本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種柔性觸控顯示領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

隨著科技的發(fā)展，柔性顯示oled發(fā)展越來越迅速與普及，為搭配柔性oled顯示，柔性觸控屏亦發(fā)展起來；傳統(tǒng)的觸控屏是制備在glass基材上，采用ito作為感應(yīng)電極，金屬作為導(dǎo)線。由于柔性基材的變化，在基材上制備感應(yīng)sensor和金屬走線面臨新的挑戰(zhàn)。

現(xiàn)有柔性觸控屏采用ito作為電極，然而通過磁控濺射蒸鍍上去的ito在進(jìn)行柔性基板彎折測試時(shí)出現(xiàn)龜裂而脫落的問題。通過改善ito鍍膜工藝，目前ito厚度以下可以滿足柔性基膜彎折測試要求，然而ito膜厚的限制導(dǎo)致ito的方阻太大，嚴(yán)重制約柔性觸控屏的尺寸和觸控性能。

為提高柔性觸控屏的尺寸與觸控性能，同時(shí)滿足柔性觸控屏彎折測試要求。本專利提供一種使用延展性高的金屬作為感應(yīng)sensor，制備出金屬-mesh網(wǎng)印結(jié)構(gòu)，以提高柔性屏彎折性能。

但是，金屬傳感器(金屬sensor)，目前廣泛應(yīng)用于各類的電容式觸控屏中。通過刻蝕玻璃基板上的金屬形成金屬電極陣列，由于金屬的反射率遠(yuǎn)高于周圍玻璃基板沒有金屬區(qū)域的反射率，兩個(gè)區(qū)域反射率相差較大，視覺反差明顯，肉眼可觀察到金屬電極影。針對金屬觸控玻璃存在金屬電極影的問題，本文通過金屬反射率的疊層設(shè)計(jì)來達(dá)到金屬外觀消影以及采用緩沖層附著力滿足信賴性要求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種觸控板及其顯示屏設(shè)計(jì)方案，涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，能夠解決觸控板觸控性能不佳的問題。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

本發(fā)明實(shí)施例提供一種觸控電極，該觸控電極設(shè)置在基板上，其特征在于，該觸控電極包括金屬層和緩沖層，所述金屬層為用作觸控電極的電極導(dǎo)線的延展性好的金屬，所述緩沖層為提高金屬層和基板之間的粘附力的金屬或金屬合金，其中，所述緩沖層設(shè)置于所述金屬層和基板之間。

優(yōu)選的，所述金屬層上方設(shè)置一低反射率的金屬氧化物層。

優(yōu)選的，所述金屬層為ag或cu；所述緩沖層選自以下其中之一或其組合：mo、mo合金、ti、ti合金。

優(yōu)選的，所述金屬氧化物為以下至少其中之一：ag氧化物、ag合金氧化物、cu氧化物、mo氧化物、monb合金氧化物、ti氧化物、ti合金氧化物。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種觸控板，包括至少一個(gè)第一觸控電極組件和至少一個(gè)第二觸控電極組件，所述第一觸控電極組件包括第一觸控電極和覆蓋第一觸控電極的第一有機(jī)絕緣層，所述第二觸控電極組件包括第二觸控電極和覆蓋第二觸控電極的第二有機(jī)絕緣層，其中，所述第一觸控電極和所述第二觸控電極為上述觸控電極。

優(yōu)選的，所述第一有機(jī)絕緣層的折射率小于第二有機(jī)絕緣層折射率。

優(yōu)選的，所述第一有機(jī)絕緣層的折射率≤1.4，所述第二有機(jī)絕緣層的折射率≥1.6。

優(yōu)選的，所述第一有機(jī)絕緣層和所述第二有機(jī)絕緣層的厚度相等，所述第一有機(jī)絕緣層厚度為0.5-4um，所述第二有機(jī)絕緣層厚度為0.5-4um。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種觸控顯示屏，包括上述的觸控板。

本發(fā)明具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是：一種觸控屏設(shè)計(jì)方案，使用耐彎折性能更高的金屬材料ag&cu取代ito，通過制備金屬網(wǎng)格制備感應(yīng)sensor，同時(shí)金屬方阻更低，可實(shí)現(xiàn)大尺寸與高性能觸控的要求。本專利公開一種疊層設(shè)計(jì)方案，金屬底層制備緩沖層改善附著力，金屬底層制備低反射層，降低反射率，同時(shí)使用高低折射率的材料，保證金屬線反射率與無金屬線反射率一致，達(dá)到金屬消影的目的。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控電極具體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸控板平面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種包括觸控板的顯示屏截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4-1為本發(fā)明實(shí)施例觸控板金屬消影原理結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4-2為本發(fā)明實(shí)施例觸控板金屬消影原理結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為采用本發(fā)明實(shí)施列的觸控顯示屏金屬消影效果圖；

附圖標(biāo)記：

1-第一緩沖層；2-第一金屬層；3-第一低反射層；1’-第二緩沖層；2’-第二金屬層；3’-第二低反射層；4-第一有機(jī)絕緣層；5-第二有機(jī)絕緣層；6-柔性基板；7-粘結(jié)劑；8-oled面板；10-第一觸控電極；20-第二觸控電極；a-第一觸控電極組件；b-第二觸控電極組件。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種觸控顯示屏，所述觸控顯示屏包括觸控板結(jié)構(gòu)和柔性顯示面板。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控電極具體結(jié)構(gòu)示意圖，一種第一觸控電極10包括第一金屬層2、第一緩沖層1、第一低反射層3。所述緩沖層1為金屬或金屬合金，如mo或mo合金、ti或者ti合金，以提高金屬層和基板之間的粘附力，使觸控板與基板穩(wěn)定結(jié)合，同時(shí)第一緩沖層1具有較好的延展性能，滿足基板多樣性的彎折變化，尤其是實(shí)現(xiàn)柔性顯示，但不僅限于柔性顯示。所述的第一金屬層2位于所述第一緩沖層1的上方，第一金屬層2為延展性好的的金屬如ag、cu材料等，用作觸控電極的電極導(dǎo)線，相比傳統(tǒng)觸控電極材料ito，觸控電極方阻小，信噪比大，有效提升觸控屏的觸控靈敏度。所述第一低反射層3位于所述第一金屬層2的上方，所述第一低反射層3為金屬氧化物，如ag或者ag合金氧化物；cu或者cu氧化物；mo或者monb合金氧化物，ti或ti合金氧化物，第一低反射層3有效降低第一觸控電極10表面光線的反射，達(dá)到金屬消影的目的。

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸控板平面結(jié)構(gòu)示意圖，一種觸控屏包括至少一個(gè)第一觸控電極10和至少一個(gè)第二觸控電極20，所述的第一觸控電極10和所述的第二觸控電極20的排列為圖2所示，所述多個(gè)第一觸控電極10平行且間隔設(shè)置，所述多個(gè)第二觸控電極20平行且間隔設(shè)置，所述多個(gè)第一觸控電極10和所述多個(gè)第二觸控電極20交叉設(shè)置。第一觸控電極10作為rx，第二觸控電極20作為tx，第一觸控電極10與第二觸控電極20之間使用絕緣層隔絕。由于現(xiàn)有技術(shù)用于觸控電極的金屬的反射率遠(yuǎn)高于周圍玻璃基板沒有金屬區(qū)域的反射率，兩個(gè)區(qū)域反射率相差較大引起視覺反差明顯。針對金屬觸控玻璃存在金屬電極影的問題，本發(fā)明實(shí)施例通過有機(jī)絕緣層的疊層設(shè)計(jì)來達(dá)到金屬外觀消影。

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種包括觸控板的顯示屏截面結(jié)構(gòu)示意圖(圖2觸控屏c-c’的橫截面)，本發(fā)明實(shí)施例提供一種包括上述觸控板結(jié)構(gòu)的顯示屏，顯示屏包括有機(jī)致電發(fā)光器件oled面板8,柔性基板6，所述oled面板8和柔性基板6之間設(shè)置粘膠劑7(oca)，通過粘膠劑7，oled面板8和柔性基板6貼合在一起。觸控板設(shè)置在所述柔性基板6上，所述觸控板包括第一觸控電極組件a、第二觸控電極組件b；所述第一觸控電極組件a包括第一觸控電極10和覆蓋第一觸控電極10的第一有機(jī)絕緣層4；所述第二觸控電極組件b包括第二觸控電極20和覆蓋第二觸控電極20的第二有機(jī)絕緣層5。第一觸控電極10，包括第一金屬層2、第一緩沖層1、第一低反射層3，第二觸控電極20，包括第二金屬層2’、第二緩沖層1’、第二低反射層3’。所述第一/第二金屬層2/2’設(shè)置于第一/第二緩沖層1/1’的上方；所述第一/第二低反射層3/3’設(shè)置于第一/第二金屬層2/2’的上方。

需要說明的是，第一有機(jī)絕緣層4折射率小于第二有機(jī)絕緣層5的折射率，所述第一有機(jī)絕緣層折射率≤1.4，所述第二有機(jī)絕緣層折射率≥1.6。所述第一有機(jī)絕緣層4厚度與所述第二有機(jī)絕緣層5厚度設(shè)置相同。所述第一有機(jī)絕緣層4厚度為0.5-4um，所述第二有機(jī)絕緣層5厚度為0.5-4um。

由于光線經(jīng)過兩層不同折射率的有機(jī)絕緣層反射，使金屬區(qū)和非金屬區(qū)反射率接近一致，達(dá)到金屬消影的效果。

具體的，如圖4所示，金屬區(qū)域的反射和非金屬區(qū)域的反射分為兩種情況：第一種情況如圖4-1所示，反射光線經(jīng)過第一金屬層2的反射光線不經(jīng)過第二金屬層2’的情況；第二種情況如圖4-2所示反射光線經(jīng)過第二金屬層2’的反射與反射光線不經(jīng)過第一金屬層2的情況。使用高折射率第二有機(jī)絕緣層5與低折射率第一有機(jī)絕緣層4搭配，使金屬反射區(qū)與無金屬區(qū)反射差異減小，同時(shí)第一金屬層2和第二金屬層2’上的第一低反射層3和第二低反射層3’對金屬光線的反射進(jìn)一步減小，兩者結(jié)合下使金屬反射區(qū)與非金屬反射區(qū)一致，解決金屬消影的問題。

圖5為采用本發(fā)明實(shí)施列的觸控顯示屏金屬消影效果圖，通過低反射率金屬層&有機(jī)絕緣膜層疊層設(shè)計(jì)，降低金屬線網(wǎng)格處反射，使之與非金屬線網(wǎng)格處反射相同，金屬線外觀不明顯。圖中實(shí)施例采用入射波長為550nm，第一有機(jī)絕緣層4厚度1.5um，折射率n值為1.5，第二有機(jī)絕緣層5厚度1.5um，折射率n值為1.9；第一和第二低反射層3/3’為cu氧化物金屬膜；第一和第二金屬層2/2’為cu，第一和第二緩沖層1/1’為ti合金。金屬表面黑化可以將反射率指標(biāo)為11％至22％，通過與高低有機(jī)絕緣膜層高低折射率值匹配使反射率更相近，達(dá)到如圖5所示消影的效果。

由于使用延展性好的金屬ag、cu取代透明導(dǎo)電層ito，可以滿足柔性耐彎折的要求，同時(shí)觸控屏阻抗低，增大觸控靈敏度，提高了觸控性能；使用緩沖層(buffer-layer)設(shè)計(jì)，解決金屬附著力低的問題；搭配使用金屬上層低反射層，降低金屬反射；使用高折射率有機(jī)絕緣膜層與低折射率有機(jī)絕緣膜層搭配，使金屬反射區(qū)與無金屬區(qū)反射一致，解決金屬消影的問題。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。