專利名稱：真空鍍膜件及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空鍍膜件及其制備方法，尤其涉及一種呈現(xiàn)綠色的真空鍍膜件及其制備方法。
背景技術(shù)：
真空鍍膜技術(shù)是一個(gè)非常環(huán)保的成膜技術(shù)。以真空鍍膜的方式所形成的膜層具有高硬度、高耐磨性、良好的化學(xué)穩(wěn)定性、與基體結(jié)合牢固以及亮麗的金屬外觀等優(yōu)點(diǎn)，因此真空鍍膜在裝飾性表面處理領(lǐng)域的應(yīng)用越來越廣。在裝飾性真空鍍膜領(lǐng)域中，對(duì)所鍍膜層的顏色的設(shè)計(jì)與控制是一個(gè)非常關(guān)鍵的技術(shù)指標(biāo)。目前采用真空鍍膜技術(shù)能夠穩(wěn)定地生產(chǎn)的顏色僅限于金色、銀色、黑色、玫瑰紅等少數(shù)色系，與烤漆、陽極處理等成膜工藝相比，真空鍍膜在裝飾性表面處理領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)力不強(qiáng)。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種呈現(xiàn)綠色的真空鍍膜件。另外，還提供一種上述真空鍍膜件的制備方法。一種真空鍍膜件，包括一基體及一形成于基體上的顏色層，該顏色層為一氧化鉻層，該顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于75至80之間，a*坐標(biāo)介于-5至-10之間，b*坐標(biāo)介于15至20之間?！N真空鍍膜件的制備方法，包括以下步驟提供一基體；使用一鉻靶，以5 lOOsccm的流量向真空室內(nèi)通入純度為99. 99%的氧氣，通過磁控濺射鍍膜方法在基體上形成一顏色層，該顏色層為一氧化鉻層，其厚度為0. 5 3μπι， 呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIELAB表色系統(tǒng)L*坐標(biāo)介于75至80之間，a*坐標(biāo)介于_5至-10之間， b*坐標(biāo)介于15至20之間。相較于現(xiàn)有技術(shù)，上述真空鍍膜件的制備方法，通過對(duì)反應(yīng)氣體氧氣的流量控制來改變顏色層的成分，即改變顏色層中氧原子與鉻原子的比例，從而達(dá)到使顏色層呈現(xiàn)出綠色的目的。以該方法所制得的真空鍍膜件可呈現(xiàn)出具吸引力的綠色的金屬外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，極大地提高了產(chǎn)品的外觀競(jìng)爭(zhēng)力。


圖1為本發(fā)明較佳實(shí)施例的真空鍍膜件的剖視示意圖。主要元件符號(hào)說明真空鍍膜件 10基體11襯底層13
3
顏色層15
具體實(shí)施例方式本發(fā)明的真空鍍膜件可以為電子裝置外殼，也可以為眼鏡邊框、鐘表外殼、金屬衛(wèi)浴件及建筑用件。請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明較佳實(shí)施例的真空鍍膜件10包括一基體11、一襯底層13及一顏色層15。襯底層13直接與基體11結(jié)合，顏色層15形成于襯底層13的表面?；w11的材質(zhì)可以為金屬、玻璃、陶瓷或塑料。襯底層13形成于基體11與顏色層15之間，以增強(qiáng)顏色層15于基體11上的附著力。襯底層13可為一鉻層或其它可提供附著效果的涂層。襯底層13的厚度大約為0.01 0. Iym,優(yōu)選厚度為0. 05 μ m。襯底層13的顏色以不影響顏色層顏色的色調(diào)為佳，比如可為銀色、白色及灰白色等淺色調(diào)。顏色層15為一氧化鉻層。該顏色層15呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIELAB表色系統(tǒng)的L* 坐標(biāo)介于78至83之間，a*坐標(biāo)介于-5至-10之間，b*坐標(biāo)介于15至20之間，表現(xiàn)為綠色。顏色層15的厚度大約為0. 5 3 μ m，優(yōu)選厚度為2 μ m。上述真空鍍膜件10的制備方法主要包括如下步驟提供一基體11，并將基體11放入盛裝有乙醇及/或丙酮溶液的超聲波清洗器中進(jìn)行震動(dòng)清洗，以除去基體11表面的雜質(zhì)和油污。清洗完畢后烘干備用。所述基體11的材質(zhì)可以為金屬、玻璃、陶瓷或塑料。再對(duì)基體11的表面進(jìn)行氬氣等離子清洗，進(jìn)一步去除基體11表面的油污，以改善基體11表面與后續(xù)涂層的結(jié)合力。對(duì)基體11的表面進(jìn)行氬氣等離子清洗的方法包括如下步驟將基體11放入一磁控濺射鍍膜機(jī)的真空室內(nèi)的工件架上，抽真空至真空度為8. OX 10_3Pa，以300 600sCCm(標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)毫升/分鐘)的流量向真空室內(nèi)通入純度為 99. 999%的氬氣，調(diào)節(jié)偏壓至-300 -800V，對(duì)基體11表面進(jìn)行等離子清洗，清洗時(shí)間為 5 IOmin0采用磁控濺射的方式在基體11上形成一襯底層13。該襯底層13為一鉻層。形成該襯底層13的具體操作方法及工藝參數(shù)為在所述等離子清洗完成后，調(diào)節(jié)氬氣流量至 100 500sccm，加熱該真空室至120 180，并設(shè)置工件架的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為2. 0 3. Orpm ；開啟已置于磁控濺射鍍膜機(jī)中的鉻靶的電源，調(diào)節(jié)偏壓至-100 -500V，沉積襯底層13。沉積該襯底層13的時(shí)間為5 15min。形成該襯底層13后，以5 lOOsccm的流量向真空室內(nèi)通入純度為99. 99%的氧氣，調(diào)節(jié)偏壓至-100 -300V，對(duì)基體11繼續(xù)鍍膜，以在襯底層13上鍍覆一顏色層15，該顏色層15為一氧化鉻層。沉積該顏色層15的時(shí)間為20 60min。所述顏色層15呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于78至83之間， a*坐標(biāo)介于-5至-10之間，b*坐標(biāo)介于15至20之間。上述真空鍍膜件的制備方法，通過對(duì)反應(yīng)氣體氧氣的流量控制來改變顏色層15 的成分，即改變顏色層15中氧原子與鉻原子的比例，從而達(dá)到使顏色層呈現(xiàn)出綠色的目的。同時(shí)，通過選擇合適的偏壓，控制氧原子及鉻原子的沉積速率，可增強(qiáng)顏色層15的致密性。另外，選擇合適的氧氣流量與偏壓，能夠保證較高的沉積速率，從而可進(jìn)一步提高該真空鍍膜件10的生產(chǎn)效率。
權(quán)利要求
1.一種真空鍍膜件，包括一基體及一形成于基體上的顏色層，其特征在于該顏色層為一氧化鉻層，該顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的I；坐標(biāo)介于75至80之間， a*坐標(biāo)介于-5至-10之間，b*坐標(biāo)介于15至20之間。
2.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜件，其特征在于所述顏色層的厚度為0.5 3μπι。
3.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜件，其特征在于該真空鍍膜件還包括一形成于基體與顏色層之間的襯底層，該襯底層為一鉻層。
4.如權(quán)利要求3所述的真空鍍膜件，其特征在于該襯底層的厚度為0.01 0. 1 μ m。
5.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜件，其特征在于該基體的材質(zhì)為金屬、玻璃、陶瓷及塑料中的一種。
6.一種真空鍍膜件的制備方法，包括以下步驟提供一基體；使用一鉻靶，以5 lOOsccm的流量通入純度為99. 99%的氧氣，通過磁控濺射鍍膜方法在基體上形成一顏色層，該顏色層為一氧化鉻層，其厚度為0. 5 3μπι，呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)L*坐標(biāo)介于75至80之間，a*坐標(biāo)介于_5至-10之間，b*坐標(biāo)介于15 至20之間。
7.如權(quán)利要求6所述的真空鍍膜件的制備方法，其特征在于形成該顏色層時(shí)，偏壓設(shè)為-100 -300V。
8.如權(quán)利要求7所述的真空鍍膜件的制備方法，其特征在于該顏色層的沉積時(shí)間為 20 60min。
9.如權(quán)利要求6所述的真空鍍膜件的制備方法，其特征在于該真空鍍膜件的制備方法還包括在形成顏色層前在基體上磁控濺射一鉻襯底層的步驟。
10.如權(quán)利要求9所述的真空鍍膜件的制備方法，其特征在于形成該鉻襯底層的工藝參數(shù)為氬氣流量為100 500sccm，溫度為120 180°C，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為2. 0 3. OrpmJIiE 為-100 -500V，沉積時(shí)間為5 15min。
全文摘要
本發(fā)明提供一種真空鍍膜件。該真空鍍膜件包括一基體及一形成于基體上的顏色層。該顏色層為一氧化鉻層，該顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于75至80之間，a*坐標(biāo)介于-5至-10之間，b*坐標(biāo)介于15至20之間。本發(fā)明還提供一種上述真空鍍膜件的制備方法。本發(fā)明的真空鍍膜件呈現(xiàn)出綠色。
文檔編號(hào)C23C14/08GK102337501SQ201010235428
公開日2012年2月1日 申請(qǐng)日期2010年7月23日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月23日
發(fā)明者張新倍, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士, 馬闖 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司