專利名稱：一種濕法刻蝕槽支架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉 及太陽(yáng)能電池制作工藝技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，涉及一種濕法刻蝕槽支架。
背景技術(shù)：
太陽(yáng)能電池是人們利用太陽(yáng)能的一種主要方式，其主要部件是太陽(yáng)能電池片。太陽(yáng)能電池片是由硅片經(jīng)過(guò)表面制絨、擴(kuò)散制結(jié)、刻蝕、沉積減反射膜、印刷電極等工藝過(guò)程制備而成。其中，刻蝕工藝是太陽(yáng)能電池片制造過(guò)程中的一個(gè)重要工序，目的是去除硅片下表面及四個(gè)側(cè)面的PN結(jié)，以達(dá)到上下表面絕緣的目的，同時(shí)去除下表面及四個(gè)側(cè)面的磷硅
玻璃層。當(dāng)前太陽(yáng)能電池制造時(shí)常用的一種刻蝕方法是濕法刻蝕，通過(guò)化學(xué)試劑腐蝕掉硅片下表面及四個(gè)側(cè)面的PN結(jié)及磷硅玻璃層。濕法刻蝕工藝是在濕法刻蝕槽內(nèi)進(jìn)行，所述濕法刻蝕槽內(nèi)一側(cè)設(shè)置有多個(gè)等間距、平行分布的轉(zhuǎn)動(dòng)軸，每個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)軸上固定有一個(gè)滾軸(roller),所述滾軸(roller)可與所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸同步轉(zhuǎn)動(dòng),所述滾軸(roller)通過(guò)支架進(jìn)行支撐。所述支架上設(shè)置有多個(gè)圓弧形卡槽，所述卡槽用于承載所述滾軸(roller)。參考圖I-圖3，現(xiàn)有的濕法刻蝕槽支架是在一個(gè)長(zhǎng)方體形狀的耐腐蝕性支架I上設(shè)置有多個(gè)用于裝載上述滾軸(roller)的卡槽2，為了避免所述滾軸(roller)在轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中發(fā)生向上浮動(dòng)，或上下跳動(dòng)跳出其所在卡槽，所述卡槽2的口部有相應(yīng)的收口設(shè)計(jì)，及所述卡槽2的口部?jī)蛇叺木嚯x略小于所述卡槽2最大的水平間距，如圖I中卡槽2開口處實(shí)線與最近鄰虛線間位置關(guān)系所示。在進(jìn)行濕法刻蝕時(shí)，每個(gè)卡槽2內(nèi)承載有一個(gè)上述滾軸(roller),滾軸(roller)通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)軸與外部電機(jī)帶動(dòng)的齒輪箱連接，所有滾軸(roller)在所述齒輪箱的帶動(dòng)下能夠同步轉(zhuǎn)動(dòng)。將娃片鋪設(shè)在所述滾軸(roller)上方,娃片與滾軸接觸,在電機(jī)的帶動(dòng)下,所述滾軸(roller)在對(duì)應(yīng)的卡槽內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng),娃片隨著滾軸(roller)的轉(zhuǎn)動(dòng)在水平方向上運(yùn)動(dòng)。滾軸(roller)是在刻蝕槽內(nèi)化學(xué)試劑的液面下,通過(guò)調(diào)節(jié)所述滾軸(roller)與液面的位置高度，使硅片的下表面及四個(gè)側(cè)面浸泡在所述化學(xué)試劑內(nèi)。通過(guò)對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的描述可知，現(xiàn)有的濕法刻蝕槽支架是通過(guò)對(duì)卡槽進(jìn)行收口設(shè)計(jì)防止卡槽內(nèi)的滾軸(roller)發(fā)生因浸在化學(xué)試劑中向上浮動(dòng)和上下跳動(dòng)。參考圖4，在生產(chǎn)過(guò)程中，滾軸(roller)3的一部分是露出對(duì)應(yīng)卡槽2的，露出部分在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)與卡槽2的口部發(fā)生摩擦，對(duì)卡槽2的口部造成磨損；同時(shí)在滾軸(roller) 3拆卸、安裝過(guò)程中也會(huì)對(duì)卡槽2的口部造成磨損。當(dāng)卡槽2的口部磨損后,對(duì)滾軸(roller)3的控制作用減弱，滾軸(roller) 3在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)向上浮動(dòng)和上下跳動(dòng)幅度變大，甚至?xí)鰧?duì)應(yīng)的卡槽2，從而導(dǎo)致硅片在滾輪上方時(shí)運(yùn)行不平穩(wěn)，影響硅片刻蝕效果。

實(shí)用新型內(nèi)容為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種濕法刻蝕槽支架，該濕法刻蝕槽支架能夠有效控制滾軸(roller)的向上浮動(dòng)和上下跳動(dòng)，從而保證了硅片刻蝕效果。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案一種濕法刻蝕槽支架，該支架包括耐腐蝕性底座，所述耐腐蝕性底座上設(shè)置有多個(gè)等間距分布的圓弧形卡槽；設(shè)置在每個(gè)卡槽上方的弧形耐腐蝕性卡槽蓋，所述弧形卡槽蓋與所述卡槽形狀相匹配，二者組成一個(gè)圓形通孔；設(shè)置在每個(gè)卡槽蓋上方的耐腐蝕性擋板，所述擋板與所述底座連接，用于固定所述卡槽蓋；其中，所述擋板設(shè)置有定位調(diào)節(jié)螺孔，通過(guò)與所述調(diào)節(jié)螺孔相匹配的耐腐蝕性螺絲調(diào)節(jié)所述卡槽蓋的高度。優(yōu)選的，上述支架中，所述擋板通過(guò)耐腐蝕性螺絲與所述底座連接。優(yōu)選的，上述支架中，所述耐腐蝕性底座為聚偏氟乙烯底座或聚丙烯底座。優(yōu)選的，上述支架中，所述耐腐蝕性卡槽蓋為聚偏氟乙烯卡槽蓋或聚丙烯卡槽蓋。優(yōu)選的，上述支架中，所述耐腐蝕性擋板為聚偏氟乙烯擋板或聚丙烯擋板。優(yōu)選的，上述支架中，所述耐腐蝕性螺絲為聚偏氟乙烯螺絲或聚丙烯螺絲。從上述技術(shù)方案可以看出，本實(shí)用新型所提供的濕法刻蝕槽支架包括耐腐蝕性底座，所述支架底座上設(shè)置有多個(gè)等間距分布的卡槽；設(shè)置在每個(gè)卡槽上方的弧形耐腐蝕性卡槽蓋，所述弧形卡槽蓋與所述卡槽形狀相匹配，二者組成一個(gè)圓形通孔；設(shè)置在每個(gè)卡槽蓋上方的耐腐蝕性擋板，所述擋板與所述底座連接，用于固定所述卡槽蓋；其中，所述擋板設(shè)置有定位調(diào)節(jié)螺孔，通過(guò)與所述調(diào)節(jié)螺孔相匹配的耐腐蝕性性螺絲調(diào)節(jié)所述卡槽蓋的高度。在進(jìn)行濕法刻蝕時(shí)通過(guò)所述卡槽承載所述滾軸(roller)，通過(guò)所述卡槽蓋防止所述滾軸(roller)發(fā)生大幅度的向上浮動(dòng)和上下跳動(dòng)，在所述卡槽及卡槽蓋磨損時(shí)，可通過(guò)設(shè)置在所述定位調(diào)節(jié)螺孔內(nèi)的螺絲降低所述卡槽蓋的高度，減小所述滾軸(roller)向上浮動(dòng)和上下跳動(dòng)的空間，避免所述滾軸(roller)發(fā)生大幅度的上下跳動(dòng)，從而保證了硅片在滾輪上穩(wěn)定運(yùn)行，進(jìn)而保證了硅片刻蝕效果。

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖I為現(xiàn)有技術(shù)中常見的一種濕法刻蝕槽支架的俯視圖；圖2為圖I中所示支架的正視圖；圖3為圖I中所示支架的側(cè)視圖；圖4為現(xiàn)有技術(shù)中滾軸(roller)與對(duì)應(yīng)卡槽的位置關(guān)系示意圖；圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例所述濕法刻蝕槽支架的底座的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例所述濕法刻蝕槽支架的卡槽蓋的俯視圖；圖7為圖6中所示卡槽蓋的正視圖；圖8為圖6中所示卡槽蓋的側(cè)視圖；[0029]圖9為本實(shí)用新型實(shí)施例所述濕法刻蝕槽支架的擋板的俯視圖；圖10為本實(shí)用新型實(shí)施例所述濕法刻蝕槽支架的擋板的主視圖；圖11為本實(shí)用新型實(shí)施例所述濕法刻蝕槽支架中一個(gè)卡槽與對(duì)應(yīng)卡槽蓋、擋板及滾軸(roller)的位置關(guān)系示意圖。
具體實(shí)施方式
正如背景技術(shù)部分所述，現(xiàn)有的濕法刻蝕槽支架通過(guò)對(duì)卡槽進(jìn)行收口設(shè)計(jì)防止卡槽內(nèi)的滾軸(roller)發(fā)生向上浮動(dòng)和上下跳動(dòng)。如圖4所示，在生產(chǎn)過(guò)程中，滾軸(roller) 3的一部分是露出對(duì)應(yīng)卡槽2的，露出部分在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)與卡槽2的口部發(fā)生摩擦， 對(duì)卡槽2的口部造成磨損；同時(shí)在滾軸(roller) 3拆卸、安裝過(guò)程中也會(huì)對(duì)卡槽2的口部 造成磨損。當(dāng)卡槽2的口部磨損后,對(duì)滾軸(roller) 3的控制作用減弱，滾軸(roller)3在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)向上浮動(dòng)和上下跳動(dòng)幅度變大，甚至?xí)鰧?duì)應(yīng)的卡槽2，從而導(dǎo)致硅片在滾軸(roller)上方時(shí)運(yùn)行不平穩(wěn)，影響硅片刻蝕效果。發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn)，可以通過(guò)為每個(gè)卡槽設(shè)置與之相匹配的卡槽蓋用于控制對(duì)應(yīng)滾軸(roller)的向上浮動(dòng)和上下跳動(dòng)的幅度，如此可以避免滾軸(roller)在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)發(fā)生大幅度的上下跳動(dòng)，從而保證了硅片刻蝕的效果。基于上述研究，本實(shí)用新型提供了一種濕法刻蝕槽支架，該支架包括耐腐蝕性底座，所述耐腐蝕性底座上設(shè)置有多個(gè)等間距分布的弧形卡槽；設(shè)置在每個(gè)卡槽上方的弧形耐腐蝕性卡槽蓋，所述弧形卡槽蓋與所述卡槽形狀相匹配，二者組成一個(gè)圓形通孔；設(shè)置在每個(gè)卡槽蓋上方的耐腐蝕性擋板，所述擋板與所述底座連接，用于固定所述卡槽蓋；其中，所述擋板設(shè)置有定位調(diào)節(jié)螺孔，通過(guò)與所述調(diào)節(jié)螺孔相匹配的耐腐蝕性螺絲調(diào)節(jié)所述卡槽蓋的高度。在進(jìn)行濕法刻蝕時(shí)通過(guò)所述卡槽承載所述滾軸(roller)，通過(guò)所述卡槽蓋防止所述滾軸(roller)發(fā)生大幅度的上下跳動(dòng)，在所述卡槽及卡槽蓋磨損時(shí)，可通過(guò)設(shè)置在所述定位調(diào)節(jié)螺孔內(nèi)的螺絲降低所述卡槽蓋的高度，減小所述滾軸(roller)上下跳動(dòng)的空間，避免所述滾軸(roller)發(fā)生大幅度的上下跳動(dòng)，從而保證了硅片在滾軸(roller)上穩(wěn)定運(yùn)行，進(jìn)而保證了硅片刻蝕效果。以上是本申請(qǐng)的核心思想，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本實(shí)用新型，但是本實(shí)用新型還可以采用其他不同于在此描述的其它方式來(lái)實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本實(shí)用新型內(nèi)涵的情況下做類似推廣，因此本實(shí)用新型不受下面公開的具體實(shí)施例的限制。其次，本實(shí)用新型結(jié)合示意圖進(jìn)行詳細(xì)描述，在詳述本實(shí)用新型實(shí)施例時(shí)，為便于說(shuō)明，表示裝置件結(jié)構(gòu)的剖面圖會(huì)不依一般比例作局部放大，而且所述示意圖只是示例，其在此不應(yīng)限制本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。此外，在實(shí)際制作中應(yīng)包含長(zhǎng)度、寬度及高度的三維空間尺寸。下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種濕法刻蝕槽支架，包括設(shè)置有多個(gè)圓弧形卡槽的耐腐蝕性底座，在進(jìn)行濕法刻蝕時(shí)，所述卡槽用于承載滾軸(roller)。由于濕法刻蝕工藝是在強(qiáng)腐蝕性的化學(xué)試劑中進(jìn)行的，所以所述底座應(yīng)選耐腐蝕性好的底座。高分子合成材料 聚偏氟乙烯與聚丙烯具有較好的耐腐蝕性，所以，優(yōu)選的，所述底座為聚偏氟乙烯底座或聚丙烯底座。參考圖5，圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例所述濕法刻蝕槽支架的底座的結(jié)構(gòu)示意圖。在一個(gè)長(zhǎng)方形耐腐平板4上設(shè)置有多個(gè)卡槽5，所述卡槽5為弧形結(jié)構(gòu)，用于承載滾軸(roller),其間距根據(jù)濕法刻蝕工藝需求的滾軸(roller)之間的距離設(shè)定。在每個(gè)卡槽5的兩邊對(duì)稱分布有兩個(gè)固定螺孔6。為了避免在進(jìn)行濕法刻蝕時(shí)卡槽內(nèi)的滾軸(roller)發(fā)生大幅度的跳動(dòng)，所述卡槽可采用與現(xiàn)有技術(shù)相同的收口設(shè)計(jì)。同時(shí)，為了避免由于卡槽口部磨損后對(duì)其內(nèi)承載的滾軸(roller)的束縛力的減弱，為每一個(gè)卡槽設(shè)置一個(gè)與之相匹配的弧形耐腐蝕性卡槽蓋，所述卡槽蓋與所述卡槽二者可組成一個(gè)圓形通孔，所述卡槽蓋的結(jié)構(gòu)參考圖6-圖8。同上述，所述卡槽蓋為聚偏氟乙烯卡槽蓋或聚丙烯卡槽蓋。具體的，可通過(guò)設(shè)置在每個(gè)卡槽蓋上方的耐腐蝕性擋板對(duì)對(duì)應(yīng)的卡槽蓋進(jìn)行固定。所述擋板結(jié)構(gòu)如圖9-圖10所示，在所述擋板7上設(shè)置有固定螺孔8和固定螺孔9，所述固定螺孔8和固定螺孔9與對(duì)應(yīng)卡槽兩邊的兩個(gè)固定螺孔一一對(duì)應(yīng)。在進(jìn)行濕法刻蝕時(shí)，在每個(gè)卡槽2上方放置一個(gè)卡槽蓋，通過(guò)所述擋板將所述卡槽蓋固定。具體的，通過(guò)與所述固定螺孔相匹配的耐腐蝕性螺絲將擋板7上的固定螺孔8和固定螺孔9與卡槽5兩邊對(duì)應(yīng)的固定螺孔6連接固定，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)卡槽蓋的固定。同時(shí)，所述擋板7的正中間設(shè)置有定位調(diào)節(jié)螺孔10，所述調(diào)節(jié)螺孔10內(nèi)設(shè)置有與之相匹配的耐腐蝕性螺絲，該螺絲用于調(diào)節(jié)對(duì)應(yīng)卡槽蓋的高度。參考圖11，圖11為本本實(shí)用新型實(shí)施例所述濕法刻蝕槽支架中一個(gè)卡槽與對(duì)應(yīng)卡槽蓋、擋板及滾軸(roller)的位置關(guān)系示意圖。在底座4上的一個(gè)卡槽5內(nèi)承載有一個(gè)滾軸(roller) 3，在卡槽5的左右兩邊對(duì)稱設(shè)置有兩個(gè)固定螺孔6，在卡槽5的上方放置有用于限制所述滾軸(roller)3上下跳動(dòng)幅度的卡槽蓋11，在所述卡槽蓋11上方設(shè)置有擋板7。其中，所述擋板7上設(shè)置有與所述卡槽5左右兩邊的兩個(gè)固定螺孔6相對(duì)應(yīng)固定螺孔8和固定螺孔9，所述固定螺孔8與固定螺孔9分別通過(guò)螺絲12與螺絲13與底座4上對(duì)應(yīng)的固定螺孔連接固定，所述螺絲12與螺絲13之間的水平間距等于所述卡槽蓋11的最大水平寬度，進(jìn)而可對(duì)所述卡槽蓋11進(jìn)行固定，防止其左右移動(dòng)；同時(shí)，所述擋板7的正中央設(shè)置有定位調(diào)節(jié)螺孔10，可通過(guò)調(diào)節(jié)所述定位調(diào)節(jié)螺孔10內(nèi)的螺絲14調(diào)節(jié)所述卡槽蓋11的高度。[0052]在進(jìn)行濕法刻蝕時(shí)，所述卡槽5通過(guò)收口設(shè)計(jì)對(duì)滾軸(roller) 3的上下跳動(dòng)幅度進(jìn)行限制 ，同時(shí)所述卡槽蓋11也限制滾軸(roller)3的上下跳動(dòng)的幅度，從而保證滾軸(roller) 3的上下跳動(dòng)幅度在允許的跳動(dòng)幅度內(nèi)。當(dāng)卡槽3的開口及卡槽蓋11的內(nèi)壁在滾軸(roller) 3長(zhǎng)期的轉(zhuǎn)動(dòng)摩擦下導(dǎo)致卡槽3與對(duì)應(yīng)卡槽蓋11組成的圓孔形狀變大(這里主要指圓孔在豎直方向上的尺寸變大)，會(huì)造成滾軸(roller) 3的上下跳動(dòng)幅度增加，此時(shí)可通過(guò)調(diào)節(jié)螺絲14調(diào)節(jié)卡槽蓋11的高度，即通過(guò)調(diào)節(jié)螺絲14，使得卡槽蓋11的高度變小，從而是得所述圓孔在豎直方向上的尺寸變小，進(jìn)而減小滾軸(roller) 3的上下跳動(dòng)幅度，從而保證硅片在與所述滾軸(roller)同步轉(zhuǎn)動(dòng)的滾輪上的運(yùn)行平穩(wěn)，進(jìn)而保證了刻蝕效果。正如前面所述，濕法刻蝕是在強(qiáng)腐蝕性的化學(xué)試劑中進(jìn)行的，為了避免所述支架被腐蝕損壞，本實(shí)施例所述支架的各部件包括螺絲在內(nèi)均由耐腐蝕性材料制備而成，所述耐腐性材料優(yōu)選為高分子合成材料聚偏氟乙烯與聚丙烯。通過(guò)上述描述可知,本實(shí)用新型實(shí)施例所述濕法刻蝕槽支架能夠有效控制卡槽內(nèi)滾軸(roller)的上下跳動(dòng)幅度，從而保證硅片的平穩(wěn)運(yùn)行，進(jìn)而保證了硅片的刻蝕效果，保證了產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量。對(duì)所公開的實(shí)施例的上述說(shuō)明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實(shí)用新型。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本實(shí)用新型將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
權(quán)利要求1.一種濕法刻蝕槽支架，其特征在于，包括 耐腐蝕性底座，所述耐腐蝕性底座上設(shè)置有多個(gè)等間距分布的圓弧形卡槽； 設(shè)置在每個(gè)卡槽上方的弧形耐腐蝕性卡槽蓋，所述弧形卡槽蓋與所述卡槽形狀相匹配，二者組成ー個(gè)圓形通孔； 設(shè)置在每個(gè)卡槽蓋上方的耐腐蝕性擋板，所述擋板與所述底座連接，用于固定所述卡槽蓋； 其中，所述擋板設(shè)置有定位調(diào)節(jié)螺孔，通過(guò)與所述調(diào)節(jié)螺孔相匹配的耐腐蝕性螺絲調(diào)節(jié)所述卡槽蓋的高度。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的支架，其特征在于，所述擋板通過(guò)耐腐蝕性螺絲與所述底座連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的支架，其特征在于，所述耐腐蝕性底座為聚偏氟こ烯底座或聚丙烯底座。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的支架，其特征在于，所述耐腐蝕性卡槽蓋為聚偏氟こ烯卡槽蓋或聚丙烯卡槽蓋。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的支架，其特征在于，所述耐腐蝕性擋板為聚偏氟こ烯擋板或聚丙烯擋板。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的支架，其特征在于，所述耐腐蝕性螺絲為聚偏氟こ烯螺絲或聚丙烯螺絲。
專利摘要本實(shí)用新型實(shí)施例公開了一種濕法刻蝕槽支架，包括耐腐蝕性底座，所述支架底座上設(shè)置有多個(gè)等間距分布的卡槽；設(shè)置在每個(gè)卡槽上方的弧形耐腐蝕性卡槽蓋，所述弧形卡槽蓋與所述卡槽形狀相匹配，二者組成一個(gè)圓形通孔；設(shè)置在每個(gè)卡槽蓋上方的耐腐蝕性擋板，所述擋板與所述底座連接，用于固定所述卡槽蓋；其中，所述擋板設(shè)置有定位調(diào)節(jié)螺孔，通過(guò)與所述調(diào)節(jié)螺孔相匹配的耐腐蝕性性螺絲調(diào)節(jié)所述卡槽蓋的高度。通過(guò)所述卡槽蓋防止所述滾軸(roller)發(fā)生大幅度的上下跳動(dòng)，在所述卡槽及卡槽蓋磨損時(shí)，可通過(guò)設(shè)置在所述定位調(diào)節(jié)螺孔內(nèi)的螺絲降低所述卡槽蓋的高度，進(jìn)而限制所述滾軸(roller)上下跳動(dòng)的幅度，保證了硅片的穩(wěn)定運(yùn)行，從而保證了硅片刻蝕效果。
文檔編號(hào)C23F1/08GK202415689SQ201120574790
公開日2012年9月5日 申請(qǐng)日期2011年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月31日
發(fā)明者任艷慶, 張占, 李龍, 王志國(guó), 馬宏力 申請(qǐng)人:保定天威英利新能源有限公司