333c為同步帶，以使得中間傳送部件333傳送更平穩(wěn)和精準(zhǔn)；當(dāng)然，在其它實(shí)施例中，主動(dòng)輪333a及從動(dòng)輪333b均為鏈輪，對(duì)應(yīng)地，傳送件333c為一鏈條，以使中間傳送部件333能適應(yīng)于比較惡劣的場(chǎng)合中?；蛘?，中間傳送部件333還可以為安裝在驅(qū)動(dòng)器32的輸出端上的主動(dòng)齒輪及安裝在絲桿331上并與主動(dòng)齒輪嚙合傳動(dòng)的從動(dòng)齒輪，以適應(yīng)于近距離的傳送場(chǎng)合中。其中，為使得磁性部件31在真空腔體10外的移動(dòng)更平穩(wěn)可靠，故掃描陰極30還包括相互配合的導(dǎo)向桿34及導(dǎo)向套35，導(dǎo)向桿34安裝在真空腔體10外(具體是安裝在上述提及的兩側(cè)板15上)并與絲桿331相平行，導(dǎo)向套35安裝在磁性部件31上并套于導(dǎo)向桿34上；具體地，導(dǎo)向桿34是位于絲桿331的兩側(cè)，以使得導(dǎo)向桿34為磁性部件31提供的導(dǎo)向更精準(zhǔn)可靠。結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型的掃描濺射設(shè)備的工作原理進(jìn)行說明工作時(shí)，控制器20控制磁性部件31在真空 腔體10外做往復(fù)的移動(dòng)，如圖3和圖4中磁性部件31處箭頭所指的方向移動(dòng)，往復(fù)移動(dòng)的磁性部件31控制真空腔體10內(nèi)電場(chǎng)中的電子運(yùn)動(dòng)軌跡在靶材11表面的寬度方向左右橫向掃描，被束縛在靠近靶材11表面的等離子體在磁性部件11的磁場(chǎng)的作用下隨此掃描軌跡圍繞靶材11表面作圓周運(yùn)動(dòng)，電子在電場(chǎng)的作用下飛向基板200的過程中與真空腔體10內(nèi)的IS原子發(fā)生碰撞，電尚出大量的気尚子和新的電子,新的電子飛向基板200過程中不斷和氬原子碰撞，產(chǎn)生更多的氬離子和新的電子，而氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材11，濺射出大量的靶材11原子，使呈中性的靶原子(或分子)沉積在基板200上淀積成膜，實(shí)現(xiàn)基板200的鍍膜；而被磁性部件31掃描部分的靶材11的表面則會(huì)均勻的被刻蝕出如圖8所示的狀態(tài)。其中，在基板200的濺射鍍膜過程中，氬離子和電子的作動(dòng)方向如圖3和圖4所示；并由圖7和圖8可得知，被現(xiàn)有的磁控濺射設(shè)備所刻蝕出來的靶材11的中間部分是浪費(fèi)掉的，而被本實(shí)用新型掃描濺射設(shè)備100所刻蝕出的靶材11的中間部分基本不存在著浪費(fèi)的，故被本實(shí)用新型掃描濺射設(shè)備100所刻蝕出的靶材11要比現(xiàn)有的磁控濺射設(shè)備所刻蝕出來的靶材11更均勻，利用率更好，并是現(xiàn)有的磁控濺射設(shè)備對(duì)靶材11利用率的二倍以上。與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于本實(shí)用新型的驅(qū)動(dòng)器32驅(qū)使磁性部件31在真空腔體10外做平面的活動(dòng)而對(duì)靶材11進(jìn)行平面的磁性掃描，一方面增加了靶材11的磁性掃描區(qū)域的面積，另一方面使得靶材11各處的磁場(chǎng)強(qiáng)度因磁性部件31的移動(dòng)而呈周期性的變化過程，因而使得靶材11的刻蝕更均勻且增加靶材11刻蝕區(qū)域的面積，從而提高了靶材11的利用率以減少靶材11的更換次數(shù)和使用數(shù)量而降低鍍膜成本。同時(shí)，由于本實(shí)用新型的驅(qū)動(dòng)器32及磁性部件31是位于真空腔體10外的，一方面便于驅(qū)動(dòng)器32及磁性部件31的檢修維護(hù)，另一方面能防止磁控濺射鍍膜過程中離子轟擊靶材11所產(chǎn)生的熱量導(dǎo)致磁性部件31因高溫而消磁，從而使得磁性部件31能更可靠地工作。由于本實(shí)用新型的掃描濺射設(shè)備100具有本實(shí)用新型掃描陰極30，故本實(shí)用新型的掃描濺射設(shè)備100能提高靶材11刻蝕區(qū)域的面積以提高靶材11的利用率而降低鍍膜成本。以上所揭露的僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)例而已， 當(dāng)然不能以此來限定本實(shí)用新型之權(quán)利范圍，因此依本實(shí)用新型權(quán)利要求所作的等同變化，仍屬于本實(shí)用新型所涵蓋的范圍。
權(quán)利要求1.一種掃描陰極，設(shè)于真空腔體上并對(duì)真空腔體內(nèi)的靶材進(jìn)行磁控掃描，其特征在于，所述掃描陰極包括位于所述真空腔體外的磁性部件及驅(qū)動(dòng)器，所述磁性部件與所述靶材相對(duì)應(yīng)，所述驅(qū)動(dòng)器驅(qū)使所述磁性部件在所述真空腔體外做平面的活動(dòng)而對(duì)所述靶材進(jìn)行平面的磁性掃描。
2.如權(quán)利要求1所述的掃描陰極，其特征在于，還包括連接于所述磁性部件及驅(qū)動(dòng)器之間的中間傳動(dòng)組件，所述中間傳動(dòng)組件包括與所述驅(qū)動(dòng)器的輸出端相平行并樞接于所述真空腔體外的絲桿、套于所述絲桿上并與所述絲桿嚙合傳動(dòng)的絲母及連接于所述絲桿和所述驅(qū)動(dòng)器之輸出端的中間傳送部件，所述絲母固定于所述磁性部件上。
3.如權(quán)利要求2所述的掃描陰極，其特征在于，所述中間傳送部件為安裝在所述驅(qū)動(dòng)器的輸出端上的主動(dòng)輪、安裝在所述絲桿上的從動(dòng)輪及套于所述主動(dòng)輪及從動(dòng)輪上的傳送件；或者所述中間傳送部件為安裝在所述驅(qū)動(dòng)器的輸出端上的主動(dòng)齒輪及安裝在所述絲桿上并與所述主動(dòng)齒輪嚙合傳動(dòng)的從動(dòng)齒輪。
4.如權(quán)利要求2所述的掃描陰極，其特征在于，還包括相互配合的導(dǎo)向桿及導(dǎo)向套，所述導(dǎo)向桿安裝在所述真空腔體外并與所述絲桿相平行，所述導(dǎo)向套安裝在所述磁性部件上并套于所述導(dǎo)向桿上。
5.如權(quán)利要求1所述的掃描陰極，其特征在于，所述真空腔體具有與外界冷卻系統(tǒng)相連通的循環(huán)通道，所述循環(huán)通道位于所述磁性部件與所述靶材之間，且所述循環(huán)通道與所述靶材相對(duì)應(yīng)。
6.如權(quán)利要求5所述的掃描陰極，其特征在于，所述真空腔體內(nèi)設(shè)置有一密封金屬板，且所述真空腔體開設(shè)有貫穿該真空腔體面對(duì)所述靶材的一側(cè)的循環(huán)通槽，所述密封金屬板密封所述循環(huán)通槽面對(duì)所述靶材的一側(cè)并形成出所述循環(huán)通道，所述靶材緊貼所述密封金屬板。
7.如權(quán)利要求1所述的掃描陰極，其特征在于，所述靶材面對(duì)所述磁性部件的磁力集中區(qū)處對(duì)應(yīng)地設(shè)置有一凸臺(tái)。
8.一種掃描濺射設(shè)備，適用對(duì)基板進(jìn)行真空濺射鍍膜，其特征在于，所述掃描濺射設(shè)備包括真空腔體、控制器及掃描陰極，所述控制器設(shè)置于所述真空腔體外，所述真空腔體內(nèi)設(shè)置有靶材，所述掃描陰極包含位于所述真空腔體外的磁性部件及驅(qū)動(dòng)器，所述磁性部件與所述靶材相對(duì)應(yīng)，所述驅(qū)動(dòng)器與所述控制器電性連接，所述驅(qū)動(dòng)器驅(qū)使所述磁性部件在所述真空腔體外做平面的活動(dòng)而對(duì)所述靶材進(jìn)行平面的磁性掃描。
9.如權(quán)利要求8所述的掃描濺射設(shè)備，其特征在于，所述掃描陰極還包括連接于所述磁性部件及驅(qū)動(dòng)器之間的中間傳動(dòng)組件，所述中間傳動(dòng)組件包括與所述驅(qū)動(dòng)器的輸出端相平行并樞接于所述真空腔體外的絲桿、套于所述絲桿上并與所述絲桿嚙合傳動(dòng)的絲母及連接于所述絲桿和所述驅(qū)動(dòng)器之輸出端的中間傳送部件，所述絲母固定于所述磁性部件上。
10.如權(quán)利要求9所述的掃描濺射設(shè)備，其特征在于，所述中間傳送部件為安裝在所述驅(qū)動(dòng)器的輸出端上的主動(dòng)輪、安裝在所述絲桿上的從動(dòng)輪及套于所述主動(dòng)輪及從動(dòng)輪上的傳送件；或者所述中間傳送部件為安裝在所述驅(qū)動(dòng)器的輸出端上的主動(dòng)齒輪及安裝在所述絲桿上并與所述主動(dòng)齒輪嚙合傳動(dòng)的從動(dòng)齒輪。
11.如權(quán)利要求9所述的掃描濺射設(shè)備，其特征在于，所述掃描陰極還包括相互配合的導(dǎo)向桿及導(dǎo)向套，所述導(dǎo)向桿安裝在所述真空腔體外并與所述絲桿相平行，所述導(dǎo)向套安裝在所述磁性部件上并套于所述導(dǎo)向桿上。
12.如權(quán)利要求8所述的掃描濺射設(shè)備，其特征在于，所述真空腔體具有與外界冷卻系統(tǒng)相連通的循環(huán)通道，所述循環(huán)通道位于所述磁性部件與所述靶材之間，且所述循環(huán)通道與所述靶材相對(duì)應(yīng)。
13.如權(quán)利要求12所述的掃描濺射設(shè)備，其特征在于，所述真空腔體內(nèi)設(shè)置有一密封金屬板，且所述真空腔體開設(shè)有貫穿該真空腔體面對(duì)所述靶材的一側(cè)的循環(huán)通槽，所述密封金屬板密封所述循環(huán)通槽面對(duì)所述靶材的一側(cè)并形成出所述循環(huán)通道，所述靶材緊貼所述密封金屬板。
14.如權(quán)利要求8所述的掃描濺射設(shè)備，其特征在于，所述靶材面對(duì)所述磁性部件的磁力集中區(qū)處對(duì)應(yīng)地設(shè)置有一凸臺(tái)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種掃描陰極，設(shè)于真空腔體上并對(duì)真空腔體內(nèi)的靶材進(jìn)行磁控掃描，其中，本實(shí)用新型的掃描陰極包括位于真空腔體外的磁性部件及驅(qū)動(dòng)器，磁性部件與靶材相對(duì)應(yīng)，驅(qū)動(dòng)器驅(qū)使磁性部件在真空腔體外做平面的活動(dòng)而對(duì)靶材進(jìn)行平面的磁性掃描。本實(shí)用新型的掃描陰極能提高靶材刻蝕區(qū)域的面積以提高靶材的利用率而降低鍍膜成本。另，本實(shí)用新型還公開一種掃描濺射設(shè)備。
文檔編號(hào)C23C14/35GK202865324SQ201220547040
公開日2013年4月10日 申請(qǐng)日期2012年10月23日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月23日
發(fā)明者范振華, 劉國(guó)利 申請(qǐng)人:東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司