專利名稱：帶氣圈可調(diào)式淬火裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型是用于連續(xù)加熱電爐處理長(zhǎng)軸類零件噴淋淬火的一種裝置。
背景技術(shù)：
經(jīng)過(guò)電爐連續(xù)加熱處理的長(zhǎng)軸類零件需要進(jìn)行淬火，淬火的均勻程度直接影響到產(chǎn) 品的質(zhì)量。原使用的淬火器主要是有:支架7、錐筒8 、進(jìn)水管9、圓筒IO和噴水圈ll 組成,如圖3所示,噴水圈在壁厚上開(kāi)有2排與X軸成30度角的水孔，其存在的不足是加 工難度大，噴淋工件面積小，噴水量不足，淬火不均勻使產(chǎn)品產(chǎn)生彎曲，而且水柱易反沖濺 入爐口而消耗熱能。發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種帶氣圈可調(diào)式淬火裝置，能夠提高細(xì)長(zhǎng) 軸類零件淬火均勻性減少其彎曲。本實(shí)用新型帶氣圈可調(diào)式淬火裝置，包括支架，其特征在于在長(zhǎng)條支架上沿工件進(jìn) 入方向依次安裝一個(gè)環(huán)形噴氣圈和多個(gè)環(huán)形噴水圈，噴氣圈內(nèi)壁上開(kāi)有噴氣孔，噴水圈 的內(nèi)壁上開(kāi)有噴水孔。本實(shí)用新型是在長(zhǎng)條支架的一端安裝環(huán)形噴氣圈，其它位置間隔安裝環(huán)形噴水圈。 優(yōu)選噴氣圈內(nèi)壁上開(kāi)有單排環(huán)形噴氣孔且與Y軸成30度角，噴水圈的內(nèi)壁上開(kāi)有兩排環(huán) 形噴水孔。工件從電爐輸出進(jìn)入該淬火裝置，依次經(jīng)過(guò)噴氣圈、噴水圈，在噴淋淬火時(shí)，氣體 從噴氣圈上的噴氣孔噴出，阻止了水柱反沖濺入爐口，避免影響爐溫。噴水圈內(nèi)壁上的 噴水孔將水流噴射到環(huán)形中心，使工件在旋轉(zhuǎn)前行時(shí)噴淋淬火均勻，由于噴氣圈和噴水 圈單獨(dú)固定，可在支架上按一定的間距調(diào)節(jié)，多個(gè)噴水圈水量充足,增大了工件的噴水 量，，實(shí)現(xiàn)了工件淬火均勻減少?gòu)澢哪康摹１緦?shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)-結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，技術(shù)性能可靠，實(shí)用性強(qiáng)，是提高細(xì)長(zhǎng)軸類零件淬火均勻性減少其彎曲 的有效裝置。


圖l為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為噴氣圈或噴水圈的安裝結(jié)構(gòu)示意圖；圖3原淬火器結(jié)構(gòu)示意圖。圖中l(wèi)支架2噴氣圈3噴水圈4噴氣孔5噴水孔6進(jìn)氣管或進(jìn)水管7支 架8錐筒9進(jìn)水管10圓筒11噴水圈具體實(shí)施方式
如圖所示，本實(shí)用新型帶氣圈可調(diào)式淬火裝置，包括長(zhǎng)條支架1，在支架1上沿工 件進(jìn)入方向依次安裝一個(gè)環(huán)形噴氣圈2和多個(gè)環(huán)形噴水圈3。噴氣圈2內(nèi)壁均布了單排 環(huán)形小噴氣孔4，噴氣孔4與Y軸成30度角。氣體從兩進(jìn)氣管6進(jìn)入，沿噴氣孔4噴出。 噴水圈3的內(nèi)壁(內(nèi)圈)均布排列了兩排環(huán)形小噴水孔5，充足的水流從兩進(jìn)水管6進(jìn) 入，'沿兩排環(huán)形的小孔噴射到環(huán)形噴水圈中心。工件從電爐輸出進(jìn)入該淬火裝置，依次經(jīng)過(guò)噴氣圈2、噴水圈3，在噴淋淬火時(shí)，氣 體從噴氣圈2上的噴氣孔4噴出，阻止了水柱反沖濺入爐口，避免影響爐溫。噴水圈3 內(nèi)壁上的噴水孔5將水流噴射到環(huán)形噴水圈中心，使工件在旋轉(zhuǎn)前行時(shí)噴淋淬火均勻， 由于噴氣圈2和噴水圈3單獨(dú)固定，可在支架上按一定的間距調(diào)節(jié)(公知技術(shù)結(jié)構(gòu))，多 個(gè)噴水圈水量充足，增大了工件的噴水量，實(shí)現(xiàn)了工件淬火均勻減少?gòu)澢哪康摹?br> 權(quán)利要求1、一種帶氣圈可調(diào)式淬火裝置，包括支架(1)，其特征在于在長(zhǎng)條支架(1)上沿工件進(jìn)入方向依次安裝一個(gè)環(huán)形噴氣圈(2)和多個(gè)環(huán)形噴水圈(3)，噴氣圈內(nèi)壁上開(kāi)有噴氣孔(4)，噴水圈的內(nèi)壁上噴水孔(5)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的帶氣圈可調(diào)式淬火裝置，其特征在于噴氣圈內(nèi)壁上開(kāi)有單 排環(huán)形噴氣孔(4)且與Y軸成30度角，噴水圈的內(nèi)壁上開(kāi)有兩排環(huán)形噴水孔(5)。
專利摘要本實(shí)用新型帶氣圈可調(diào)式淬火裝置，包括支架，其特征在于在長(zhǎng)條支架上沿工件進(jìn)入方向依次安裝一個(gè)環(huán)形噴氣圈和多個(gè)環(huán)形噴水圈。工件從電爐輸出進(jìn)入該淬火裝置，依次經(jīng)過(guò)噴氣圈、噴水圈，在噴淋淬火時(shí)，氣體從噴氣圈上的噴氣孔噴出，阻止了水柱反沖濺入爐口，避免影響爐溫。噴水圈內(nèi)壁上的噴水孔將水流噴射到環(huán)形中心，使工件在旋轉(zhuǎn)前行時(shí)噴淋淬火均勻，由于噴氣圈和噴水圈單獨(dú)固定，可在支架上按一定的間距調(diào)節(jié)，多個(gè)噴水圈水量充足，增大了工件的噴水量，實(shí)現(xiàn)了工件淬火均勻減少?gòu)澢哪康摹?br> 文檔編號(hào)C21D9/28GK201292394SQ20082022413
公開(kāi)日2009年8月19日 申請(qǐng)日期2008年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月20日
發(fā)明者張志福, 芳 趙, 高佃生 申請(qǐng)人:淄博弘揚(yáng)石油設(shè)備有限公司