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具有改進(jìn)的研磨元件組件的改進(jìn)型研磨整備裝置的制作方法

文檔序號:3424667閱讀:229來源:國知局
專利名稱:具有改進(jìn)的研磨元件組件的改進(jìn)型研磨整備裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明的領(lǐng)域涉及用于對硬質(zhì)地板和表面進(jìn)行打磨的、增強(qiáng)的研 磨性刮磨及磨削裝置,其中的地板和表面例如是水泥表面、石材表面 或人造石表面、或者諸如木材表面等其它半硬質(zhì)表面。
背景技術(shù)
盡管混凝土或水泥由于其自身的強(qiáng)度、耐用性、低成本等優(yōu)點(diǎn)而 被非常廣泛地用作地板材料和建筑材料,但如果混凝土或水泥未經(jīng)過 進(jìn)一步的精細(xì)處理,則在其所受到的長久拖擦作用下,混凝土地板將 會固有地產(chǎn)生出灰塵,且由于這樣的地板是多孔性的,所以還易于變 得臟污,其中的拖擦作用或者是由行人的移動而造成的,或者是由車 輪的移動造成的。
因而,人們會遇到這樣的兩難困局或者是對具有毫不光鮮的實(shí) 用外觀的混凝土地板進(jìn)行清潔,此情況的缺點(diǎn)在于未經(jīng)修飾的混凝土 地板將不可避免地產(chǎn)生出塵土;或者是花費(fèi)相當(dāng)可觀的金錢來形成保 護(hù)性、裝飾性的覆蓋表面。在近些年來,在對混凝土地板進(jìn)行涂覆方 面,人們已經(jīng)取得了很大的進(jìn)展。有人可能希望將用舊的或破損的覆 蓋物去掉,并用一種新型的覆蓋物來取代它。形成保護(hù)性裝飾覆蓋物 的部分費(fèi)用是由于要對混凝土地板進(jìn)行整備、以便于接納新遮蓋表面 而產(chǎn)生的。整備工作通常包括侵進(jìn)型的打磨操作,以使得混凝土表面 粗糙化,并去除先前涂敷的任何上部覆蓋物、油漬或油脂污物,以確 保新覆蓋物具有適當(dāng)?shù)慕Y(jié)合性。利用砂紙機(jī)上的普遍砂紙對混凝土表 面執(zhí)行侵進(jìn)打磨是一項(xiàng)費(fèi)時的工作,在砂紙上的砂粒被磨掉后,需要 頻繁地更換砂紙。
人們?yōu)樵O(shè)計(jì)出更為強(qiáng)力的打磨、磨削墊片而釆用了金剛石或碳化 硅等硬化顆粒。盡管這些墊片在新的時候具有很好的性能,但已經(jīng)發(fā)現(xiàn)在給定的時刻只有很少 一部分顆粒實(shí)際接觸到了表面。這些接觸到 表面的很少 一部分顆粒的切削邊緣將會被磨損變圓,從而使得打磨性 能顯著下降。在本行業(yè)中,這種效果有時也被稱為滾珠軸承效應(yīng),這
是因?yàn)檫@些少數(shù)的滾圓后金剛石顆粒在與表面接觸時,將像滾珠軸 承一樣在表面上滑動,不再能有效地切入到表面中。下層的顆粒材料 也無法足夠快地被磨出,從而,外露的磨鈍顆粒將留在磨削墊片上, 阻止了新的研磨顆粒露出,進(jìn)而阻止新研磨顆粒有效地對加工表面進(jìn) 行刮磨。下層材料持續(xù)很久才露出的一個原因在于其太厚了,從而 無法達(dá)到合適的磨耗率。另外,帶有金剛石的平面部分被貼附到地板 上,而地板通常阻止金剛石松脫下去,并阻止金剛石顆粒在被磨平后 離開加工部分。
目前存在的其它 一些問題也阻止或限制了硬質(zhì)顆粒的應(yīng)用。本申 請所涉及的研磨剛毛是用當(dāng)前已知的高溫塑料材料制成的,當(dāng)其與上 述的硬質(zhì)研磨材料組合使用、且被用在高速打磨機(jī)上時,能產(chǎn)生出很 多熱量。所產(chǎn)生的熱量足以將塑料材料熱熔,并將研磨剛毛熔合到一 起,使得剛毛研磨墊成為無用的。
對于其上先前涂覆有膠合鋪料或舊塑料和油漆的表面而言,高熱 和低的磨削率會對混凝土表面的整備工作帶來一些特別的問題。在舊 的涂覆材料被去除的過程中,熱量熔化了舊的涂覆材料,且涂覆物隨 后將沾附到剛毛上,并將剛毛損壞,從而,剛毛將很快就喪失其大部 分打磨及磨削效能。另外,由于空氣缺乏流動,熱量將蓄留在研磨墊 和剛毛的附近。
先前,人們曾嘗試制造金屬性的剛毛,但這也遇到了一些問題。 人們已嘗試在剛毛條帶、板條、或板體上固定諸如碳化硅或金剛石等 硬質(zhì)顆粒。硬質(zhì)顆粒可以是金剛石顆粒,其被釬焊到彈簧鋼或其它金 屬基底上。如果金屬基底上完全釬焊了顆粒,則基底就變得脆弱了, 在高速應(yīng)用的過程中,其會斷裂。甚至彈簧鋼在經(jīng)過了釬焊操作后也 會喪失其彈性特性。將金剛石顆粒僅限制在剛毛末端或頂端、以保持 金屬柔性的嘗試嚴(yán)重地縮短了剛毛的工作壽命。希望能有一種用于對混凝土進(jìn)行打磨的研磨裝置其通過只將硬 化顆粒沿著基底層遠(yuǎn)端部分的前表面進(jìn)行設(shè)置,使得新的顆粒邊緣能 隨著基底層的磨耗而露出,由此獲得改善的性能特征。還希望能有一 種刀片形的剛毛,其厚度和硬度與金剛石的磨損相平衡,從而,隨著 舊的金剛石顆粒被磨損到預(yù)定的量,該片形剛毛能磨耗下去,以露出 新的金剛石顆粒。還希望有一種柔性的金屬研磨元件,其上固定有硬 化的顆粒,且其釬焊部分只位于面對著基底層遠(yuǎn)端部分的前部上。還 希望有一種改善的研磨元件,其既適于被應(yīng)用在諸如水泥、石材等硬 質(zhì)表面上,也適于被用在木材等其它表面上。還希望提供一種刀片體, 其例如被懸臂彈簧偏置在轉(zhuǎn)動的驅(qū)動元件上。
希望能有一種耐久的研磨元件組件,其被安裝在清潔機(jī)或打磨機(jī) 上,該機(jī)器適于對水泥地面進(jìn)行整備,以利于涂覆操作。還希望能有 一種對拋光的混凝土地板進(jìn)行整備的便利方法,能利用侵進(jìn)型的切削 操作切削掉塑料、膠合鋪料、以及其它熱敏材料,侵進(jìn)型的切削操作 會形成足夠多的混凝土塵土 ,在去除掉的廢料產(chǎn)品沾附或粘接到研磨 元件組件的表面上之前,這些塵土將覆蓋住去除的廢料產(chǎn)品。還希望 有一種刀片形的研磨元件,其厚度顯著小于其寬度和長度尺寸,以達(dá) 到更高的散熱性。刀片形的元件還需要被定位成能形成空氣循環(huán)流動, 以進(jìn)一步促進(jìn)刀片形元件的熱量散失。還希望有一種研磨元件組件, 其研磨顆粒被牢固地固定到基底層上,而該基底層由彈性的背襯層進(jìn) 行增強(qiáng)并支撐著。還希望有一種改進(jìn)的研磨元件,其能快速地散發(fā)掉 積聚的熱量,以防止由熱量造成失效,并防止下面的覆蓋物熔化而粘 連到研磨元件上。還希望有一種有效的打磨元件,其能被用在小功率 的場合中,對于面向消費(fèi)者的打磨機(jī)和清潔機(jī)而言,小功率的設(shè)備是 最為常見的。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的一種實(shí)施方式, 一種對硬質(zhì)表面進(jìn)行整備的研磨裝 置具有用于在加工表面上移動的機(jī)體。多個懸臂彈簧元件的近端被固 定到機(jī)體上。多個懸臂彈簧元件還具有各自的遠(yuǎn)端懸臂部分。多個向
17下延伸的研磨元件的上部部分均被安裝到對應(yīng)的遠(yuǎn)端部分上。研磨元 件上具有基底層,其上帶有研磨顆粒,顆粒位于具有一定寬度和長度 的對應(yīng)主研磨刮擦面上?;讓拥暮穸冗h(yuǎn)小于其寬度和長度,且該基 底層的尺寸和結(jié)構(gòu)被設(shè)計(jì)成能使得研磨元件的磨損率對應(yīng)于研磨顆粒 的磨損率,從而,隨著基底材料的磨耗,在研磨顆粒被完全磨耗到預(yù) 定的量值之前,就能將新的研磨顆粒顯露出。
優(yōu)選地是,機(jī)體是可轉(zhuǎn)動的墊片,其被制成繞著中心點(diǎn)轉(zhuǎn)動。懸 臂彈簧元件與研磨元件在環(huán)周方向上間隔開,并接近于可轉(zhuǎn)動墊片的 環(huán)周邊。在一種實(shí)施方式中, 一種安裝裝置將研磨元件可調(diào)節(jié)地固定 在選定的不同側(cè)向角度上,以調(diào)整研磨元件相對于可轉(zhuǎn)動墊片中心的 徑向位置。
在一種實(shí)施方式中, 一種安裝裝置將懸臂彈簧元件可調(diào)節(jié)地固定 在選定的不同側(cè)向角度上,以調(diào)整研磨元件相對于可轉(zhuǎn)動墊片中心的 徑向位置。優(yōu)選地是,研磨元件從懸臂彈簧元件上向下懸垂著,且相 對于垂直方向是傾斜的,以使得對應(yīng)研磨元件的下部遠(yuǎn)端在機(jī)體的正 常運(yùn)動過程中位于研磨元件與懸臂彈簧連接部位的后方。主研磨面被 定位成基本上沿著機(jī)體正常運(yùn)動的方向面向前方。
在一種實(shí)施方式中,研磨元件側(cè)邊緣與底邊緣之間的拐角被切成 圓角。優(yōu)選地是,基底層的下部遠(yuǎn)端部分延伸超出背襯元件,且被彎 曲成第二角度,從而比背襯元件更為水平地布置著。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面, 一種對硬質(zhì)表面進(jìn)行整備的研磨裝置具 有用于在加工表面上移動的機(jī)體。機(jī)體具有多個向下延伸的研磨元件, 且這些研磨元件各自都具有的前向研磨面,這些研磨面具有一定的寬 度和長度。研磨元件都具有基底層,研磨材料被固定到基底層的前表 面上。研磨元件被安裝到背襯元件上。背襯元件被固定到機(jī)體上,以 使得前向的研磨面基本上面朝向機(jī)體的正常運(yùn)動方向。背襯元件以及 具有靠近背襯元件的部分的基底層從機(jī)體上向下懸垂下來,且相對于 垂直方向偏斜第一角度,以使得基底層與背襯元件的下部遠(yuǎn)端部分被
定位成這樣在機(jī)體正常運(yùn)動的過程中,其被定位在后方,并使得研磨材料基本上面朝向機(jī)體運(yùn)動的前方方向?;讓拥南虏窟h(yuǎn)端部分延 伸超出背襯元件,并被彎曲成第二角度,以便于比背襯元件更為水平 地進(jìn)行布置。
根據(jù)本發(fā)明的又一方面, 一種對硬質(zhì)表面進(jìn)行整備的研磨裝置具 有用于在加工表面上移動的機(jī)體。多個懸臂彈簧元件的近端被固定到 機(jī)體上,且懸臂彈簧元件還具有遠(yuǎn)端的懸臂部分。向下延伸的刀片形 研磨元件位于懸臂彈簧元件上對應(yīng)的遠(yuǎn)端部分處。優(yōu)選地是,研磨元 件具有帶有研磨顆粒的基底層。向下延伸的基底層具有對應(yīng)的前向主 研磨面,其具有一定的寬度和長度?;讓颖贿B接到懸臂彈簧上,以 使得前向主研磨面基本上面朝向機(jī)體運(yùn)動的正常方向。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面, 一種對硬質(zhì)表面進(jìn)行整備的研磨裝置具 有用于在加工表面上移動的機(jī)體。多個懸臂彈簧元件的近端被固定到 機(jī)體上,且懸臂彈簧元件還具有遠(yuǎn)端的懸臂部分。遠(yuǎn)端的懸臂部分具 有向下延伸的刀片形研磨元件,其上固定有用于與加工表面進(jìn)行接觸 的研磨顆粒。優(yōu)選地是,懸臂彈簧元件與機(jī)體具有安裝裝置,其用于 將懸臂彈簧元件可調(diào)節(jié)地固定到選定的不同側(cè)向角度上,以便于調(diào)整 研磨元件相對于機(jī)體的位置。還希望刀片形研磨元件向下懸垂著,并 偏離垂直方向,從而使得研磨元件的下部遠(yuǎn)端在機(jī)體的正常運(yùn)動過程
中處于懸臂彈簧元件之后。還優(yōu)選地是刀片狀研磨元件的厚度遠(yuǎn)小 于其寬度和長度,且其尺寸和結(jié)構(gòu)被設(shè)計(jì)成使得磨損率對應(yīng)于研磨顆 粒的磨損率,從而,隨著刀片形研磨元件的磨耗,在研磨顆粒被磨耗 到預(yù)定的量值之前,新的研磨顆粒就能顯露出。還希望機(jī)體是可轉(zhuǎn)動 的墊片,其被制成繞著中心點(diǎn)轉(zhuǎn)動。懸臂彈簧元件在環(huán)周方向上間隔 開,并接近于可轉(zhuǎn)動墊片的環(huán)周邊。研磨元件按照一定的斜角姿態(tài)向 下懸垂,從而形成了風(fēng)扇葉片,在可轉(zhuǎn)動墊片的正常轉(zhuǎn)動過程中,葉 片用于促使空氣循環(huán)流動。
根據(jù)本發(fā)明的再一方面,研磨元件組件具有基底層,研磨顆粒被 釬焊材料焊接到該基底層的前部部分上。背襯元件被貼接著基底層的 上部部分進(jìn)行固定,以向基底層提供支撐和增強(qiáng)作用。在背襯板上固
19定了支撐支架。支撐支架被設(shè)計(jì)成用于安裝到動力刮磨裝置的可動機(jī) 體上。背襯元件以及具有靠近背襯元件的部分的基底層都從機(jī)體向下 懸垂下來,且相對于垂直方向偏斜第一角度,以使得基底層與背襯元
件的下部遠(yuǎn)端部分被定位成這樣在機(jī)體正常運(yùn)動的過程中,其被定 位在后方,并使得研磨材料基本上面朝向機(jī)體的運(yùn)動的前方方向。基 底層的下部遠(yuǎn)端部分延伸超出背襯元件,并被彎曲成第二角度,以便 于比背襯元件更為水平地進(jìn)行布置。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面, 一種研磨元件組件具有懸臂彈簧元件, 該元件具有用于安裝到機(jī)體上的第一部分。懸臂彈簧具有第二部分, 其相對于第一部分偏斜一定角度,以便于延伸遠(yuǎn)離機(jī)體。懸臂彈簧具 有第三遠(yuǎn)端,其帶有刀片形的研磨元件,研磨元件上固定有研磨顆粒, 用于與加工表面進(jìn)行接觸。刀片形研磨元件的延伸角度不同于第二部 分的角度。優(yōu)選地是,刀片形研磨元件向下懸垂,并相對于垂直方向 是偏斜的,以使得研磨元件的下部遠(yuǎn)端在正常運(yùn)動過程中處于懸臂彈 簧元件其它部分之后,有利地是,刀片形研磨元件的厚度遠(yuǎn)小于其寬 度和長度,且其尺寸和結(jié)構(gòu)被設(shè)計(jì)成能使得研磨元件的磨損率對應(yīng)于 研磨顆粒的磨損率,從而,隨著刀片形研磨元件的磨耗,在研磨顆粒 被磨耗到預(yù)定的量值之前,就能將新的研磨顆粒顯露出。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面,研磨元件具有被安裝到機(jī)體上的安裝部 分。研磨元件的遠(yuǎn)端部分從安裝部分向下懸垂。優(yōu)選地是,第一安裝 部分與遠(yuǎn)端部分被制成一體,且優(yōu)選地是用低碳鋼制成的。研磨顆粒 被釬焊到遠(yuǎn)端部分上。有利地是,遠(yuǎn)端部分是偏斜的,從而以傾斜的 角度抵接著工作表面。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面, 一種用于硬質(zhì)表面的表面整備研磨裝置 具有用于在硬質(zhì)加工表面上移動的機(jī)體,該機(jī)體例如是可繞其中心轉(zhuǎn) 動的墊片,其中的硬質(zhì)加工表面例如是水泥、石材、資磚或合成材料 表面。機(jī)體具有多個向下延伸的研磨元件,且這些研磨元件各自都具 有前向的研磨面,這些研磨面具有一定的寬度和長度。每個研磨元件 都具有基底層和固定到基底層前表面上的研磨材料。每個基底層都被背襯元件所加強(qiáng)。背襯元件被固定到機(jī)體上,以使得前向的研磨面基 本上面朝向機(jī)體的正常運(yùn)動方向。在另一種實(shí)施方式中,基底層利用 膠粘的方式粘接到背村元件上。
優(yōu)選地是,基底層與背襯元件從機(jī)體向下懸垂,且相對于垂直方
向偏斜5。到75。的角度,更為優(yōu)選地是,該角度在25°到60°之間,由
體上鄰近安裝部分的后方。研磨材料基本上面朝向機(jī)體運(yùn)動的前方。
還希望基底層與背襯元件處于相互抵接的狀態(tài),且兩者都被固定 到安裝支架上。安裝支架反過來被固定到機(jī)體上。
優(yōu)選地是,研磨元件在可轉(zhuǎn)動墊片的環(huán)周方向上間隔開,并靠近 墊片的環(huán)周邊。在一種實(shí)施方式中,研磨元件各自的前研磨面與可轉(zhuǎn) 動墊片的轉(zhuǎn)動中心在徑向上基本對齊。
有利地是,研磨材料是金剛石顆粒。金剛石顆粒的直徑尺寸在3.4 毫米與0.5微米之間變動,即處于5目(mesh,金剛石標(biāo)準(zhǔn)尺寸)與 120目之間。有利地是,研磨顆粒是被釬焊材料釬焊固定到基底層前 表面的遠(yuǎn)端部分上的?;讓由辖颂幍那安坎糠峙c后表面基本上沒 有釬焊材料和金剛石。優(yōu)選地是,基底層是由低碳鋼制成的,背襯元 件優(yōu)選地是由彈簧鋼制成的。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面,研磨元件組件具有基底層,研磨顆粒被 釬焊材料釬焊到該基底層的遠(yuǎn)端前部部分上,背襯元件被貼接固定到 基底層上,并為基底層提供柔性的支撐作用和增強(qiáng)作用。在背襯板上 固定了支撐支架。支撐支架被用于安裝到動力刮磨裝置的可動機(jī)體上, 其中的刮磨裝置例如是打磨機(jī)或清潔機(jī)。
優(yōu)選地是,研磨元件組件具有位于上部部分的、用于安裝到機(jī)體 的安裝支架以及傾斜的懸垂部分,其中的懸垂部分用于將背襯板以及 基底層安裝在相對于垂直方向成一定角度的位置上。有利地是,只是 在基底層的遠(yuǎn)端前部處,利用釬焊材料對由金剛石顆粒制成的研磨材 料進(jìn)行固定。


下面參照附圖,在附圖中
圖1是對一種研磨墊片所作的仰視透視圖,圖中的研磨墊片帶有 根據(jù)本發(fā)明的一種實(shí)施方式;
圖2是對圖1所示墊片所作的俯視透視圖3是放大的側(cè)視圖,表示了圖1中所示的一個研磨元件組件;
圖4是圖3所示研磨元件組件的放大正視圖5是圖3所示研磨元件組件的放大后視圖6是圖3所示研磨元件組件的側(cè)視分解圖7是與圖3類似的視圖,表示了研磨元件組件在混凝土表面上 處于彎曲的工作狀態(tài)時的情形;
圖8表示了將圖7所示的剛毛連接到側(cè)視圖所示的研磨元件組件 第二實(shí)施方式上的方法;
圖9中的側(cè)視圖表示了研磨元件組件的第三實(shí)施方式;
圖10中的側(cè)視圖表示了研磨元件組件的第四實(shí)施方式;
圖10a中的側(cè)視圖表示了研磨元件組件的另一種改型實(shí)施方式;
圖11中的仰視透視圖表示了研磨墊片的一種備選實(shí)施方式;
圖12是圖11所示墊片的俯視透視圖13中的放大側(cè)視圖表示了圖11中的一個研磨元件和懸臂彈簧; 圖14中的仰視平面圖表示了圖13中的研磨元件、懸臂彈簧、以 及墊片;
圖15是與圖14類似的視圖,表示了懸臂彈簧、研磨元件在墊片 下方被調(diào)節(jié)到徑向不同位置時的狀態(tài);
圖16是與圖15類似的視圖,表示了帶有調(diào)整孔的懸臂彈簧的一 種備選實(shí)施方式;
圖17是圖16所示實(shí)施方式的視圖,表示了研磨元件被可調(diào)整地 安裝到懸臂彈簧的遠(yuǎn)端上,圖中,研磨元件處于偏斜位置,且研磨元 件和懸臂彈簧被調(diào)整到徑向外側(cè)位置上;
圖18中的透視圖表示了一種備選的研磨元件組件;以及
圖19是圖18所示研磨元件組件的側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式
下面參見圖1,可轉(zhuǎn)動的研磨整備裝置10包括機(jī)體,如圖所示, 該機(jī)體例如為墊片或盤體12的形式,其具有多個研磨元件組件14, 這些組件沿環(huán)周方向安裝,并靠近盤體12的環(huán)周邊16。如圖2所示, 可轉(zhuǎn)動盤體12的上表面18上具有安裝孔20、以及常規(guī)的卡接鎖扣22, 鎖扣22用于將盤體可操作地連接到常見動力刮磨機(jī)械的驅(qū)動心軸上, 其中的刮磨機(jī)械例如是清潔機(jī)、拋光機(jī)、或打磨機(jī)。盤體12被設(shè)計(jì)成 繞其中心軸線24沿箭頭26所指的方向正常轉(zhuǎn)動。
從圖3到圖6可更為清楚地看出,每個研磨元件組件14都包括基 底層30、支撐層32、以及安裝支架34,這些部件被螺紋緊固件36組 裝到一起,并利用螺紋緊固件38固定到盤體12上。圖4所示的基底 層30具有遠(yuǎn)端部分40,其上涂覆有研磨顆粒42,這些研磨顆粒例如 僅存在前表面44上。顆粒可以是金剛石顆粒,其被釬焊材料46釬焊 到基底層30上。優(yōu)選地是,基底層30的近端安裝部分41與后表面 48上基本沒有金剛石顆粒42和釬焊材料46?;讓?0可以是帶鋼 (strapping steel)或其它低碳鋼的片體,釬焊材料46將金剛石顆粒 固定到該片體上。基底層還可以是其它任何金屬或高溫塑料材料,具 體材料取決于特定的應(yīng)用場合。
釬焊材料46可以是Nicro Braze LM或可從市面上購得的其它釬 焊材料。金剛石顆粒42還可被電鍍到基底層30上。金剛石顆粒的粒 度尺寸可在寬廣的范圍內(nèi)變動??梢灶A(yù)計(jì)顆粒的尺寸可以約為5目 到500目,甚至可^f吏用更為精細(xì)的顆粒一例如800目或1000目的顆粒, 具體的尺寸數(shù)值取決于應(yīng)用狀況。優(yōu)選地是,金剛石顆粒42是不同目 數(shù)規(guī)格顆粒的混合體,其中的顆粒尺寸在5目到120目之間,且很大 百分比(重量比)的金剛石顆粒在16目(1.2mm)到120目(110微 米)之間變動。金剛石顆粒42的單個結(jié)構(gòu)層位于刀片體上,且僅下邊 緣49上的金剛石與加工表面相接觸。
背襯層32與基底層30的后表面48貼接在一起。背襯層32可由 任何耐摩的材料制成,該材料可以是金屬或高溫聚合物,但優(yōu)選地是
23采用彈簧鋼等具有彈性的彈簧金屬。彈簧鋼層32未經(jīng)過釬焊,以保持 其彈性和彈性延展特性。如圖3和圖5所示,彈簧鋼背襯層32貼接著 基底層30后表面48的大部分,從而為基底層30提供了增強(qiáng)支撐作用。 在某些應(yīng)用場合中,基底層30的遠(yuǎn)端部分60可以延伸超出背襯層32 的端部62,以便于形成超過端部62的工作邊緣49。在其它的應(yīng)用場 合中,優(yōu)選地是,遠(yuǎn)端部分60并未超出端部62,從而,邊緣49與背 襯層32的遠(yuǎn)端62是平齊的。
基底層30和背襯層32可被固定到支架34上。支架34具有上部 部分50,其平貼在盤體12上。支架34的上部部分可利用螺紋緊固件 38進(jìn)行安裝,該螺紋緊固件穿過上部部分上的孔洞51,并與盤體12 上的螺紋孔53相接合。支架34還具有偏斜的懸垂部分52。該偏斜被 設(shè)定為與垂直方向成一定角度,該角度例如在5度與75度之間,但優(yōu) 選地是在25°到60°之間,且支架的遠(yuǎn)端54相對于盤體12的運(yùn)動方向 處于后方。螺紋緊固件36延伸穿過基底層和背襯層30、 32上的孔洞 61、 63,并與支架34上的螺紋孔55相接合,由此將兩個層30和32 夾置到一起,并將它們緊固到支架34的偏斜懸垂部分52上,以使得 兩個層沿著與支架部分52相同的偏斜角度延伸。
相對于墊片12的正常工作時的運(yùn)動方向,基底層30的前表面44 基本上是朝向前方的。如圖所示,前表面44可與墊片的徑向中心對齊, 且其徑向延伸寬度基本上正交于墊片的正常轉(zhuǎn)動方向。但是,還應(yīng)當(dāng) 指出的是,前表面的徑向延伸寬度可被設(shè)定為相對于徑向方向成其它 的角度,只要前表面44基本上面對著前方、以有效地露出金剛石顆粒 42即可。
基底層和背襯層30、 32的長度一即高度顯著地大于它們的厚度, 從而使得兩個層30、 32在特定的打磨操作過程中具有柔性。圖7示意 性地表示出了特定打磨操作過程中通常出現(xiàn)的撓曲狀況,此條件下, 撓曲狀況進(jìn)一步增大了前表面44與地板加工表面56相接合的角度。 按照這種方式,設(shè)置了單層金剛石,以使得最下面的部分能抵接到加 工表面,且隨著刀片體的垂直磨損,能將金剛石層的最下面部分磨耗掉。在其它的應(yīng)用場合中,支撐背襯元件32和支架34的尺寸可被設(shè) 計(jì)得能減小或顯著消除撓曲現(xiàn)象,這取決于具體的應(yīng)用場合。前面或 前表面44當(dāng)偏斜任何設(shè)定的角度或被設(shè)定為直立狀態(tài)時,具有一定的 垂直分量,使得只有下邊緣49與地板表面相接觸。
如圖所示,基底層和背襯層30、 32的寬度可大于其長度,以使得 各個研磨元件組件14的形狀類似于刀片。相對較大的寬度達(dá)到了較大 的結(jié)構(gòu)完整性,并減少了需要被安裝到盤體上的單個組件14的數(shù)目。 另外,寬大的刀片在地板表面上移動時,是在表面上掃過,而不會切 入到表面中。單層金剛石顆粒在寬闊的地板表面面積上延布,從而能 有效地拋光、打磨、或磨光地板表面。但是,該寬度可被顯著地改變, 以使得組件14看起來更像條帶、尖針、或剛毛形狀,而不像特定應(yīng)用 中的刀片形。
圖8表示了一種改型的實(shí)施方式,在該實(shí)施方式中,基底層30 被粘接固定到背襯層32上,從而并不延伸到緊固件36處。緊固件36 僅是將背襯層32夾緊到支架34上?;讓涌杀豢s短,縮短后的基底 層的整個前表面44上都可用釬焊材料46焊接固定著金剛石顆粒。優(yōu) 選地是,后表面48仍然保持不帶有顆粒42和釬焊材料46的狀態(tài)。
圖9表示了第三實(shí)施方式,在該實(shí)施方式中,基底層30和背襯層 32的遠(yuǎn)端60和62都終止于同一點(diǎn)處,從而,工作邊緣49并不延伸 超出背襯層32的端部62。
圖IO表示了第四實(shí)施方式,在該實(shí)施方式中,基底層30被直接 粘接結(jié)合到支架52的遠(yuǎn)端支腿52上。在該實(shí)施方式中,支腿52的尺 寸適于發(fā)揮作用,并作為其它實(shí)施方式中的支撐背襯層32。支架34 是用彈簧鋼制成的,其厚度和長度都經(jīng)過了設(shè)計(jì),以具備所需的彈性 撓曲量,并對基底層30提供背襯支撐。作為備選方案,支架34的厚 度可比圖示的要薄,且用低碳鋼制成,其支腿52被顯著地延長,以實(shí) 現(xiàn)更大的彈性作用和彈性撓曲。遠(yuǎn)端支腿52的角度也可針對于所需的 應(yīng)用條件而進(jìn)行調(diào)整。如圖10a所示,還可設(shè)想這樣的方案基底層 30和背襯層34被集成為單個一體構(gòu)件。該整體構(gòu)件是用低碳鋼制成
25的,但保留著一定的彈性阻抗作用。
圖18和圖19表示了另一種實(shí)施方式,在該實(shí)施方式中,基底層 30的遠(yuǎn)端部分60延伸超出背襯板32的端部62,且被沿著折痕63進(jìn) 一步地向后彎折,折痕靠近于端部62。這樣的彎折使得邊緣49在接 觸到加工表面時具有更小的銳角。如圖18和19所示,拐角92被圓化 處理,基底層30也可以具有斜削的拐角92,以形成平展(feathered) 的邊緣,從而減少了由研磨材料46在加工表面上造成的可見刮擦邊 緣。
圖11-13表示了一種可轉(zhuǎn)動的墊片,其帶有懸臂彈簧元件70, 其位于盤體12與研磨元件組件14之間。懸臂彈簧10取代了圖10中 所示的支架52,但其與彈性撓曲件具有相同的特性。彈簧元件70具 有位于近端的安裝端72,其具有安裝孔74,該安裝孔與緊固件38相 接合,緊固件38反過來再與螺紋孔53相接合。從圖14可更為清楚地 看出,緊固件38基本上是沿著盤體12的徑向軸線77進(jìn)行安裝的。
懸臂彈簧元件70具有中間部分76,其從盤體12向下傾斜。遠(yuǎn)端 部分78安裝著研磨元件組件14的上部部分,該安裝例如是利用緊固 件與螺母組件82實(shí)現(xiàn)的,該安裝組件延伸穿過分別位于遠(yuǎn)端部分78 和支架34上部部分50上的安裝孔80和51。
如圖14所示,懸臂彈簧70從其近端處的安裝部分72延伸出,并 基本上橫交于盤體12的徑向軸線77。帶有研磨表面46的基底層30 延伸超出盤體12的周邊16。在某些嚴(yán)苛或局促的環(huán)境中,希望對研 磨元件組件14做徑向向內(nèi)調(diào)整,以使其位于周邊16的限界內(nèi),同時, 該組件仍然被安裝在懸臂彈簧70上??赏ㄟ^在盤體12上設(shè)置可選的 螺紋孔86來實(shí)現(xiàn)該調(diào)節(jié)。如圖15所示,可將一個緊固件38從螺紋孔 53中去掉,將懸臂彈簧70向內(nèi)旋轉(zhuǎn),然后將緊固件38重新安裝到接 合孔86中。在這種調(diào)整后的狀態(tài)下,研磨元件組件14在盤體12下方 被固定到向徑向內(nèi)側(cè)調(diào)整的位置上。
圖16和圖17表示了對懸臂彈簧70和研磨元件組件14進(jìn)行調(diào)節(jié) 的另一實(shí)例。在圖16中,懸臂彈簧70以及研磨元件被表示為固定在徑向內(nèi)側(cè)位置上,此狀態(tài)與圖15所示狀態(tài)類似。但是,并非是釆用盤體12上的螺紋孔83,而是在彈簧70的安裝部分72上設(shè)置了另一個孔洞88,其與孔洞51分開。彈簧70可被樞轉(zhuǎn)到圖16所示的位置,孔洞88與緊固件38進(jìn)行接合來將懸臂彈簧固定在向徑向內(nèi)側(cè)調(diào)整的位置上。
如圖17所示,通過使緊固件38與兩孔洞51相接合,可將懸臂彈簧70調(diào)節(jié)到徑向外側(cè)位置。另外,遠(yuǎn)端部分78具有螺紋孔90,從而,當(dāng)懸臂彈簧被安裝到圖17所示的徑向外側(cè)調(diào)整位置時,研磨元件14可被固定在任何轉(zhuǎn)角位置上,以使其保持與盤體12中心基本上徑向?qū)R的狀態(tài)。對研磨元件徑向調(diào)整的一種方式是利用部分78上與孔洞80分開的孔洞90對研磨元件進(jìn)行固定。按照這種方式,研磨元件14的平面研磨部分46保持著與盤體12轉(zhuǎn)動方向大體上垂直的狀態(tài)。
懸臂彈簧70可用任何合適的彈簧鋼或其它具有屈服彈性但強(qiáng)固的材料制成,其它的材料例如是其它金屬一譬如低碳鋼或增強(qiáng)的結(jié)構(gòu)塑料,彈簧具有不同的厚度和長度,以便于實(shí)現(xiàn)與所在應(yīng)用條件、以及連接著該盤體12的動力打磨機(jī)和刮磨裝置的重量相適應(yīng)的所需彈性撓曲性。
盡管用在該實(shí)施方式中的研磨元件14是圖1-7所示的一種研磨元件,但可以設(shè)想也可用圖8-10a所示的研磨元件14來取代。還可設(shè)想支架34、背襯板32、以及懸臂彈簧70可被組合成單個整體單元,以實(shí)現(xiàn)懸臂彈簧70、支架34和/或背襯板32的功能。
在圖11-17所示的實(shí)施方式中,懸臂彈簧元件70增設(shè)了彈性偏置力,使得研磨元件既適于被用在水泥或類似的硬質(zhì)表面上,也適于被用在其它更為易于刮磨的表面一例如木材表面上。
對懸臂彈簧70的徑向調(diào)整可使得研磨印跡范圍大于可轉(zhuǎn)動墊片12,對于小的局促空間,還能形成較小的研磨印跡范圍。
另外,被合適的釬焊材料焊接到基底層上的金剛石顆粒是犧牲損耗性的。換言之,金剛石顆粒在被過度研磨而變圓之前,將從釬焊區(qū)域上剝落掉,以露出帶有新尖利邊緣的其它金剛石顆粒。因而,研磨元件的性能特性能保持高的狀態(tài),直至帶有金剛石顆粒的整個遠(yuǎn)端部分部分被垂直地磨掉為止。金剛石顆粒的犧牲防止了出現(xiàn)所謂的滾珠軸承效應(yīng)。如果金剛石顆粒停留的時間太長,其就會變圓,從而失去切削邊緣。如果磨禿的金剛石顆粒仍然留在基底層上,則只是這些磨禿的圓面點(diǎn)仍然與水泥加工表面接觸,滾圓后的點(diǎn)只是在表面上滑動而不能有效地切割。這些顆粒開始像滾珠軸承那樣工作,而不像是切削邊緣,導(dǎo)致裝置的性能急劇下降。金剛石顆粒的犧牲特性防止出現(xiàn)這樣的性能降低,并將研磨性能保持在研磨元件組件新被制出時的水平、或接近于該水平。研磨元件的垂直磨損率與單層金剛石的磨損率可直接對應(yīng)、或成比例地對應(yīng),以便于在金剛石顆粒磨損到預(yù)定量值時,將金剛石的下部邊緣犧牲掉,以露出其它垂直部分的單層金剛石顆粒。
另外,基底層30的平面特性、以及其厚度較其寬度和長度薄的結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了熱量的快速散失,使得覆蓋物或膠合鋪料不會由于過熱而熔化。刀片的傾斜和偏斜量可被設(shè)計(jì)成在刀片的周圍形成空氣循環(huán),像風(fēng)扇那樣使空氣流經(jīng)受熱區(qū)域,由此進(jìn)一步促進(jìn)了散熱。在使用諸如金剛石等研磨顆粒的條件下,金剛石由于其高硬度、并具有侵進(jìn)磨削能力,會產(chǎn)生出很多熱量,此時,散熱是非常必要的。
在高速工作的確產(chǎn)生了高熱積聚的情況下,隨著組件切入到混凝土表面以及其它頂部覆蓋物中,所獲得研磨效果將產(chǎn)生出大量的混凝土粉塵,從而使得頂部的覆蓋物在融化時立即被粉塵所覆蓋,由此形成了干燥的外表面,這就防止了熔化的油漆、膠合鋪料或塑料不利地粘連到研磨元件組件上。常識告訴我們必須通過減慢機(jī)器的轉(zhuǎn)速來減緩侵切,以防止出現(xiàn)高熱,并防止塑料、膠合鋪料或油漆覆蓋物融化。但是,更為強(qiáng)烈地切入到混凝土以及融化的塑料、油漆、或膠合鋪料中能形成灰塵覆蓋的效果,該效果阻止融化的覆蓋物粘連到研磨元件組件上。
可以看出本發(fā)明的結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了比現(xiàn)有金剛石或硬質(zhì)顆粒毛刷更優(yōu)、更有效的性能。薄的刀片結(jié)構(gòu)、風(fēng)扇效應(yīng)極大地改善了散熱性,
28這可對金剛石研磨顆粒進(jìn)行冷卻。在許多應(yīng)用場合中,該散熱效果避免除去的聚亞安酯帶來的膠合鋪料融化,不然的話,這些材料將粘連到研磨元件上。風(fēng)扇效應(yīng)還攪動了粉塵,使其懸浮起來,從而更好地清潔了地面,促進(jìn)了真空除吸作用。另外,薄的刀片組件在其邊緣處
對地板表面施加了較高的壓力/單位平方英寸(PSI),對于相同的重量
和切割功率,這能實(shí)現(xiàn)更好的磨削效果。對于這種改進(jìn)的研磨裝置,
實(shí)現(xiàn)有效刮磨所需的重量和功率被顯著地降低了,從而,裝置10可被
應(yīng)用在消費(fèi)級的清潔機(jī)械或打磨機(jī)械上,而不是更重的、功率更大的工業(yè)級動力機(jī)具上。
緊固件36、 38的設(shè)置使得工作部件30、 32、 34可被迅速地、可拆卸地固定到盤體12上。當(dāng)需要更換部件30、 32、 34時,可根據(jù)需要容易地拆卸并更換這些部件。但還可以設(shè)想也可采用不同于圖示緊固件的其它緊固件。還可設(shè)想到研磨元件組件14可以是可拆換的整體組包,可利用卡槽或插銷配合件將該組包作為整體固定到盤體12上。
按照上述方式,帶有少數(shù)幾個研磨元件組件的研磨裝置成為了一種有效的刮磨裝置,其適用于在涂敷新的覆蓋物之前對水泥地板進(jìn)行整備,其中,研磨元件組件的數(shù)目可以是兩個或三個,這些組件位于盤體墊片的底部,沿圓周方向間隔開,并靠近環(huán)周邊。
在不悖離由后附權(quán)利要求所限定的本發(fā)明范圍和核心思想的前提下,可作出其它形式的改動和改型。
權(quán)利要求
1.一種硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其包括用于在加工表面上移動的機(jī)體;多個懸臂彈簧元件,每個彈簧元件的近端都被固定到所述機(jī)體上,所述多個懸臂彈簧元件各自還具有遠(yuǎn)端的懸臂部分;多個向下延伸的研磨元件,每個研磨元件的上部部分都被安裝到所述懸臂彈簧元件的對應(yīng)遠(yuǎn)端部分上;以及所述研磨元件具有基底層,該基底層帶有研磨顆粒;所述多個向下延伸的研磨元件具有各自的主研磨刮擦面,該主研磨刮擦面具有一定寬度和長度;以及所述基底的厚度遠(yuǎn)小于所述寬度和長度,且該基底的尺寸和結(jié)構(gòu)被設(shè)計(jì)成能使得所述研磨元件的磨損率對應(yīng)于所述研磨顆粒的磨損率,由此,隨著所述基底的磨耗,在所述研磨顆粒被磨耗到預(yù)定的量值之前,可將新的研磨顆粒顯露出。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述機(jī)體是可轉(zhuǎn)動的墊片,其被制成繞著中心點(diǎn)轉(zhuǎn)動; 所述懸臂彈簧元件和研磨元件在環(huán)周方向上間隔開,并接近于可轉(zhuǎn)動墊片的環(huán)周邊;以及所述懸臂彈簧元件和所述研磨元件具有安裝裝置,該安裝裝置用 于將研磨元件可調(diào)節(jié)地固定在選定的不同側(cè)向角度上,以調(diào)整所述研 磨元件相對于可轉(zhuǎn)動墊片中心的徑向角度。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述懸臂彈簧元件和所述可轉(zhuǎn)動墊片具有安裝裝置,該安裝裝置用于將懸臂彈簧元件可調(diào)節(jié)地固定在選定的不同側(cè)向角度上,以調(diào)整 所述研磨元件相對于可轉(zhuǎn)動墊片中心的徑向位置。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨元件從所述懸臂彈簧元件向下懸垂,且相對于垂直方向是傾 斜的,以使得對應(yīng)研磨元件的下部遠(yuǎn)端在所述機(jī)體的正常運(yùn)動過程中位于研磨元件與懸臂彈簧連接部位的后方,且主研磨面被定位成基本 上沿著所述機(jī)體正常運(yùn)動的方向面向前方。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨元件側(cè)邊緣與底邊緣之間的拐角被切成圓角。
6. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨元件從所述懸臂彈簧元件向下懸垂,且相對于垂直方向是傾 斜的,以使得研磨元件的下部遠(yuǎn)端在所述機(jī)體的正常運(yùn)動過程中位于 研磨元件與懸臂彈簧連接部位的后方,且主研磨面被定位成基本上沿 著所述機(jī)體正常運(yùn)動的方向面向前方。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨元件側(cè)邊緣與底邊緣之間的拐角被切成圓角。
8. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述機(jī)體是可轉(zhuǎn)動的墊片,其被制成繞著中心點(diǎn)轉(zhuǎn)動;所述懸臂彈簧元件和研磨元件在環(huán)周方向上間隔開,并接近于可 轉(zhuǎn)動墊片的環(huán)周邊;以及所述懸臂彈簧元件和所述研磨元件具有安裝裝置,該安裝裝置用 于將研磨元件可調(diào)節(jié)地固定在選定的不同側(cè)向角度上,以調(diào)整所述研 磨元件相對于可轉(zhuǎn)動墊片中心的徑向角度。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨元件側(cè)邊緣與底邊緣之間的拐角被切成圓角。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨元件都具有基底層、以及固定到所述基底層前表面上的研磨材料;每個研磨元件都被安裝到背襯元件上;所述背襯元件以及具有靠近所述背襯元件的部分的所述基底層從 所述機(jī)體向下懸垂,且相對于垂直方向偏斜第一角度,以使得基底層 與背襯元件的下部遠(yuǎn)端部分被定位成這樣在所述機(jī)體正常運(yùn)動的過 程中,其被定位在后方,并使得研磨材料基本上面朝向所述機(jī)體運(yùn)動 的前方方向;以及所述基底層的下部遠(yuǎn)端部分延伸超出所述背襯元件,并被彎曲成 第二角度,以便于比所述背襯元件更為水平地進(jìn)行布置。
11. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨元件都具有基底層、以及固定到所述基底層前表面上的研磨材料;每個研磨元件都被安裝到背襯元件上;所述背襯元件以及具有靠近所述背襯元件的部分的所述基底層從 所述機(jī)體向下懸垂,且相對于垂直方向偏斜第一角度,以使得基底層 與背襯元件的下部遠(yuǎn)端部分被定位成這樣在所述機(jī)體正常運(yùn)動的過 程中,其被定位在后方,并使得研磨材料基本上面朝向所述機(jī)體運(yùn)動 的前方方向;以及所述基底層的下部遠(yuǎn)端部分延伸超出所述背襯元件,并被彎曲成 第二角度,以便于比所述背襯元件更為水平地進(jìn)行布置。
12. —種硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其包括 用于在加工表面上移動的才幾體;所述機(jī)體具有多個向下延伸的研磨元件,且這些研磨元件各自都 具有前向的研磨面,這些研磨面具有一定的寬度和長度。所述研磨元件都具有基底層、以及固定到所述基底層前表面上的 研磨材料;每個研磨元件都被安裝到背襯元件上;所述背襯元件被固定到機(jī)體上,以使得前向研磨面基本上面對著 所述機(jī)體的正常運(yùn)動方向;所述背襯元件以及具有靠近所述背襯元件的部分的所述基底層從 所述機(jī)體向下懸垂,且相對于垂直方向偏斜第一角度,以使得基底層 與背襯元件的下部遠(yuǎn)端部分被定位成這樣在所述機(jī)體正常運(yùn)動的過 程中,其被定位在后方,并使得研磨材料基本上面朝向所述機(jī)體運(yùn)動 的前方方向;以及所述基底層的下部遠(yuǎn)端部分延伸超出所述背襯元件,并被彎曲成 第二角度,以便于比所述背襯元件更為水平地進(jìn)行布置。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨元件側(cè)邊緣與底邊緣之間的拐角被切成圓角。
14. 一種硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其包括 用于在加工表面上移動的機(jī)體;多個懸臂彈簧元件,每個彈簧元件的近端都被固定到所述機(jī)體上, 且懸臂彈簧元件還具有遠(yuǎn)端的懸臂部分;以及多個向下延伸的刀片形研磨元件,其位于所述懸臂彈簧元件上對 應(yīng)的遠(yuǎn)端部分處。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨元件具有帶有研磨顆粒的基底層; 所述多個向下延伸的研磨元件具有各自的前向主研磨面,該前向主研磨面具有一定的寬度和長度;以及所述基底層被連接到懸臂彈簧上,以使得前向主研磨面基本上面 朝向所述機(jī)體運(yùn)動的正常方向。
16. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述懸臂彈簧元件與所述研磨元件具有安裝裝置,該安裝裝置用于可 調(diào)整地將研磨元件固定在相對于懸臂彈簧元件不同的選定側(cè)向角度 上。
17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述懸臂彈簧元件與所述機(jī)體具有安裝裝置,該安裝裝置用于將懸臂 彈簧元件可調(diào)節(jié)地固定到相對于所述機(jī)體不同的選定側(cè)向角度上。
18. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨元件從所述懸臂彈簧元件向下懸垂,且相對于垂直方向是傾斜的,以使得研磨元件的下部遠(yuǎn)端在所述機(jī)體的正常運(yùn)動過程中 位于研磨元件與懸臂彈簧連接部位的后方,且主研磨面基本上沿著所 述機(jī)體正常運(yùn)動的方向面向前方。
19. 一種硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其包括 用于在加工表面上移動的機(jī)體;多個懸臂彈簧元件,每個彈簧元件的近端都被固定到所述機(jī)體上,且懸臂彈簧元件還具有遠(yuǎn)端的懸臂部分;以及遠(yuǎn)端懸臂部分具有向下延伸的刀片形研磨元件,該刀片形研磨元 件上固定有研磨顆粒,用于與所述加工表面進(jìn)行接觸。
20. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述懸臂彈簧元件和所述機(jī)體具有安裝裝置,該安裝裝置用于將懸臂彈簧元件可調(diào)節(jié)地固定在選定的不同側(cè)向角度上,以調(diào)整所述研 磨元件相對于機(jī)體的位置。
21. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述刀片形研磨元件向下懸垂,且相對于垂直方向是傾斜的,以使得研磨元件的下部遠(yuǎn)端在所述機(jī)體的正常運(yùn)動過程中位于懸臂彈簧 元件的后方。
22. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述刀片狀研磨元件的厚度遠(yuǎn)小于其寬度和長度,且其尺寸和結(jié)構(gòu)被 設(shè)計(jì)成使得所述研磨元件的磨損率對應(yīng)于所述研磨顆粒的磨損率,由 此,隨著所述基底的磨耗,在所述研磨顆粒被完全磨耗到預(yù)定的量值 之前,新的研磨顆??娠@露出。
23. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述機(jī)體是可轉(zhuǎn)動的墊片,其被制成繞著中心點(diǎn)轉(zhuǎn)動; 所述懸臂彈簧元件在環(huán)周方向上間隔開,并接近于可轉(zhuǎn)動墊片的環(huán)周邊;以及所述研磨元件按照一定的斜角姿態(tài)向下懸垂,以形成了風(fēng)扇葉片, 在所述可轉(zhuǎn)動墊片的正常轉(zhuǎn)動過程中,風(fēng)扇葉片用于促使空氣循環(huán)流 動。
24. —種研磨元件組件,其包括基底層,其前部部分上利用釬焊材料釬焊有研磨顆粒; 背襯元件,其被貼接著所述基底層的上部部分進(jìn)行固定,并且向 所述基底層的上部部分提供柔性支撐和增強(qiáng)作用; 固定在背襯板上的支撐支架;所述支撐支架被設(shè)計(jì)成用于安裝到動力刮磨裝置的可動機(jī)體上;所述背襯元件以及具有靠近所述背襯元件的部分的所述基底層都 從所述機(jī)體向下懸垂下來,且相對于垂直方向偏斜第一角度,以使得基底層與背襯元件的下部遠(yuǎn)端部分被定位成這樣在機(jī)體正常運(yùn)動的 過程中,其被定位在后方,并使得研磨材料基本上面朝向所述機(jī)體運(yùn) 動的前方方向;以及所述基底層的下部遠(yuǎn)端部分延伸超出所述背襯元件,并被彎曲成 第二角度,以便于比所述背襯元件更為水平地進(jìn)行布置。
25. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的研磨元件組件,其特征在于所述研 磨元件側(cè)邊緣與底邊緣之間的拐角被切成圓角。
26. —種研磨元件組件,其具有懸臂彈簧元件,該懸臂彈簧元件具有用于安裝到機(jī)體上的第一部分;所述懸臂彈簧的第二部分,其相對于所述第一部分偏斜一定角度,以便于延伸遠(yuǎn)離所述機(jī)體;所述懸臂彈簧的第三遠(yuǎn)端,其帶有刀片形的研磨元件,研磨元件 上固定有研磨顆粒,用于與加工表面進(jìn)行接觸;以及所述刀片形研磨元件的延伸角度不同于所述第二部分的角度。
27. 根據(jù)權(quán)利要求26所述的研磨元件組件,其特征在于所述刀 片形研磨元件向下懸垂,并相對于垂直方向是偏斜的,以使得研磨元 件的下部遠(yuǎn)端在所述機(jī)體的正常運(yùn)動過程中處于懸臂彈簧元件之后。
28. 根據(jù)權(quán)利要求27所述的研磨元件組件,其特征在于所述刀 片形研磨元件的厚度遠(yuǎn)小于其寬度和長度,且其尺寸和結(jié)構(gòu)被設(shè)計(jì)成 能使得所述研磨元件的磨損率對應(yīng)于所述研磨顆粒的磨損率,由此, 隨著刀片形研磨元件的磨耗,在所述研磨顆粒被磨耗到預(yù)定的量值之 前,可將新的研磨顆粒顯露出。
29. —種研磨元件組件,其具有 研磨元件,其具有被安裝到機(jī)體上的安裝部分; 所述研磨元件的遠(yuǎn)端部分與所述安裝部分制成一體,且從所述安裝部分懸垂下,并相對于所述安裝部分所在的平面彎折成一定角度;以及研磨顆粒被釬焊到遠(yuǎn)端部分上。
30. 根據(jù)權(quán)利要求29所述的研磨元件組件,其特征在于所述遠(yuǎn) 端部分是偏斜的,從而以傾斜的角度抵接著工作表面。
31. 根據(jù)權(quán)利要求29所述的研磨元件組件,其特征在于所述研 磨元件是用低碳鋼制成的。
32. —種硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其包括 用于在加工表面上移動的機(jī)體;所述機(jī)體具有多個向下延伸的研磨元件,且這些研磨元件具有各 自的前向的研磨面,這些研磨面具有一定的寬度和長度;所述研磨元件都具有基底層和固定到所述基底層前表面上的研磨 材料;每個研磨元件都被安裝到背襯元件上;所述背襯元件被固定到機(jī)體上,以使得前向的研磨面基本上面朝 向所述機(jī)體的正常運(yùn)動方向;以及所述基底層和所述背襯元件都從所述機(jī)體向下懸垂,且相對于垂 直方向是偏斜的,以使得所述基底層與背村元件的下部遠(yuǎn)端部分被定 位成這樣在所述機(jī)體正常運(yùn)動的過程中,其被定位在后方,并使得 研磨材料基本上面朝向所述機(jī)體運(yùn)動的前方方向。
33. 根據(jù)權(quán)利要求32所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底層與所述背襯元件處于相互抵接的狀態(tài),且兩者都被固定到 安裝支架上;以及所述安裝支架被固定到所述機(jī)體上。
34. 根據(jù)權(quán)利要求33所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述機(jī)體是可轉(zhuǎn)動的墊片,其被制成繞著中心點(diǎn)轉(zhuǎn)動; 所述研磨元件圍繞著墊片在環(huán)周方向上間隔開,并接近于墊片的環(huán)周邊;以及所述研磨元件各自的前研磨面與所述可轉(zhuǎn)動墊片的轉(zhuǎn)動中心在徑 向上基本對齊。
35. 根據(jù)權(quán)利要求34所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨材料是不同目數(shù)規(guī)格的研磨顆粒;以及所述研磨顆粒被釬焊材料釬焊固定到所述基底層前表面的遠(yuǎn)端部 分上,所述基底層的前部近端部分與后表面上沒有所述釬焊材料和研 磨顆粒。
36. 根據(jù)權(quán)利要求34所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底層是由低碳鋼制成的;以及所述背襯元件是由彈簧鋼制成的。
37. 根據(jù)權(quán)利要求36所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨材料是不同目數(shù)規(guī)格的金剛石顆粒;以及 所述研磨顆粒被釬焊材料釬焊固定到所述基底層前表面的遠(yuǎn)端部分上,所述基底層的前部近端部分與后表面上沒有所述釬焊材料和金 剛石顆凈立。
38. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底層利用膠粘方式粘接到所述背襯元件上。
39. 根據(jù)權(quán)利要求32所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底層是由低碳鋼制成的;以及所述背襯元件是由彈簧鋼制成的。
40. 根據(jù)權(quán)利要求32所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述背襯元件是懸垂的支腿,該懸垂的支腿被一體地制成安裝支架的一部分;所述基底層被固定到所述安裝支架的所述懸垂支腿上;以及 所述安裝支架被固定到所述機(jī)體上。
41. 根據(jù)權(quán)利要求40所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底層是由低碳鋼制成的;以及 所述背襯元件是由彈簧鋼制成的。
42. 根據(jù)權(quán)利要求40所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底層利用膠粘方式粘接到所述背襯元件上。
43. —種研磨元件組件,其包括基底層,其前部遠(yuǎn)端部分上利用釬焊材料釬焊有研磨顆粒; 背襯元件,其被貼接著所述基底層進(jìn)行固定,并且向基底層提供 柔性支撐和增強(qiáng)作用;固定在背襯元件上的支撐支架;所述支撐支架被設(shè)計(jì)成用于安裝到動力刮磨裝置的可動機(jī)體上;以及所述安裝支架具有用于安裝到所述機(jī)體上的上部部分、以及用于 將所述背襯板和所述基底層安裝成相對于垂直方向成一定角度的傾斜 懸垂部分。
44. 根據(jù)權(quán)利要求43所述的研磨元件組件,其特征在于 所述研磨材料包括金剛石顆粒,該金剛石顆粒被釬焊材料焊接到所述基底層的僅前部遠(yuǎn)端部分上;以及所述金剛石顆粒是目數(shù)規(guī)格在5目與120目之間的混合物。
45. —種研磨元件組件,其包括安裝支架,其具有用于安裝到機(jī)體上的安裝支腿、以及懸垂支腿; 基底層,其前部遠(yuǎn)端部分上利用釬焊材料釬焊有研磨顆粒; 所述釬焊材料在研磨顆粒與基底層之間形成結(jié)合層;以及 所述基底的后表面與所述懸垂支腿形成貼接的關(guān)系,并固定到該 懸垂支腿上。
46. 根據(jù)權(quán)利要求45所述的研磨元件組件,其特征在于 所述研磨材料包括金剛石顆粒,該金剛石顆粒被釬焊材料焊接到所述基底層的僅前部遠(yuǎn)端部分上;以及所述金剛石顆粒是不同目數(shù)規(guī)格的混合物。
47. 根據(jù)權(quán)利要求36所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底層具有抵近所述背襯元件的主體部分,該主體部分相對于垂直方向成第一角度,以使得基底層與背襯元件的下部遠(yuǎn)端被定位 成在所述機(jī)體正常運(yùn)動過程中處于后方,且研磨材料基本上沿著所述 機(jī)體運(yùn)動方向面朝向前方;以及所述基底層的下部遠(yuǎn)端延伸超出所述背襯元件,以便于在裝置在加工表面上正常工作時,相對于所述主體部分形成朝向所述下部遠(yuǎn)端 水平位置的另外彎曲部。
48. 根據(jù)權(quán)利要求47所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底的厚度遠(yuǎn)小于所述研磨面的寬度和長度,且基底的結(jié)構(gòu)被設(shè)計(jì)成使得所述研磨元件的磨損率對應(yīng)于所述研磨顆粒的磨損率, 由此,隨著所述基底的磨耗,在所述研磨顆粒被磨耗達(dá)到無效部分的 預(yù)定量值之前,所述研磨顆粒被犧牲掉以露出其它研磨顆粒。
49. 根據(jù)權(quán)利要求32所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底的厚度遠(yuǎn)小于所述研磨面的寬度和長度,且基底的結(jié)構(gòu)被設(shè)計(jì)成使得所述研磨元件的磨損率對應(yīng)于所述研磨顆粒的磨損率, 由此,隨著所述基底的磨耗,在所述研磨顆粒被磨耗達(dá)到無效部分的 預(yù)定量值之前,所述研磨顆粒被犧牲掉以露出其它研磨顆粒。
50. 根據(jù)權(quán)利要求32所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底層具有抵近所述背襯元件的主體部分,其相對于垂直方向偏斜第一角度,以使得基底層與背襯元件的下部遠(yuǎn)端被定位成在所 述機(jī)體正常運(yùn)動過程中處于后方,且研磨材料基本上沿著所述機(jī)體運(yùn) 動方向面朝向前方;以及所述基底層的下部遠(yuǎn)端延伸超出所述背襯元件,以便于在裝置在 加工表面上正常工作時,相對于所述主體部分形成朝向所述下部遠(yuǎn)端 水平位置的另外彎曲部。
51. 根據(jù)權(quán)利要求44所述的研磨元件組件,其特征在于 所述基底層具有抵近所述背襯元件的主體部分,該主體部分從所述機(jī)體向下懸垂,相對于垂直方向偏斜第一角度,以使得基底層與背 襯元件的下部遠(yuǎn)端被定位成在所述機(jī)體正常運(yùn)動過程中處于后方,且 研磨材料基本上沿著所述機(jī)體運(yùn)動方向面朝向前方;以及所述基底層的下部遠(yuǎn)端延伸超出所述背襯元件,以便于在裝置在 加工表面上正常工作時,相對于所述主體部分形成朝向所述下部遠(yuǎn)端 水平位置的另外彎曲部。
52. 根據(jù)權(quán)利要求43所述的研磨元件組件,其特征在于所述基底層具有抵近所述背襯元件的主體部分,該主體部分從所 述機(jī)體向下懸垂,相對于垂直方向偏斜第一角度,以使得基底層與背 襯元件的下部遠(yuǎn)端被定位成在所述機(jī)體正常運(yùn)動過程中處于后方,且研磨材料基本上沿著所述機(jī)體運(yùn)動方向面朝向前方;以及所述基底層的下部遠(yuǎn)端延伸超出所述背襯元件,以便于在裝置在 加工表面上正常工作時,相對于所述主體部分形成朝向所述下部遠(yuǎn)端 水平位置的另外彎曲部。
53. —種硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其包括 用于在加工表面上移動的機(jī)體;所述機(jī)體具有多個向下延伸的研磨元件,且這些研磨元件各自都 具有前向的主研磨面,這些研磨面具有一定的寬度和長度;所述研磨元件都具有基底層、以及固定到所述基底層前主體表面 上的研磨材料;所述研磨元件具有基本上均勻的厚度;所述基底層被連接到機(jī)體上,以使得前向主研磨面基本上面向所 述機(jī)體的正常運(yùn)動方向;以及所述基底的厚度遠(yuǎn)小于所述研磨面的寬度和長度,且基底的結(jié)構(gòu) 被設(shè)計(jì)成使得所述研磨元件的磨損率對應(yīng)于所述研磨顆粒的磨損率, 由此,隨著所述基底的磨耗,在所述研磨顆粒被磨耗達(dá)到無效部分的 預(yù)定量值之前,所述研磨顆粒被犧牲掉以露出其它研磨顆粒。
54. 根據(jù)權(quán)利要求53所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底層從所述機(jī)體向下懸垂,且相對于垂直方向是傾斜的,接部位的后方。
55. 根據(jù)權(quán)利要求54所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底層是用低碳鋼制成的。
56. 根據(jù)權(quán)利要求53所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底層是用低碳鋼制成的;以及所述基底層從所述機(jī)體向下懸垂,且相對于垂直方向是傾斜的,接部位的后方。
57. —種硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其包括 用于在加工表面上移動的機(jī)體;所述機(jī)體具有多個向下延伸的研磨元件,且這些研磨元件各自都 具有前向的主研磨面,這些研磨面具有一定的寬度和長度;所述研磨元件都具有基底層、以及固定到所述基底層前主體表面 上的研磨材料;所述研磨元件具有基本上均勻的厚度;所述基底層被連接到機(jī)體上,以使得前向主研磨面基本上面向所 述機(jī)體的正常運(yùn)動方向;所述基底的厚度遠(yuǎn)小于所述研磨面的寬度和長度,且基底的結(jié)構(gòu) 被設(shè)計(jì)成使得所述研磨元件的磨損率對應(yīng)于所述研磨顆粒的磨損率, 由此,隨著所述基底的磨耗,在所述研磨顆粒被磨耗達(dá)到無效部分的 預(yù)定量值之前,所述研磨顆粒被犧牲掉以露出其它研磨顆粒;以及所述基底層是由低碳鋼制成的。
58. 根據(jù)權(quán)利要求57所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述基底層上利用釬焊材料釬焊有研磨顆粒,所述釬焊材料形成了所 述研磨顆粒與所述基底層之間的結(jié)合層。
59. —種硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其包括 用于在加工表面上移動的機(jī)體;所述機(jī)體具有多個向下延伸的研磨元件,研磨元件具有一定的厚 度,并具有各自的前向的研磨面,研磨面具有一定的垂直分量,且具 有一定寬度和長度;所述厚度遠(yuǎn)大于所述寬度和長度;所述研磨元件都具有研磨材料,該研磨材料被固定到所述基底層 的前表面上;以及所述研磨元件被固定到機(jī)體上,使得具有垂直分量的前向研磨面 基本上面朝向所述才幾體的運(yùn)動方向。
60. 根據(jù)權(quán)利要求59所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于所述研磨元件是傾斜的,以使得前部下邊緣與工作表面相接觸。
61. 根據(jù)權(quán)利要求59所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述機(jī)體是可轉(zhuǎn)動的墊片,其被制成繞著中心點(diǎn)轉(zhuǎn)動; 所述研磨元件圍繞著塾片在環(huán)周方向上間隔開,并接近于墊片的環(huán)周邊;以及所述研磨元件具有各自的前研磨面,該前研磨面與所述可轉(zhuǎn)動墊 片的轉(zhuǎn)動中心在徑向上基本對齊。
62. 根據(jù)權(quán)利要求54所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨材料是硬質(zhì)研磨顆粒,該硬質(zhì)研磨顆粒以單層的形式固定到 所述基底層前表面的遠(yuǎn)端部分上。
63. 根據(jù)權(quán)利要求62所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨材料是目數(shù)規(guī)格不等的金剛石顆粒;以及所述金剛石顆粒被用釬焊材料以單層的形式釬焊到所述基底層前 表面的遠(yuǎn)端部分上。
64. 根據(jù)權(quán)利要求60所述的硬質(zhì)表面研磨整備裝置,其特征在于 所述研磨元件的厚度遠(yuǎn)小于所述研磨面的所述寬度和長度,且研磨元件的結(jié)構(gòu)被設(shè)計(jì)成使得所述研磨元件的磨損率對應(yīng)于所述研磨顆 粒的磨損率,由此,隨著所述研磨元件的磨耗,在所述研磨顆粒被磨 耗達(dá)到無效部分的預(yù)定量值之前,所述研磨顆粒被犧牲掉以露出其它 研磨顆粒。
全文摘要
一種研磨、刮磨、或磨削裝置(10)具有用于在混凝土表面上移動的機(jī)體(12)。機(jī)體具有懸垂的研磨元件(14),其帶有基底層(30)和背襯層(32),背襯層被安裝到支撐支架(34)上,支架反過來被固定到機(jī)體上?;讓?30)具有前表面(44),其遠(yuǎn)端部分(40)上利用釬焊材料(46)釬焊有研磨顆粒(42)。
文檔編號B24D13/16GK101678535SQ200880006909
公開日2010年3月24日 申請日期2008年1月18日 優(yōu)先權(quán)日2007年1月19日
發(fā)明者S·L·佩爾穆特, S·帕盧莎伊 申請人:愛普希-技術(shù)公司
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