專利名稱：輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及ー種化學(xué)浴沉積設(shè)備，尤其是ー種涉及利用高低連綿起伏的基板傳送方式，使藥液可均勻地覆蓋于基板上，進(jìn)而使基板上形成具有薄膜厚度均一性良好的化學(xué)浴沉積設(shè)備。
背景技術(shù)：
現(xiàn)今電子エ業(yè)迅速發(fā)展，許多電子產(chǎn)品都需要應(yīng)用到物理沉積技術(shù)或化學(xué)沉積技木。另外全世界面臨石油能源耗竭、成本高昂及環(huán)保等問題，造成太陽(yáng)能與氫能源燃料電池的需求與日俱增，由于太陽(yáng)能電池制造時(shí)，必須在一基材上構(gòu)成多種沉積層(薄膜)，才能有效的發(fā)揮其功能，足見沉積制程為電子產(chǎn)業(yè)及民生產(chǎn)業(yè)ー個(gè)極為要的關(guān)鍵技木?，F(xiàn)有的化學(xué)浴沉積(Chemical Bath Deposition, CBD)制程及其設(shè)備為沉積技術(shù) 之一，其將表面預(yù)作處理的一基材(例如單、多晶硅基板、非晶硅基板等)浸入化學(xué)藥液中持續(xù)一定時(shí)間，在該基材表面沉積形成半導(dǎo)體薄膜。但現(xiàn)有的化學(xué)浴沉積設(shè)備，將基材完全浸入化學(xué)藥液之中，如此將導(dǎo)致該基材雙面都成膜，然而該基材實(shí)際應(yīng)用上只需要其中一面已足，多余部分形同資源的浪費(fèi)，并導(dǎo)致制造成本増加。圖I為現(xiàn)有技術(shù)的化學(xué)浴沉積設(shè)備的示意圖?；瘜W(xué)浴沉積設(shè)備包含有輸送單元20及熱水浴槽30，輸送單元20用于傳送藥液盒40，其中輸送單元20由多個(gè)輸送滾輪201組成，該藥液盒40由基板401及藥液蓋403組裝密合而成，藥液盒40并注入有可覆蓋于基板401上的藥液50，如此基板401只有一面受到藥液50的覆蓋。熱水浴槽30內(nèi)具有熱水浴301，熱水浴301具有液面3011，而輸送滾輪201則設(shè)置于該熱水浴301液面3011之下，輸送滾輪201在傳送藥液盒40吋，藥液盒40的部份會(huì)浸泡于熱水浴301中，由于在藥液盒40內(nèi)的藥液50在傳送過程中受到熱水浴301的加熱作用，進(jìn)而促使藥液50進(jìn)行化學(xué)沉積作用。然而現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)在于薄膜沉積厚度不均勻的問題，其因?yàn)楫?dāng)藥液注入于藥液盒時(shí)，藥液無法均勻地分散于基板上，如果要讓基板上各處都被藥液覆蓋，必須增加更多的藥液量，但藥液量増加會(huì)導(dǎo)致基板形變甚至破裂，因此本實(shí)用新型提供一種在不增加藥液量的情形下，可使藥液可均勻分布于基板上的化學(xué)浴沉積設(shè)備，進(jìn)而提升薄膜厚度的均一性。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備，其中利用高低連綿起伏的基板傳送方式，使藥液可均勻地覆蓋于基板上，進(jìn)而使基板上形成具有薄膜厚度均一性良好的化學(xué)浴沉積設(shè)備。為達(dá)上述目的，本實(shí)用新型的具體技術(shù)手段包含有一傳送單元及一盛放有溶液的浴槽，該傳送単元設(shè)置于浴槽中用以傳送ー藥液盒，該藥液盒由一基板及一藥液蓋組裝密合而成，該藥液盒注入一藥液以使藥液覆蓋于該基板上，其中該傳送単元由多個(gè)輸送滾輪組成，該多個(gè)輸送滾輪的配置低于該溶液的液面并以高低連綿起伏的排列方式而配置。藉由上述設(shè)備，本實(shí)用新型可有效解決現(xiàn)有技術(shù)的缺失，并提升薄膜沉積的均一性。

圖I為現(xiàn)有技術(shù)的化學(xué)浴沉積設(shè)備的示意圖；圖2為本實(shí)用新型的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備的側(cè)面示意圖；圖3為本實(shí)用新型的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備的藥液盒傳送示意圖；圖4為本實(shí)用新型的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備的第一實(shí)施例示意圖；以及圖5為本實(shí)用新型的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備的第二實(shí)施例示意圖。
具體實(shí)施方式
以下配合說明書附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施方式做更詳細(xì)的說明，以使本領(lǐng)域技術(shù)人員在研讀本說明書后能據(jù)以實(shí)施。參考圖2，圖2為本實(shí)用新型的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備的側(cè)面示意圖。本實(shí)用新型的化學(xué)浴沉積設(shè)備I主要用于在制作太陽(yáng)能電池的基板上沉積至少ー層薄膜，利用輸送滾輪31高低起伏的排列方式來傳送基板，使基板上的藥液可均勻地且持續(xù)性的動(dòng)態(tài)性的擴(kuò)散以覆蓋于基板的各處上，使薄膜可以均勻地于成長(zhǎng)于基板表面上而提升薄膜厚度的均一性。參考圖3，圖3為本實(shí)用新型的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備的藥液盒傳送示意圖。該輸送起伏型的化學(xué)浴沉積設(shè)備I至少包含有一傳送單元3及一浴槽5，該傳送単元3設(shè)置于該浴槽5中，該傳送単元3用于傳送一藥液盒7，該藥液盒7至少由一基板71及ー藥液蓋73組裝密合而成，其中該基板71為非晶娃基板、單晶娃基板、多晶娃基板、微晶娃基板或神化鎵基板的至少其中之一。該基板71具有一上表面711，該藥液盒7供ー藥液2注入其中，以使該藥液2可覆蓋于該基板71的上表面711，其中該傳送単元3由多個(gè)輸送滾輪31組成。要注意的是，上述本實(shí)用新型所述的藥液盒7只是用以方便說明的實(shí)例而已，并不是用以限定本實(shí)用新型的范圍，亦即所有能與基板構(gòu)組成一固定密合的結(jié)構(gòu)體都落在本實(shí)用新型的范圍之內(nèi)。該浴槽5可以是ー密閉槽體，盛放有一溶液，此溶液在此可為一溫度高于室溫的熱水浴51，也可視制程需要置換為溫度低于室溫的熱水浴51。所述輸送滾輪31設(shè)置于該熱水浴51的液面511之下，其中該浴槽5具有一內(nèi)壁面53及一外壁面55，其中在該內(nèi)壁面53及該外壁面55之間進(jìn)ー步設(shè)置一保溫材8藉以防止該浴槽5內(nèi)的熱水浴51溫度有變化過劇的情形。亦可在內(nèi)壁面53及外壁面55之間設(shè)置一加熱器或冷卻器(圖未顯示)以調(diào)節(jié)浴槽的溫度。其中本實(shí)用新型的特征在于所述輸送滾輪31以高低起伏的排列方式而配置于該熱水浴51之中，亦即將所述輸送滾輪31位于該浴槽5的前側(cè)部分先配置成逐漸下降的方式，然后再將所述輸送滾輪31配置成逐漸上升的方式，并以上述方式交替地以漸升漸降的方式往后繼續(xù)配置，其配置密度及漸升漸降的行進(jìn)的長(zhǎng)度實(shí)際需求而定。當(dāng)然也可以將所述輸送滾輪31位于該浴槽5的前側(cè)部分先配置成逐漸上升的方式，而接續(xù)于其后的所述輸送滾輪31配置成逐漸下降的方式，并以上述方式交替地以漸升漸降的方式往后繼續(xù)配置。參考圖4，圖4為本實(shí)用新型的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備的第一實(shí)施例示意圖。其中本實(shí)用新型可進(jìn)ー步包含有多個(gè)傳動(dòng)軸33，所述傳動(dòng)軸33分別穿設(shè)于所述輸送滾輪31之中，且所述傳動(dòng)軸33之中的任相鄰兩傳動(dòng)軸33的各軸心間的水平高度皆具有一落差，其中所述傳動(dòng)軸33的排列方式可以配置成逐漸上升再逐漸下降的方式，并根據(jù)上述的排列方式做交替性的配置，或者也可配置成先逐漸下降再逐漸上升的方式。其中更包含有多個(gè)支撐座組35，所述支撐座組35可分別架設(shè)有所述傳動(dòng)軸33，其中為使所述輸送滾輪31整體可以呈現(xiàn)高低起伏狀，可使用多種高低尺寸不同的所述支撐座35，并依照所述支撐座組35的尺寸由高漸至低、再由低漸至高的排列方式往后做交替的配置，當(dāng)然支撐座組35尺寸也可先從低漸至高、再?gòu)母邼u至低的排列方式往后做交替的配置，透過上述方式的配置，可令所述輸送滾輪31整體可以呈現(xiàn)高低起伏狀。 其中每ー支撐座組35皆具有一開ロ對(duì)351，該開ロ對(duì)351供一傳動(dòng)軸33的兩端放置，其中可令所述支撐座組35中各自該開ロ對(duì)351的設(shè)置高度不同，再依照所述支撐座組35中各自該開ロ對(duì)351的設(shè)置高度由高漸至低、再由低漸至高的排列方式往后做交替的配置，當(dāng)然所述支撐座組35中各自該開ロ對(duì)351的設(shè)置高度也可先從低漸至高、再?gòu)母邼u至低的排列方式往后做交替的配置，透過上述方式的配置，亦可使所述輸送滾輪31整體可以呈現(xiàn)高低起伏狀。參考圖5，圖5為本實(shí)用新型的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備的第二實(shí)施例示意圖。其中更包含有多個(gè)尺寸一致的傳動(dòng)軸33分別穿設(shè)于該多個(gè)輸送滾輪31內(nèi)，且該多個(gè)輸送滾輪31的任兩相鄰的輸送滾輪31的直徑不相等，依照所述輸送滾輪31的直徑由大漸至小，再由小漸到大往后做交替的配置，當(dāng)然也可依照所述輸送滾輪31的直徑由小漸至大、再由大漸至小的排列方式往后做交替的配置，透過上述方式的配置，皆可使所述輸送滾輪31整體可以呈現(xiàn)高低起伏狀。將所述輸送滾輪31以高低連綿起伏的排列方式而配置于該熱水浴51之中的方式，與現(xiàn)有技術(shù)相比，可避免僅以平行方向進(jìn)行傳送所導(dǎo)致薄膜厚度不均的情形。如圖2至圖4所示，當(dāng)藥液盒7在所述輸送滾輪31上傳送吋，該藥液盒7將隨著所述輸送滾輪31進(jìn)行漸升及漸降的行進(jìn)方式，使得該藥液2將會(huì)被輪流交替的被導(dǎo)向于該基板71上表面711的各側(cè)處，使得基板71的上表面711的各處均可完全地被該藥液2覆蓋，以保有適當(dāng)?shù)姆磻?yīng)時(shí)間進(jìn)行ー薄膜9的沉積，使得最后沉積于基板71上該薄膜9厚度得以均一化，以利后續(xù)制程的處理。以上所述僅為用以解釋本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并非企圖據(jù)以對(duì)本實(shí)用新型做任何形式上的限制，因此，凡有在相同的創(chuàng)作精神下所作有關(guān)本實(shí)用新型的任何修飾或變更，皆仍應(yīng)包括在本實(shí)用新型意圖保護(hù)的范疇。
權(quán)利要求1.一種輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備，其特征在于，包含有 一浴槽，用以盛放有一溶液；以及 一傳送單元，具有多個(gè)輸送滾輪，設(shè)置于該浴槽中用以傳送一藥液盒，其中，該多個(gè)輸送滾輪以高低起伏的排列方式而配置。
2.如權(quán)利要求I所述的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備，其特征在于，該多個(gè)輸送滾輪的配置低于該溶液的液面。
3.如權(quán)利要求I所述的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備，其特征在于，該熱水浴槽具有一內(nèi)壁面及一外壁面，在該內(nèi)壁面及該外壁面之間進(jìn)ー步設(shè)置一保溫材。
4.如權(quán)利要求I所述的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備，其特征在于，更包含有多個(gè)傳動(dòng)軸分別穿設(shè)于該多個(gè)輸送滾輪內(nèi)，該多個(gè)傳動(dòng)軸的任兩相鄰傳動(dòng)軸的各軸心間的水平高度具有一落差，用以配置成逐漸上升再逐漸下降的交替排列。
5.如權(quán)利要求I所述的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備，其特征在于，更包含有多個(gè)傳動(dòng)軸分別穿設(shè)于該多個(gè)輸送滾輪內(nèi)，該多個(gè)傳動(dòng)軸之中的相鄰兩傳動(dòng)軸的各軸心間的水平高度具有一落差，用以配置成逐漸下降再逐漸上升的交替排列。
6.如權(quán)利要求4或5所述的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備，其特征在干，更包含有多個(gè)支撐座組，該多個(gè)支撐座組用以分別架設(shè)該多個(gè)傳動(dòng)軸。
7.如權(quán)利要求I所述的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備，其特征在于，更包含有多個(gè)尺寸一致的傳動(dòng)軸分別穿設(shè)于該多個(gè)輸送滾輪內(nèi)，且該多個(gè)輸送滾輪的任兩相鄰的輸送滾輪的直徑不相等，并配置成依照該多個(gè)輸送滾輪的直徑由大至小，再由小到大的交替排列。
8.如權(quán)利要求I所述的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備，其特征在于，更包含有多個(gè)尺寸一致的傳動(dòng)軸分別穿設(shè)于該多個(gè)輸送滾輪內(nèi)，且該多個(gè)輸送滾輪的任兩相鄰的輸送滾輪的直徑不相等，并配置成依照該多個(gè)輸送滾輪的直徑由小至大，再由大到小的交替排列。
9.如權(quán)利要求I所述的輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備，其特征在于，該浴槽具有一內(nèi)壁面及一外壁面，在該內(nèi)壁面及該外壁面之間進(jìn)ー步設(shè)置一加熱器或冷卻器，用以調(diào)節(jié)該浴槽的溫度。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備，一種輸送起伏式的化學(xué)浴沉積設(shè)備，其特征在于，包含有一浴槽，用以盛放有一溶液；以及一傳送單元，具有多個(gè)輸送滾輪，設(shè)置于該浴槽中用以傳送一藥液盒，其中，該多個(gè)輸送滾輪以高低起伏的排列方式而配置其主要用于在制作太陽(yáng)能電池的基板上沉積至少一層薄膜，其中本實(shí)用新型的化學(xué)浴沉積設(shè)備利用高低起伏的基板傳送方式，使藥液可均勻地?cái)U(kuò)散并覆蓋于基板的各處上，以使薄膜可以全面且均勻地于成長(zhǎng)于基板上，進(jìn)而提升薄膜厚度的均一性。
文檔編號(hào)C23C18/00GK202465875SQ20112035936
公開日2012年10月3日 申請(qǐng)日期2011年9月23日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月23日
發(fā)明者李玟澄, 游柏清, 藍(lán)受龍 申請(qǐng)人:亞智科技股份有限公司