專利名稱：：涂覆基材的方法，用于實施所述方法的設備和用于這樣的設備的金屬供應裝置的制作方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及用于涂覆行進的基材的方法，更特別是用具有基于金屬元素例如鎂(但決不局限于此)的層來涂覆鋼帶材。
背景技術：
：已知用于在行進的基材上進行沉積的各種方法，所述行進的基材例如鋼帶材、由金屬層構成的金屬涂層，或者不同金屬或金屬合金的若干連續(xù)層。在這些方法中，可以提及熱浸鍍鋅和電沉積，或甚至各種真空沉積(磁控濺射、焦耳(Joule)蒸發(fā)、電子轟擊和SIP(自引發(fā)等離子體))方法。真空沉積法具有如下優(yōu)勢環(huán)境友好和能夠沉積幾乎所有已知元素以及合金。當需要金屬層連續(xù)沉積于行進的基材上時，出現(xiàn)了如何用待沉積的金屬供給沉積腔室的問題。已知第一種類型的涂覆設備，其中在傳送(例如通過泵送或者通過氣壓計原理)到沉積區(qū)前，通過在爐子中熔化來將待沉積的金屬保持為液體形式。然而，這種類型的設備不適于沉積升華的金屬元素，即直接從固相變?yōu)闅庀嗟哪切┙饘僭?。已知第二種類型的涂覆設備，其中待沉積的金屬是以規(guī)則方式引入其中的固體形式例如線材形式，或者是置于惰性石墨坩鍋中的細粒形式。這些設備能夠沉積升華的金屬元素，但沉積過程是不穩(wěn)定的，導致涂層的厚度隨時間過程而不均勻，并且在加熱功率方面受限，阻礙了足夠高沉積速率的實現(xiàn)。
發(fā)明內容因此，本發(fā)明的目的是通過如下方式來彌補現(xiàn)有技術方法的缺點提供用可升華金屬或金屬合金對行進的基材進行涂覆的方法，該方法允許以高沉積速率進行隨時間穩(wěn)定的操作。為此目的，本發(fā)明的第一方面是通過真空蒸發(fā)用可升華金屬或金屬合金層來涂覆行進的基材的至少一側的涂覆方法，其中布置所述金屬或金屬合金以便面向基材的所述側，所述金屬或金屬合金的形式為彼此接觸的至少兩個坯錠(lingot)，在涂覆期間，面向基材所述側的所述坯錠表面保持與基材平行且與之保持恒定距離。根據(jù)本發(fā)明的方法還可以單獨或組合包括多種特征-可以同時(連續(xù)或順序地)移動可升華金屬或金屬合金的坯錠，以便使其面向基材的表面保持與基材平行且與基材保持恒定距離；-可以通過平移來同時移動可升華金屬或金屬合金的坯錠，與面向基材的表面相對的坯錠表面與傾斜面接觸；-可以通過如下方式同時移動坯錠在與基材行進的平面平行的平面內且在與基材行進的方向垂直的方向上進行平移，與面向基材的表面相對的坯錠表面同傾斜面接觸；-可以通過如下方式同時移動坯錠在與基材行進的平面平行的平面內且在與基材行進的方向平行的方向上進行平移，與面向基材的表面相對的坯錠表面與傾斜面接觸；-基材可以豎向行進，坯錠彼此堆疊；-可以通過真空蒸發(fā)在基材的兩側上涂覆可升華金屬或金屬合金層，布置金屬或金屬合金以便面向基材的每一側，所述金屬或金屬合金的形式為彼此接觸的至少兩個坯錠，在涂覆期間，使面向基材每一側的坯錠表面保持與基材側面平行且與之保持恒定距離；-用于基材每一側的金屬或金屬合金可以相同或不同；-真空蒸發(fā)方法可以是通過等離子體增強蒸發(fā)例如通過SIP(自引發(fā)等離子體)蒸發(fā)進行的沉積方法；-金屬或金屬合金可以選自鋅、鎂、鉻、錳和硅或它們的合金，且優(yōu)選鎂或其合金；-可以在反應性氣氛中通過真空蒸發(fā)進行沉積；及-行進的基材可以是鋼帶材(任選地已預先涂覆)，且優(yōu)選已預先用鋅或鋅合金涂覆的鋼帶材，且在該鋼帶材上沉積鎂或鎂合金層。本發(fā)明的第二方面是使用可升華金屬或金屬合金層在基材S的至少一側上對其進行連續(xù)涂覆的涂覆設備，該涂覆設備包含真空腔室，該真空腔室含有-真空蒸發(fā)涂覆器；-用于使所述基材S行進通過涂覆器的裝置；及-用于向涂覆器供給金屬或金屬合金的供料器1、11、21，所述金屬或金屬合金的形式為坯錠Ll、…、Ln、L，l.....L，n，并且包含用于使所述坯錠L1.....Ln、L，l.....L，n保持彼此接觸且用于使坯錠Ll.....Ln、L，l、…、L，n的面向基材S的待涂覆側的表面與基材S平行且與之保持恒定距離的裝置。根據(jù)本發(fā)明的設備還可以單獨或組合地包含以下實施方案-供料器1、11、21可包含用于順序地或連續(xù)地同時移動坯錠Ll.....Ln、L，l.....L，n的裝置，以便使所述坯錠的面向基材S的表面保持與基材S平行且與之保持恒定距離；-供料器11可包含至少一個傾斜面2、2，，坯錠Ll、…、Ln、L，1、...、L，n通過它們的與面向基材S的一側相對的側面同該至少一個傾斜面2、2，接觸，用于移動坯錠L1.....Ln、L，l.....L，n的裝置能夠通過如下方式使所述坯錠移動在與基材S行進的平面平行的平面內且在與基材S行進的方向垂直的方向上進行平移，并且在坯錠L1.....Ln、L，l、…、L，n的移動方向上，傾斜面2、2，的傾斜度增加；-用于移動坯錠L1.....Ln、L，l.....L，n的裝置可由至少一個活塞3、3，構成，該至少一個活塞3、3，作用在與傾斜面2、2，的第一端接觸的第一坯錠L1、L，l上，且相對于基材S橫向延伸，在所述傾斜面2、2，上，第一坯錠L1、L，l依次作用于其前面的坯錠L2.....Ln、L，2、…、L，n上直至所述傾斜面2、2'的第二端；-該設備可以具有第一傾斜面2和第二傾斜面2，，該第一傾斜面2提供有坯錠L1.....Ln和第一活塞3，該第一活塞3作用在與第一傾斜面2的第一端接觸的第一坯錠Ll上，且第二傾斜面2，提供有坯錠L，l.....L，n和第二活塞3，，該第二活塞3，作用在與第二傾斜面3，的第一端接觸的第一坯錠L，l上，所述活塞3、3，能夠以相同方向或相反方向產生作用；-該設備可包含兩個罐體4，用于通過重力回收用廢坯錠U，所述罐體位于每一傾斜面2、2，第二端的下方；-供料器11、21可具有至少一個傾斜面12、22，所述坯錠L1、…、Ln通過它們的與面向所述基材S的一側相對的側面同該至少一個傾斜面12、22接觸，用于移動坯錠的裝置能夠通過如下方式使坯錠移動在與基材S行進的平面平行的平面內且在與基材S行進的方向平行的方向上進行平移，并且在所述坯錠L1......Ln移動方向上，傾斜面12、22的傾斜度增加；-用于移動坯錠Ll......Ln的裝置可由至少一個活塞13、23構成，該至少一個活塞13、23作用在與所述傾斜面12、22的第一端接觸的第一坯錠L1上，且相對于基材S縱向延伸，在傾斜面12、22上，第一坯錠L1依次作用于其前面的坯錠L2......Ln上直至該傾斜面12、22的第二端；-該設備可包含罐體，用于通過重力回收用廢坯錠，所述罐體位于傾斜面12、22的第二端的下方；-基材S可以豎向行進，供料器21包含至少一個豎向板24，坯錠L1.....Ln堆疊在該板上，所述板與至少一個豎向活塞23接觸；-該設備可包含面向基材S的每一側的供料器1、11、21，每個供料器l、11、21能夠包含相同或不同的金屬或金屬合金，且真空蒸發(fā)器面向基材S的每一側，它們全部位于同一真空腔室內；-該設備可包括用于將反應性氣氛引入真空腔室的裝置；-真空蒸發(fā)器可以是等離子增強的蒸發(fā)沉積裝置，例如用于通過自引發(fā)等離子體(SIP)蒸發(fā)進行沉積的裝置；及-金屬或金屬合金的坯錠Ll.....Ln、L，l.....L，n可以選自鋅、鎂、鉻、錳、硅及其合金。本發(fā)明的第三方面是向上述真空涂覆設備供給金屬或金屬合金的供料器1、11、21。通過閱讀以下描述(僅以實施例的方式給出)且參考附圖，本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點將變得明了，在附圖中-圖l:現(xiàn)有技術方法使用的金屬坯錠的截面圖；-圖2:本發(fā)明設備的第一實施方案的立體圖；-圖3:本發(fā)明設備的第二實施方案的立體圖；-圖4:本發(fā)明設備的第三實施方案的立體圖。具體實施例方式在本發(fā)明的背景中，術語"蒸發(fā)方法"理解為意指通過在低于大氣壓的壓力下進行蒸發(fā)的任何沉積方法。優(yōu)選地，將通過SIP(自引發(fā)等離子體)方法進行蒸發(fā)，其中真空蒸發(fā)與磁控濺射相結合。該方法的特點在于，在用于產生自由基和/或離子的氣體中，在基材和含有待沉積材料的坩鍋之間產生等離子體。在通常操作條件下，這些離子將被加速到有待沉積于基材上的材料的表面上并拉出表面原子，然后這些原子沉積在基材上。同時，在等離子體中產生的離子的轟擊將待沉積的材料加熱，使蒸發(fā)過程加入磁控濺射。讀者可特別參考專利EP780486以獲得關于實施該方法的更多細節(jié)。待涂覆的基材移動經過真空腔室，該真空腔室面向含有待沉積材料的坩鍋。相對于基材對該坩鍋施加負偏壓，而基材優(yōu)選接地。位于坩鍋后面的磁體陣列約束其中產生的等離子體。為了使待涂覆的基材相對于坩鍋很精確地定位，通常使該基材位于支撐輥上，該支撐輥可相對于其軸旋轉。然而，當處理剛性板形式例如厚金屬板或玻璃板的基材時，這種輥是不必要的。因此，根據(jù)本發(fā)明的方法涉及在行進的基材上沉積金屬或金屬合金層。更特別但不僅僅地，將該方法適用于處理鋼帶材，優(yōu)選涂覆有鋅或鋅合金的帶材。術語"鋅合金"理解為意指包含至少50%鋅的任何復合物，且能夠含有例如鋁、鐵、硅等?？梢酝ㄟ^任何已知鍍鋅方法獲得該現(xiàn)有技術涂層，例如熱浸鍍鋅、電沉積和通過真空蒸發(fā)進行的沉積。然而，優(yōu)選真空沉積方法。在本發(fā)明的背景中，沉積的涂層是金屬涂層，該金屬涂層基于在通過真空蒸發(fā)而進行沉積期間可以升華的元素。特別地，這涵蓋了例如鋅、鎂、鉻、錳和硅的元素。特別優(yōu)選的是，在預涂覆有鋅的帶材上沉積鎂，然后可以通過任何合適措施進行擴散處理，以便最后獲得在耐腐蝕性方面具有高性能的Zn-Mg涂層。本發(fā)明人首先在靜態(tài)塊體鎂坯錠上進行了蒸發(fā)試驗，該鎂坯錠面向行進通過SIP真空沉積設備的鋼帶材。在一定操作時間之后，發(fā)現(xiàn)沉積的涂層不具有均勻厚度且沉積速率相對低。因此必須中斷沉積，使得能夠觀察坯錠的狀態(tài)，在圖1中再現(xiàn)了其圖像。可見，坯錠的耗損是很不規(guī)則的，且特別地其加重與高磁場區(qū)一致。不希望受限于某一特定理論，本發(fā)明人認為沉積方法的不穩(wěn)定性直接歸因于坯錠的不規(guī)則耗損。為使該方法穩(wěn)定，本發(fā)明人因此將塊體坯錠分成至少兩個坯錠且將這些坯錠的頂側與待涂覆的基材保持平行且與之保持恒定距離，連續(xù)或順序地補償因蒸發(fā)引起的耗損。為此目的，開發(fā)了使用SIP方法的本發(fā)明的第一涂覆設備，這在圖2中部分再現(xiàn)，在該圖中可以看到供料器1。將供料器置于待涂覆的基材(未示出)下方，其在用于約束磁場的磁體A系統(tǒng)的上方水平行進，所述磁體位于水箱中。將對電極(未示出)置于供料器1下方，且通過對電極/磁體組裝件和鋼帶材之間的放電產生等離子體。為了使該系統(tǒng)更易于理解，借助于回路T顯示了優(yōu)先侵蝕區(qū)域，其代表了磁場強烈的區(qū)域。供料器1包含第一傾斜面2，其傾斜度從左到右增加。該傾斜面可以由任何合適的材料制成，只要其在操作期間不易于被濺射，這將污染獲得的涂層。該第一傾斜面2可以例如由鎢制成。將一系列n個坯錠Ll-Ln置于該傾斜面2上，這些坯錠彼此接觸且其高度從左至右降低。調節(jié)傾斜面2的傾斜度，以便補償坯錠L1-Ln的耗損，使得坯錠L1-Ln的頂側保持相互平行且平行于在設備1上方行進的待涂覆的基材，垂直于傾斜面2。因此在磁體和坯錠頂側之間保持了恒定的距離，并在坯錠的頂側和待涂覆的基材側面之間也保持恒定的距離。其原因在于，為了獲得盡可能最均勻的等離子體，電極(這里由位于一邊的坯錠和位于另一邊的基材構成)之間的距離保持盡可能恒定是重要的。磁控管的磁體和坯錠的頂側之間的距離保持恒定也是同樣重要的。如果因坯錠的消耗而使這些條件未滿足，則在其頂側的任一點，等離子體將會局部增強或減弱，在該等離子體中產生不穩(wěn)定，從而在蒸發(fā)中產生不穩(wěn)定。因而，傾斜面2的使用使其能夠在蒸發(fā)區(qū)的每一點獲得很穩(wěn)定的等離子體。將兩個側向鴒引導物6提供在坯錠L1-Ln任一側，其將這些坯錠Ll-Ln保持合適取向。活塞3位于第一坯錠L1左邊，該活塞3作用于該第一坯錠L1上以便使其以平移方式向右移動，同時仍被傾斜面2和側向引導物6所引導。坯錠L1的移動使位于傾斜面2上的所有坯錠以級聯(lián)方式移位直到末端坯錠Ln在重力下跌落到用于收集用廢坯錠的回收罐體4中，所述用廢坯錠可^皮熔化或再利用。當活塞3的末端移動到達傾斜面2的第一端時，其隨后在相反方向驅動。其次，作用于支撐板(該支撐板支撐著一組P個新坯錠Rl-Rp)上的豎向活塞5向上驅動，以便提供與傾斜面2的第一端平齊的新坯錠。然后將活塞3與坯錠R1的側部接觸，在與傾斜面2接觸的情況下將其壓靠于第一坯錠L1。因而可見，可以用坯錠對供料器進行連續(xù)供給而不中斷該過程，并保持使用的坯錠表面平直且平行于待涂覆的基材，這歸因于傾斜面2以及通過活塞3施加的規(guī)則移動。為了覆蓋強磁場區(qū)T的主要部分且因此優(yōu)化沉積速率，將各方面均與供料器l相同的第二供料器1，置于面向區(qū)域T的第二部分。這里，活塞3，使第二系列n個坯錠L，l-L，n從右向左移動，傾斜面2，處于與傾斜面2相反的方向，但很可能為區(qū)域T的每一半提供在所有方面均相同的兩個供料器。可見，在該實施方案中，能夠通過根據(jù)區(qū)域T的寬度確定坯錠寬度來優(yōu)化坯錠尺寸。第二實施方案，如圖3所示，顯示了供料器11以與第一實施方案相似的方式包含支撐著一系列n個坯錠Ll-Ln的傾斜面12，其在水平面(未示出)內相對于行進的基材橫向延伸。供料器11的環(huán)境與圖2情形中所述的相同。通過活塞13的作用移動坯錠L1,其在傾斜面12內推動坯錠L1-Ln直到它們在重力下跌落到回收罐體(未示出)中，該回收罐體位于傾斜面12的第二端的下方。通過由兩個活塞15移動的板14用坯錠再次填充該系統(tǒng)，該板支撐著一堆P個坯錠R1-Rp，且以與對應于圖2的裝置相同的方式進行操作。將兩個側向鎢引導物16提供在坯錠Ll-Ln的兩側上，所述引導物使這些坯錠Ll-Ln保持適當排列。還可見，根據(jù)本發(fā)明的設備的該實施方案允許方便的調節(jié)以適合于不同寬度的待涂覆基材，因為所需要的是調節(jié)坯錠的寬度和部件16的間距，以便獲得精確具有進行中的涂覆所需要的寬度的供料器。第三實施方案，如圖4所述，顯示了供料器21以與第一實施方案相似的方式包含支撐著一系列n個坯錠Ll-Ln的兩個傾斜面22，其相對于在豎向面內行進的基材S橫向延伸。這些傾斜面22還具有側向頰板，其確保坯錠的恰當排列。通過兩個豎向活塞23在豎向板24上的作用移動坯錠Ll,由此沿傾斜面22推動坯錠Ll-Ln。當頂部坯錠Ln超出傾斜面22的末端時，水平活塞25在側向驅動該坯錠的側面，因而可以從旁邊將其去除。該實施方案允許以豎向方位容易地涂覆基材。該方位還能夠通過將根據(jù)本發(fā)明的供料器置于基材的每一側來很容易地施加雙側涂覆，同時仍位于同一減壓腔室中。試驗使用根據(jù)第一實施方案的設置和SIP蒸發(fā)設備進行試驗。使用厚度為4cm且寬度為10cm的純鋅坯錠或純鎂坯錠以涂覆厚度為50-200cm不等的鋼帶材。使每一鋼帶材在支撐輥上以100m/min行進。坯錠蒸發(fā)速率也會改變。坯錠頂側和待涂覆的鋼帶材之間的距離保持為5cm，且在帶材行進的方向，將對應于沉積區(qū)的腔室開口設置為40cm。在進行的所有試驗中，確定為獲得約1.5jam厚的涂層所必需的坯錠行進速度。在以下三個表格中給出了結果<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>這些表格顯示出，坯錠行進速率基本上取決于待涂覆的帶材寬度且取決于涂覆材料的蒸發(fā)速率。使用根據(jù)第二和第三實施方案的設置獲得了相似的結果。更一般地，發(fā)現(xiàn)l-15cm/min的坯錠行進速率允許實現(xiàn)所需涂層厚度目標。如果需要獲得更大涂層厚度，則所需要的是使基材穿過一系列涂覆器。因而，為了在上述表格所示的蒸發(fā)條件下獲得約7.5jam厚的鋅，將需要五個涂覆器。不管采用何種實施方案，本發(fā)明還具有不需要使用石墨坩鍋的優(yōu)點，因此使得能夠在反應性氣氛中發(fā)生沉積。這使得特別能夠以高沉積速率沉積例如金屬的氧化物、氮化物、硫化物和氟化物。在本發(fā)明的幾個優(yōu)選實施方案的描述中可見，可特別在基材水平或豎向行進時進行涂覆。不言而喻，還可以按介于水平和豎向之間的任何基材方位進行涂覆。權利要求1.涂覆方法，用于通過真空蒸發(fā)可升華金屬或金屬合金層來涂覆行進的基材的至少一側，其中布置所述金屬或金屬合金以便面向基材的所述側，所述金屬或金屬合金的形式為彼此接觸的至少兩個坯錠，在涂覆期間，面向基材所述側的所述坯錠的表面保持與基材平行且與基材保持恒定距離。2.根據(jù)權利要求1的涂覆方法，其中連續(xù)地或順序地，同時移動可升華金屬或金屬合金的所述坯錠，以便使面向基材的坯錠表面保持與基材平行且與基材保持恒定距離。3.根據(jù)權利要求2的涂覆方法，其中通過平移來同時移動可升華金屬或金屬合金的所述坯錠，與面向基材的表面相對的坯錠表面同傾斜面接觸。4.根據(jù)權利要求3的涂覆方法，其中通過如下方式來同時移動所述坯錠在與基材行進的平面平行的平面內且在與基材行進的方向垂直的方向上進行平移，與面向基材的表面相對的坯錠表面同所述傾斜面接觸。5.根據(jù)權利要求3的涂覆方法，其中通過如下方式來同時移動所述坯錠在與基材行進的平面平行的平面內且在與基材行進的方向平行的方向上進行平移，與面向基材的表面相對的坯錠表面同所述傾斜面接觸。6.根據(jù)權利要求1-5中任一項的涂覆方法，其中所述基材豎向行進，所述坯錠彼此堆疊。7.根據(jù)權利要求1-6中任一項的涂覆方法，其中通過真空蒸發(fā)在所述基材的兩側上涂覆可升華金屬或金屬合金層，布置所述金屬或金屬合金以便面向基材的每一側，所述金屬或金屬合金的形式為彼此接觸的至少兩個坯錠，在涂覆期間，使面向基材每一側的所述坯錠的表面保持與基材所述側平行并且與之保持恒定距離。8.根據(jù)權利要求7的涂覆方法，其中用于基材每一側的所述金屬或金屬合金相同。9.根據(jù)權利要求7的涂覆方法，其中用于基材每一側的所述金屬或金屬合金不同。10.根據(jù)權利要求1-9中任一項的涂覆方法，其中真空蒸發(fā)方法是通過等離子體增強蒸發(fā)進行的沉積方法。11.根據(jù)權利要求1-10中任一項的涂覆方法，其中所述金屬或金屬合金選自鋅、鎂、鉻、錳、硅及其合金。12.根據(jù)權利要求11的方法，其中所述金屬或金屬合金是鎂或其合金。13.根據(jù)權利要求1-12中任一項的方法，其中可以在反應性氣氛中通過真空蒸發(fā)進行沉積。14.根據(jù)權利要求1-13中任一項的方法，其中行進的基材是鋼帶材，任選地已預先涂覆。15.根據(jù)權利要求14的方法，其中行進的基材是已預先用鋅或鋅合金涂覆的鋼帶材，且在該鋼帶材上沉積鎂或鎂合金層。16.涂覆設備，用于利用可升華金屬或金屬合金層在基材(S)的至少一側上對其進行連續(xù)涂覆，該涂覆設備包含真空腔室，該真空腔室含有-真空蒸發(fā)涂覆器；-用于使所述基材(S)行進通過涂覆器的裝置；及-用于向涂覆器供給金屬或金屬合金的供料器(1、11、21)，所述金屬或金屬合金為坯錠(Ll.....Ln、L，l.....L，n)的形式，并且包含用于使所述坯錠(Ll.....Ln、L，l.....L，n)保持彼此接觸且用于使所述坯錠(Ll.....Ln、L，l.....L，n)的面向基材(S)的待涂覆側的表面保持與所述基材(S)平行且與之保持恒定距離的裝置。17.根據(jù)權利要求16的涂覆設備，其中所述供料器(l、11、21)包含用于順序地或連續(xù)地同時移動所述坯錠(Ll.....Ln、L，l.....L，n)的裝置，以便使所述坯錠的面向基材(S)的表面保持與所述基材(S)平行且與之保持恒定距離。18.根據(jù)權利要求17的設備，其中所述供料器(11)包含至少一個傾斜面(2、2，)，所述坯錠(Ll.....Ln、L，l.....L，n)通過它們的與面向所述基材(S)的一側相對的側面同所述至少一個傾斜面(2、2，)接觸，用于移動所述坯錠(L1.....Ln、L，l.....L，n)的所述裝置通過如下方式使所述坯錠移動在與基材(S)行進的平面平行的平面內且在與基材(S)行進的方向垂直的方向上進行平移，并且在所述坯錠(Ll.....Ln、L，l、…、L，n)的移動方向上，所述傾斜面(2、2，)的傾斜度增加。19.根據(jù)權利要求18的設備，其中用于移動坯錠(L1.....Ln、L，l.....L，n)的所述裝置由至少一個活塞(3，3，)構成，該至少一個活塞(3,3，)作用在與所述傾斜面(2、2，)的第一端接觸的第一坯錠(Ll、L，l)上，且相對于基材(S)在橫向延伸，在所述傾斜面(2、2')上，所述第一坯錠(L1、L，l)依次作用于其前面的坯錠(L2.....Ln、L，2.....L，n)上，直至該傾斜面(2、2，)的笫二端。20.根據(jù)權利要求19的設備，該設備具有第一傾斜面(2)和第二傾斜面(2，)，該第一傾斜面(2)提供有坯錠(Ll.....Ln)和第一活塞(3),該第一活塞(3)作用在與所述第一傾斜面(2)的第一端接觸的第一坯錠(Ll)上，且第二傾斜面(2，)提供有坯錠(L，l.....L，n)和第二活塞(3，)，該第二活塞(3，)作用在與所述第二傾斜面(3，)的第一端接觸的第一坯錠(L，l)上，所述活塞(3、3，)能夠以相同方向或相反方向產生作用。21.根據(jù)權利要求20的設備，該設備包含用于通過重力回收用廢坯錠(U)兩個罐體(4),所述罐體位于所述傾斜面(2、2，)的每個第二端的下方。22.根據(jù)權利要求17的設備，其中所述供料器(ll、21)具有至少一個傾斜面U2、22)，所述坯錠(L1......Ln)通過它們的與面向所述基材(S)的一側相對的側面同所述至少一個傾斜面(12、22)接觸，用于移動坯錠的所述裝置通過如下方式使坯錠移動在與基材(S)行進的平面平行的平面內并且在與基材(S)行進的方向平行的方向上進行平移，在所述坯錠(L1......Ln)行進的移動方向上，所述傾斜面(12、22)的傾斜度增加。23.根據(jù)權利要求22的設備，其中用于移動坯錠(L1......Ln)的所述裝置由至少一個活塞(13、23)構成，該至少一個活塞(13、23)作用在與所述傾斜面(12、22)的第一端接觸的第一坯錠(Ll)上，且相對于基材(S)在縱向延伸，在所述傾斜面(12、22)上，所述第一坯錠(Ll)依次作用于其前面的坯錠(L2......Ln)上直至所述傾斜面(12、22)的第二端。24.根據(jù)權利要求23設備，該設備包含用于通過重力回收用廢坯錠的罐體，所述罐體位于傾斜面(12、22)的所述第二端的下方。25.根據(jù)權利要求22-24中任一項的設備，其中基材(S)豎向行進，所述供料器(21)包含至少一個豎向板(24)，所述坯錠(L1、....、Ln)堆疊于該至少一個豎向板(24)上，所述板與至少一個豎向活塞(23)接觸。26.根據(jù)權利要求16-25中任一項的設備，該設備包含面向所述基材(S)每一側的供料器(1、11、21)，每個供料器(1、11、21)能夠包含相同或不同的金屬或金屬合金，且真空蒸發(fā)器面向所述基材(S)的每一側，它們全部位于同一真空腔室內。27.根據(jù)權利要求16-26中任一項的設備，該設備包含用于將反應性氣氛引入所述真空腔室的裝置。28.根據(jù)權利要求16-27中任一項的設備，其中所述真空蒸發(fā)器是等離子增強蒸發(fā)沉積裝置。29.根據(jù)權利要求16-28中任一項的設備，其中金屬或金屬合金的所述坯錠(Ll......Ln、L，l.....L，n)選自鋅、鎂、鉻、錳和硅或它們的合金。30.用于向真空涂覆設備供給金屬或金屬合金的供料器(1、11、21)，該供料器如權利要求16-29中任一項所定義。全文摘要本發(fā)明涉及通過真空蒸發(fā)可以升華的金屬或金屬合金層來涂覆行進的基材的至少一個表面的方法，其中相對基材的表面提供金屬或金屬合金，該金屬或金屬合金的形式為彼此接觸的至少兩個坯錠，在涂覆過程期間，將朝向基材表面的坯錠的表面與該基材保持平行且與之保持恒定距離；本發(fā)明還涉及用于實施所述方法的涂覆設備和用于這樣的設備的供應裝置(1)。文檔編號C23C14/24GK101622371SQ200880005583公開日2010年1月6日申請日期2008年1月16日優(yōu)先權日2007年1月16日發(fā)明者D·查雷克斯,D·雅克,F·斯珀尼姆申請人:安賽樂米塔爾法國公司