專利名稱：液體輸送系統(tǒng)和化學(xué)機(jī)械研磨裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種應(yīng)用于化學(xué)機(jī)械研磨的液體輸送 系統(tǒng)和包括液體輸送系統(tǒng)的化學(xué)機(jī)械研磨裝置。
背景技術(shù)：
隨著超大規(guī)模集成電路ULSI (Ultra Large Scale Integration)的飛速發(fā)展，集 成電路制造工藝變得越來(lái)越復(fù)雜和精細(xì)。為了提高集成度，降低制造成本，元件的特征尺 寸(Feature Size)不斷變小，芯片單位面積內(nèi)的元件數(shù)量不斷增加，平面布線已難以滿足 元件高密度分布的要求，只能采用多層布線技術(shù)利用芯片的垂直空間，進(jìn)一步提高器件的 集成密度。但多層布線技術(shù)的應(yīng)用會(huì)造成襯底表面起伏不平，對(duì)圖形制作極其不利。為 此，常需要對(duì)襯底進(jìn)行表面平坦化處理。目前，在平坦化技術(shù)中，優(yōu)選采用化學(xué)機(jī)械研磨 (ChemicalMechanical Polishing，CMP)，尤其在半導(dǎo)體制作工藝進(jìn)入亞微米(sub-micron) 領(lǐng)域后，其已成為一項(xiàng)不可或缺的制作工藝技術(shù)?；瘜W(xué)機(jī)械研磨是利用混有極小研磨顆粒的研磨溶液(Slurry)與加工表面發(fā)生化 學(xué)反應(yīng)來(lái)改變其表面的化學(xué)鍵，生成容易以機(jī)械方式去除的產(chǎn)物，再經(jīng)機(jī)械摩擦去除化學(xué) 反應(yīng)物獲得超光滑無(wú)損傷的平坦化表面的。具體來(lái)講，化學(xué)機(jī)械研磨是在特定的研磨裝置 中進(jìn)行的，研磨時(shí)，先將待研磨的晶片襯底附著在研磨裝置的研磨頭上，且其待研磨面朝 下；通過(guò)在研磨頭上施加下壓力，使襯底緊壓到研磨墊上；然后，表面貼有研磨墊的轉(zhuǎn)臺(tái)在 電機(jī)的帶動(dòng)下旋轉(zhuǎn)，晶片襯底在研磨頭的帶動(dòng)下也相應(yīng)轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)機(jī)械研磨；同時(shí)，施加研 磨溶液至研磨墊上，并利用轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)地離心力均勻地分布在研磨墊上，在待研磨襯底和研 磨墊之間形成一層液體薄膜，該薄膜與待研磨襯底的表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成易去除的產(chǎn) 物。這一過(guò)程結(jié)合機(jī)械作用和化學(xué)反應(yīng)可以對(duì)襯底表面進(jìn)行平坦化處理。在化學(xué)機(jī)械研磨中，決定化學(xué)機(jī)械研磨的效率的重要因素之一就是研磨溶液。一 般，研磨溶液可以包括研磨顆粒、能對(duì)晶片上的被研磨膜起化學(xué)反應(yīng)的化學(xué)溶液、表面活性 劑和氧化劑等的添加劑溶液、以及根據(jù)需要稀釋用的水。在使用時(shí)，研磨溶液是通過(guò)研磨裝 置中的液體輸送系統(tǒng)輸送到待研磨的晶片上的。易知，在化學(xué)機(jī)械研磨的過(guò)程中，研磨溶液的噴灑位置和流量對(duì)于研磨的結(jié)果有 很大的影響。研磨溶液的噴灑位置會(huì)影響研磨溶液噴灑的均勻性，導(dǎo)致研磨的質(zhì)量的下降， 出現(xiàn)研磨面高低不平的情況。研磨溶液的流量會(huì)嚴(yán)重影響待研磨晶片在化學(xué)機(jī)械研磨中的 去除率。若去除率過(guò)高，可能造成產(chǎn)品經(jīng)化學(xué)機(jī)械研磨后的厚度過(guò)低，影響產(chǎn)品的可靠性； 若去除率過(guò)低，可能造成產(chǎn)品經(jīng)化學(xué)機(jī)械研磨后的厚度過(guò)高并可能殘留有雜質(zhì)，影響產(chǎn)品 良率。例如公開(kāi)號(hào)為101412200的中國(guó)實(shí)用新型專利文獻(xiàn)提供了一種用于化學(xué)機(jī)械研 磨的噴頭臂及其控制裝置，其主要通過(guò)位置感應(yīng)器對(duì)噴頭臂和噴頭的位置進(jìn)行實(shí)時(shí)的監(jiān) 控，當(dāng)位置出現(xiàn)異常時(shí)自動(dòng)報(bào)警、并能通過(guò)步進(jìn)電機(jī)對(duì)噴頭臂和噴頭的位置進(jìn)行修正，使得 噴灑的流體變得均勻，保證研磨的質(zhì)量。但上述專利文獻(xiàn)主要解決的是噴灑位置的問(wèn)題，而未對(duì)噴灑流量作出改進(jìn)。在現(xiàn)有技術(shù)中，液體輸送系統(tǒng)包括控制開(kāi)關(guān)(例如電磁閥)、輸送管和具有一個(gè) 或多個(gè)噴嘴的分配器，液體輸送系統(tǒng)中研磨溶液的傳輸是由控制開(kāi)關(guān)控制輸送管來(lái)實(shí)現(xiàn)通 斷。但在上述液體輸送系統(tǒng)中，不能對(duì)液體輸送系統(tǒng)中傳輸?shù)难心ト芤旱牧魉俸?或流量 進(jìn)行監(jiān)測(cè)；且由于控制開(kāi)關(guān)只能實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單的通斷動(dòng)作，從而不能真正地根據(jù)實(shí)際情況而對(duì) 研磨溶液的流速和/或流量進(jìn)行適時(shí)調(diào)整。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型解決的問(wèn)題是，提供一種液體輸送系統(tǒng)和包括液體輸送系統(tǒng)的化學(xué)機(jī) 械研磨裝置，避免因研磨溶液流量控制不當(dāng)而嚴(yán)重影響待研磨晶片在化學(xué)機(jī)械研磨中的去 除率而使得待研磨晶片良率低下的問(wèn)題。為解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種應(yīng)用于化學(xué)機(jī)械研磨的液體輸送系統(tǒng)，包 括輸送管；用于控制輸送管通斷的控制開(kāi)關(guān)和分配器，所述分配器位于所述輸送管的其中 一個(gè)末端，具有與所述輸送管相通的一個(gè)或多個(gè)噴嘴；與所述輸送管相連的流量控制器，用 于檢測(cè)并提供研磨溶液的流量信息?？蛇x地，所述流量控制器包括流量計(jì)，用于檢測(cè)在輸送管中所傳輸?shù)难心ト芤旱?流量；報(bào)警單元，與所述流量計(jì)連接，在檢測(cè)的流量達(dá)到報(bào)警閾值時(shí)產(chǎn)生報(bào)警信號(hào)?？蛇x地，所述流量計(jì)包括對(duì)應(yīng)于所述報(bào)警閾值的傳感器，所述傳感器在檢測(cè)到研 磨溶液的流量達(dá)到報(bào)警閾值時(shí)產(chǎn)生觸發(fā)信號(hào)至所述報(bào)警單元?？蛇x地，所述傳感器為液位傳感器、測(cè)壓元件、光學(xué)傳感器、電容傳感器、浮子傳感 器或雷達(dá)傳感器?？蛇x地，所述流量計(jì)為超聲波流量計(jì)、渦流流量計(jì)、差壓式流量計(jì)或磁感式流量 計(jì)?？蛇x地，所述報(bào)警單元為報(bào)鳴器、顯示燈或者他們的結(jié)合?？蛇x地，所述流量控制器還包括流量控制單元，用于在檢測(cè)的流量達(dá)到報(bào)警閾值 時(shí)，通過(guò)調(diào)整所述輸送管的流通截面大小來(lái)控制研磨溶液的流量。可選地，所述流量控制單元為電動(dòng)調(diào)節(jié)閥。本實(shí)用新型在另一方面提供一種裝配有上述液體輸送系統(tǒng)的化學(xué)機(jī)械研磨裝置。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型所提供的液體輸送系統(tǒng)和包括液體輸送系統(tǒng)的化學(xué) 機(jī)械研磨裝置，通過(guò)設(shè)置流量控制器，能夠?qū)斔偷难心ト芤旱牧髁窟M(jìn)行管控，避免出現(xiàn)因 流量過(guò)高或過(guò)低而影響待研磨晶片在化學(xué)機(jī)械研磨中的去除率的問(wèn)題，從而制作出符合要 求的合格產(chǎn)品，提高產(chǎn)品的良率。

圖1顯示本實(shí)用新型一種實(shí)施例中液體輸送系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2顯示本實(shí)用新型一種實(shí)施例中包括液體輸送系統(tǒng)的化學(xué)機(jī)械研磨裝置的結(jié) 構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
在化學(xué)機(jī)械研磨工藝中，研磨溶液是決定化學(xué)機(jī)械研磨工藝效率的重要因素之 一。研磨溶液的流速及流量會(huì)嚴(yán)重影響待研磨晶片在化學(xué)機(jī)械研磨中的去除率。若去除率 過(guò)高，可能造成產(chǎn)品經(jīng)化學(xué)機(jī)械研磨后的厚度過(guò)低，影響產(chǎn)品的可靠性；若去除率過(guò)低，可 能造成產(chǎn)品經(jīng)化學(xué)機(jī)械研磨后的厚度過(guò)高并可能殘留有雜質(zhì)，影響產(chǎn)品良率。而現(xiàn)有技術(shù) 中，對(duì)研磨溶液的流量沒(méi)有很好的控制裝置，只能進(jìn)行簡(jiǎn)單化的通斷，使得在化學(xué)機(jī)械研磨 工藝中由于研磨溶液的流量問(wèn)題而不能對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行有效管控。有鑒于此，本實(shí)用新型提供一種液體輸送系統(tǒng)，包括輸送管、用于控制輸送管通斷 的控制開(kāi)關(guān)、分配器、以及與所述輸送管相連的流量控制器。本實(shí)用新型所提供的液體輸送 系統(tǒng)，能夠根據(jù)實(shí)際工作狀況而調(diào)整研磨溶液的流量，避免出現(xiàn)因流量過(guò)高或過(guò)低而影響 待研磨晶片在化學(xué)機(jī)械研磨中的去除率的問(wèn)題，從而制作出符合要求的合格產(chǎn)品，提高產(chǎn) 品的良率。本實(shí)用新型在另一方面提供一種包括上述液體輸送系統(tǒng)的化學(xué)機(jī)械研磨裝置。下面將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明。本實(shí)用新型利用示意圖進(jìn)行了 詳細(xì)描述，在詳細(xì)描述本實(shí)用新型實(shí)施例時(shí)，為便于說(shuō)明，表示裝置結(jié)構(gòu)的示意圖會(huì)不依一 般比例作局部放大，不應(yīng)以此作為對(duì)本實(shí)用新型的限定。圖1顯示本實(shí)用新型一種實(shí)施例中液體輸送系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。在本實(shí)施例中， 所述液體輸送系統(tǒng)作為化學(xué)機(jī)械研磨裝置的一個(gè)組成部分，用于輸送化學(xué)機(jī)械研磨工藝中 所需的溶液。在本實(shí)施例中，所述溶液特指研磨溶液，但并不以此為限，在其他實(shí)施例中，所 述溶液也可以包括清潔劑、去離子水或純水等。如圖1所示，液體輸送系統(tǒng)包括輸送管10、控制輸送管10通斷的控制開(kāi)關(guān)12、位 于輸送管10末端的分配器14、以及用于控制輸送管10內(nèi)研磨溶液的流量的流量控制器 16。輸送管10作為研磨溶液的輸送通道，用于將研磨溶液自遠(yuǎn)端(例如研磨溶液池) 輸送至化學(xué)研磨裝置的處理腔室內(nèi)。由于研磨溶液一般包括研磨顆粒、能對(duì)晶片上的被研 磨膜起化學(xué)反應(yīng)的化學(xué)溶液、表面活性劑和氧化劑等的添加劑溶液，因此，輸送管10 —般 采用高強(qiáng)度高抗腐蝕性的材質(zhì)制作，所述材質(zhì)例如為無(wú)規(guī)共聚聚丙烯(PP-R)、聚偏氟乙烯 (Polyvinylidene Fluoride,PVDF)或不銹鋼等。輸送管10的截面形狀則可以例如為圓形、 橢圓形、矩形或其他形狀?？刂崎_(kāi)關(guān)12用于控制輸送管10的通斷。在本實(shí)施例中，控制開(kāi)關(guān)12可以例如為 電磁閥開(kāi)關(guān)，其具體操作包括通電時(shí)，電磁閥開(kāi)關(guān)中的電磁線圈產(chǎn)生電磁力，將閥門打開(kāi)， 輸送管10得以被導(dǎo)通；斷電時(shí)，電磁線圈的電磁力消失，將閥門關(guān)閉，輸送管10被切斷。分配器14位于輸送管10的末端、臨近化學(xué)研磨裝置的處理腔室，每一個(gè)分配器14 都具有與輸送管10相通的噴嘴140。在本實(shí)施例中，噴嘴140的數(shù)量、型態(tài)及其位置可以根 據(jù)實(shí)際情況而調(diào)整，例如噴嘴140的數(shù)量為一個(gè)或共通于輸送管10的多個(gè)，噴嘴140的型 態(tài)可以是單孔狀的也可以是具有多個(gè)細(xì)孔的噴淋頭。流量控制器16與輸送管10相連。在本實(shí)施例中，流量控制器16包括流量計(jì)160 和流量控制單元162。流量計(jì)160用于檢測(cè)在輸送管中所傳輸?shù)难心ト芤旱牧髁?。在本?shí)施例中，流量計(jì)160為超聲波流量計(jì)、渦流流量計(jì)、差壓式流量計(jì)或磁感式流量計(jì)，優(yōu)選地，采用是超聲 波流量計(jì)。超聲波流量計(jì)是基于超聲波在流體中傳播的速度等于被測(cè)流體的平均流速和超 聲波自身速度的幾何和的原理而設(shè)計(jì)的。所述超聲波流量計(jì)包括發(fā)射換能器、與所述發(fā)射 換能器對(duì)應(yīng)的接收器、與所述接收器連接的信號(hào)處理器、以及顯示和積算儀表。具體包括 所述超聲波發(fā)射換能器將電能轉(zhuǎn)換為超聲波能量，并將所述超聲波能量發(fā)射到被測(cè)研磨溶 液中，并由所述接收器接收所述超聲波信號(hào)，利用所述信號(hào)處理器將所述超聲波信號(hào)經(jīng)電 子線路放大并轉(zhuǎn)換為代表流量的電信號(hào)，將所述電信號(hào)供給顯示和積算儀表進(jìn)行顯示和積 算，實(shí)現(xiàn)研磨溶液流量的檢測(cè)和顯示。為確保研磨溶液的流量在符合規(guī)范的范圍之內(nèi)，流量計(jì)160可以預(yù)設(shè)有報(bào)警閾 值，在本實(shí)施例中，所述報(bào)警閾值包括低位門限和高位門限。另外，流量計(jì)160還設(shè)置有與 作為報(bào)警閾值的所述低位門限和高位門限對(duì)應(yīng)的低位傳感器161和高位傳感器163，低位 傳感器161對(duì)應(yīng)連接有報(bào)警單元(未在圖式中顯示)，高位傳感器163對(duì)應(yīng)連接有報(bào)警單 元(未在圖式中顯示)。其中，低位傳感器161和高位傳感器163相同類型的裝置或不同 類型的裝置，并且可以是選自液位傳感器、測(cè)壓元件、光學(xué)傳感器、電容傳感器、浮子傳感器 或雷達(dá)傳感器。所述報(bào)警單元?jiǎng)t可以是報(bào)鳴器、顯示燈或它們的結(jié)合，在本實(shí)施例中，以顯 示燈為例進(jìn)行說(shuō)明，設(shè)置有分別對(duì)應(yīng)于低位傳感器161和高位傳感器163的低位顯示燈和 高位顯示燈。這樣，當(dāng)輸送管10內(nèi)研磨溶液的流量低于低位門限時(shí)，低位傳感器161檢測(cè) 到研磨溶液的流量低于低位門限的信息并根據(jù)所述信息產(chǎn)生一觸發(fā)信號(hào)至連接的低位顯 示燈，由其予以顯示報(bào)警；當(dāng)輸送管10內(nèi)研磨溶液的流量高于高位門限時(shí)，高位傳感器163 檢測(cè)到研磨溶液的流量高于高位門限的所述信息并根據(jù)所述信息產(chǎn)生一觸發(fā)信號(hào)至連接 的高位顯示燈，由其予以顯示報(bào)警。所述低位顯示燈和高位顯示燈采取的顯示報(bào)警方式可 以采用燈常亮和燈閃爍中的任一種。例如，為便于區(qū)分低位顯示燈和高位顯示燈所對(duì)應(yīng)的 研磨溶液的流量狀況，低位顯示燈可以采取常亮方式而高位顯示燈采取閃爍方式，或者，反 過(guò)來(lái)，低位顯示燈可以采取閃爍方式而高位顯示燈采取常亮方式。當(dāng)然，即使采用同一種顯 示方式，低位顯示燈和高位顯示燈也可以通過(guò)采用不同的燈光顏色來(lái)加以區(qū)別。流量控制器16還包括流量控制單元162，用于在檢測(cè)的流量達(dá)到報(bào)警閾值時(shí)，通 過(guò)調(diào)整所述輸送管10的流通截面大小來(lái)控制研磨溶液的流量。事實(shí)上，調(diào)整研磨溶液的流 量可以通過(guò)調(diào)整研磨溶液的流速和/或輸送管的流通截面大小來(lái)實(shí)現(xiàn)，相對(duì)來(lái)講，調(diào)整輸 送管的流通截面大小要比調(diào)整研磨溶液的流速更易于實(shí)施，因此，優(yōu)選地，采用的就是在流 速一定的情況下調(diào)整輸送管的流通截面大小的技術(shù)。在本實(shí)施例中，流量控制單元162可 以是電動(dòng)調(diào)節(jié)閥。在本實(shí)施例中，以電動(dòng)調(diào)節(jié)閥為例，所述電動(dòng)調(diào)節(jié)閥與流量計(jì)160電性連 接，接至大小為220V或380V的交流電源，控制信號(hào)為4mA至20mA，電動(dòng)調(diào)節(jié)閥里面有控制 器。在流量計(jì)160的低位傳感器161或高位傳感器163得到研磨溶液的流量低于低位門限 或高于高位門限的規(guī)定范圍時(shí)，產(chǎn)生一觸發(fā)信號(hào)至作為流量控制單元162的電動(dòng)調(diào)節(jié)閥， 使得所述電動(dòng)調(diào)節(jié)閥中的控制器把電流信號(hào)轉(zhuǎn)換為步進(jìn)電機(jī)的角行程信號(hào)，電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)，由 齒輪、杠桿或者齒輪加杠桿，帶動(dòng)閥門運(yùn)動(dòng)，并在某一位置或角度停止，通過(guò)閥門的開(kāi)度來(lái) 調(diào)整輸送管的流通截面大小，即在低位傳感器161得到研磨溶液的流量低于低位門限時(shí)， 流量控制單元162增大閥門的開(kāi)度，提高研磨溶液的流量；在高位傳感器163得到研磨溶液 的流量高于高位門限時(shí)，流量控制單元162減小閥門的開(kāi)度，降低研磨溶液的流量。當(dāng)然，流量控制單元162也并不限定于電動(dòng)調(diào)節(jié)閥，在其他實(shí)施例中，也可以是手動(dòng)節(jié)流閥，在研 磨溶液的流量低于低位門限或高于高位門限的規(guī)定范圍時(shí)，通知操作人員進(jìn)行操作，扳動(dòng) 手動(dòng)節(jié)流閥的閥門運(yùn)動(dòng)，并在所需的位置或角度處停止，控制閥門的開(kāi)度。如圖2所示，本實(shí)用新型另提供一種化學(xué)機(jī)械研磨裝置，所述化學(xué)機(jī)械研磨裝置 包括處理腔室20，設(shè)于處理腔室內(nèi)、表面裝配有研磨墊24的轉(zhuǎn)臺(tái)22，附著有待磨晶片的研 磨頭(未在圖式中顯示)，以及用于輸送研磨溶液的液體輸送系統(tǒng)。所述液體輸送系統(tǒng)包括 輸送管10、控制輸送管10通斷的控制開(kāi)關(guān)12、位于輸送管10末端的分配器14、以及用于控 制輸送管10內(nèi)研磨溶液的流量的流量控制器16。特別地，分配器14中的噴嘴140的位置 可以設(shè)置為正對(duì)于轉(zhuǎn)臺(tái)22上研磨墊24，也可以設(shè)置為斜對(duì)于研磨墊24。優(yōu)選地，在有些情 況下，噴嘴140的位置更可根據(jù)研磨類型或其進(jìn)程而進(jìn)行相應(yīng)調(diào)整，使得研磨溶液能均勻 噴灑，保證研磨的質(zhì)量。當(dāng)應(yīng)用本實(shí)用新型的化學(xué)機(jī)械研磨裝置時(shí)，研磨溶液通過(guò)輸送管10輸送至分配 器14，由分配器14將研磨溶液輸送至轉(zhuǎn)臺(tái)22上研磨墊24，流量控制器16實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)輸送管 10中的研磨溶液流量，并在研磨溶液流量超出正常范圍時(shí)，通過(guò)調(diào)整輸送管10的流通截面 大小來(lái)控制研磨溶液的流量，可以確保研磨溶液流量在規(guī)定范圍內(nèi)，使得經(jīng)過(guò)化學(xué)機(jī)械研 磨工藝后的晶片膜厚符合產(chǎn)品規(guī)范。本實(shí)用新型雖然以較佳實(shí)施例公開(kāi)如上，但其并不是用來(lái)限定本實(shí)用新型，任何 本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)，都可以做出可能的變動(dòng)和修改，因 此本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以本實(shí)用新型權(quán)利要求所界定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求一種應(yīng)用于化學(xué)機(jī)械研磨的液體輸送系統(tǒng)，包括輸送管；用于控制輸送管通斷的控制開(kāi)關(guān)和分配器，所述分配器位于所述輸送管的其中一個(gè)末端，具有與所述輸送管相通的一個(gè)或多個(gè)噴嘴；其特征在于，所述液體輸送系統(tǒng)還包括與所述輸送管相連的流量控制器，用于檢測(cè)并提供輸送管中研磨溶液的流量信息。
2.如權(quán)利要求1所述的液體輸送系統(tǒng)，其特征在于，所述流量控制器包括流量計(jì)，用于檢測(cè)在輸送管中所傳輸?shù)难心ト芤旱牧髁浚粓?bào)警單元，與所述流量計(jì)連接，在檢測(cè)的流量達(dá)到報(bào)警閾值時(shí)產(chǎn)生報(bào)警信號(hào)。
3.如權(quán)利要求2所述的液體輸送系統(tǒng)，其特征在于，所述流量計(jì)包括對(duì)應(yīng)于所述報(bào)警 閾值的傳感器，所述傳感器在檢測(cè)到研磨溶液的流量達(dá)到報(bào)警閾值時(shí)產(chǎn)生觸發(fā)信號(hào)至所述 報(bào)警單元。
4.如權(quán)利要求3所述的液體輸送系統(tǒng)，其特征在于，所述傳感器為液位傳感器、測(cè)壓元 件、光學(xué)傳感器、電容傳感器、浮子傳感器或雷達(dá)傳感器。
5.如權(quán)利要求2所述的液體輸送系統(tǒng)，其特征在于，所述流量計(jì)為超聲波流量計(jì)、渦流 流量計(jì)、差壓式流量計(jì)或磁感式流量計(jì)。
6.如權(quán)利要求2所述的液體輸送系統(tǒng)，其特征在于，所述報(bào)警單元為報(bào)鳴器、顯示燈或 者他們的結(jié)合。
7.如權(quán)利要求2所述的液體輸送系統(tǒng)，其特征在于，所述流量控制器還包括流量控制 單元，用于在檢測(cè)的流量達(dá)到報(bào)警閾值時(shí)，通過(guò)調(diào)整所述輸送管的流通截面大小來(lái)控制研 磨溶液的流量。
8.如權(quán)利要求7所述的液體輸送系統(tǒng)，其特征在于，所述流量控制單元為電動(dòng)調(diào)節(jié)閥。
9.一種包括權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的液體輸送系統(tǒng)的化學(xué)機(jī)械研磨裝置。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種應(yīng)用于化學(xué)機(jī)械研磨的液體輸送系統(tǒng)和包括液體輸送系統(tǒng)的化學(xué)機(jī)械研磨裝置，其中所述液體輸送系統(tǒng)包括輸送管；用于控制輸送管通斷的控制開(kāi)關(guān)和分配器，所述分配器位于所述輸送管的其中一個(gè)末端，具有與所述輸送管相通的一個(gè)或多個(gè)噴嘴；以及與所述輸送管相連的流量控制器，用于檢測(cè)并提供研磨溶液的流量信息。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型能夠?qū)斔偷难心ト芤旱牧髁窟M(jìn)行管控，避免出現(xiàn)因流量過(guò)高或過(guò)低而影響待研磨晶片在化學(xué)機(jī)械研磨中的去除率的問(wèn)題，從而制作出符合要求的合格產(chǎn)品，提高產(chǎn)品的良率。
文檔編號(hào)B24B57/02GK201677236SQ20102015128
公開(kāi)日2010年12月22日 申請(qǐng)日期2010年4月2日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月2日
發(fā)明者張溢鋼, 朱海青, 湯露奇, 邢程 申請(qǐng)人:中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司