專利名稱：Tft玻璃基板磨邊機(jī)下排水槽裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及ー種排水槽裝置，具體涉及ー種TFT磨邊機(jī)下排水槽排水裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)，TFT磨邊機(jī)內(nèi)部的水通過(guò)流水孔流到其下邊的排水槽內(nèi)，排水槽再與外界其它設(shè)備相連，對(duì)排出的水進(jìn)行處理和利用。如圖I和圖2所示，TFT磨邊機(jī)下排水槽I內(nèi)有ー檔板2，排水槽I 一側(cè)面設(shè)置排水管道連接孔4，擋板2上有一 U型小槽3，U型小槽3底到排水槽I底板的距離H為120mm，排水槽內(nèi) 的水通過(guò)此U型槽流到排水管道。檔板2是用來(lái)防止研磨機(jī)內(nèi)的污垢和垃圾流到排水槽，從排水槽進(jìn)入下一個(gè)エ序?qū)ο漏`個(gè)エ序造成不良影響，故加一檔板進(jìn)行過(guò)濾和緩沖。而此U型小槽開(kāi)的深度過(guò)淺不利于研磨機(jī)排水槽內(nèi)的水排走，這樣ー來(lái)就會(huì)有很多水積在水槽內(nèi)排不出去，需要用大量的水進(jìn)行循環(huán)沖洗才能沖洗干凈，會(huì)浪費(fèi)大量水資源，違背了節(jié)能消耗原則，同時(shí)當(dāng)研磨機(jī)水槽內(nèi)有污垢和垃圾時(shí)不便于清理。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的問(wèn)題時(shí)提供ー種TFT磨邊機(jī)下排水槽裝置，其便于排水槽內(nèi)的水排出，方便清理槽內(nèi)的污垢和垃圾。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為ー種TFT磨邊機(jī)下排水槽裝置，包括排水槽和位于槽內(nèi)的擋板，所述擋板上開(kāi)有U型槽，所述U型槽底部與排水槽底板的距離10-20mm，所述U型槽上設(shè)置有濾網(wǎng)。作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選方案，所述U型槽底部與排水槽底板的距離為15mm。本實(shí)用新型TFT磨邊機(jī)下排水槽內(nèi)有ー檔板，擋板上有U型小槽，小曹開(kāi)的更深些，其底部靠近排水槽底板，并增加ー個(gè)濾網(wǎng)，這樣既有利于研磨機(jī)排水槽內(nèi)的水順利流到排水管，清理槽內(nèi)污垢和垃圾時(shí)只需去掉濾網(wǎng)，簡(jiǎn)單方便。

圖I現(xiàn)有技術(shù)結(jié)構(gòu)示意圖。圖2現(xiàn)有技術(shù)A向視圖。圖3本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖3所示，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖，ー種TFT磨邊機(jī)下排水槽裝置，包括排水5槽和位于槽內(nèi)的擋板6，排水槽5 —側(cè)面設(shè)置有排水管道連接孔7，擋板6上開(kāi)有U型槽8, U型槽8底部與排水槽底板的距離h為10-20mm,可以為10 mm、I 2 mm、15 mm、20mm,即10-20mm之間任何值，U型槽8上設(shè)置有濾網(wǎng)9。本實(shí)用新型擋板既能起到污水緩沖作用，清理時(shí)去掉濾網(wǎng)又方便于污垢的清理，用少量的水就能清理干凈，又能起到節(jié)能消耗的作用 。
權(quán)利要求1.一種TFT玻璃基板磨邊機(jī)下排水槽裝置，包括排水槽和位于槽內(nèi)的擋板，所述擋板上開(kāi)有U型槽，其特征在于所述U型槽底部與排水槽底板的距離為10-20mm，所述U型槽上設(shè)置有濾網(wǎng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的TFT玻璃基板磨邊機(jī)下排水槽裝置，其特征在于所述U型槽底部與排水槽底板的距離為15mm。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種TFT玻璃基板磨邊機(jī)下排水槽裝置，具體涉及一種TFT磨邊機(jī)下排水槽排水裝置，包括排水槽和位于槽內(nèi)的擋板，所述擋板上開(kāi)有U型槽，所述U型槽底部與排水槽底板的距離為10-20mm，所述U型槽上設(shè)置有濾網(wǎng)。本實(shí)用新型TFT磨邊機(jī)下排水槽內(nèi)有一檔板，擋板上有U型小槽，小曹開(kāi)的更深些，其底部靠近排水槽底板，并增加一個(gè)濾網(wǎng)，這樣既有利于研磨機(jī)排水槽內(nèi)的水順利流到排水管，清理槽內(nèi)污垢和垃圾時(shí)只需去掉濾網(wǎng)，簡(jiǎn)單方便。
文檔編號(hào)B24B9/00GK202377885SQ20112050233
公開(kāi)日2012年8月15日 申請(qǐng)日期2011年12月6日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月6日
發(fā)明者付冬偉, 張建軍, 楊忠杰, 王俊明, 郭靜勝, 馬巖, 高軍召, 龔國(guó)強(qiáng) 申請(qǐng)人:東旭集團(tuán)有限公司, 鄭州旭飛光電科技有限公司