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防止濺鍍過程中被濺鍍物品變形的防護(hù)裝置的制作方法

文檔序號:3402625閱讀:216來源:國知局
專利名稱:防止濺鍍過程中被濺鍍物品變形的防護(hù)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型是一種用于防止濺鍍過程中被濺鍍物品變形的防護(hù)裝置,特別是一種通過減少二次電子熱效應(yīng)以防止濺鍍過程中被濺鍍物品變形的防護(hù)裝置。
背景技術(shù)
請參閱圖1所示,圖示為利用現(xiàn)有濺鍍治具的濺鍍設(shè)備進(jìn)行濺鍍處理使用狀態(tài)圖。該濺鍍設(shè)備包括一反應(yīng)室1,該反應(yīng)室1呈中空狀,該反應(yīng)室1內(nèi)的頂部固定一靶材2,而該反應(yīng)室1的底部設(shè)有一傳送裝置(圖未示),該傳送裝置用以被傳送濺鍍治具3加以固定與遮護(hù)的一被濺鍍物品4。
首先,將被濺鍍物品4固定于濺鍍治具3中;然后,將裝載有被濺鍍物品4的濺鍍治具3由傳送裝置的一端送入反應(yīng)室1內(nèi);傳送裝置不斷移動,該被濺鍍物品3也會隨著傳送裝置于反應(yīng)室1內(nèi)不斷移動,此時,惰性氣體從反應(yīng)室1外以某一流量進(jìn)入反應(yīng)室1內(nèi),并在電磁場作用下作加速運(yùn)動并撞擊到該靶材2,產(chǎn)生靶材原子及二次電子,使得所產(chǎn)生的靶材原子吸附于被濺鍍物品4上的需濺鍍區(qū)域,遮擋于不需濺鍍區(qū)域;濺鍍處理后,被濺鍍物品4由傳送裝置移出反應(yīng)室1外;最后,從濺鍍治具3內(nèi)取出被濺鍍物品4。
由于靶材2產(chǎn)生的二次電子會產(chǎn)生熱效應(yīng),當(dāng)被濺鍍物品4具不規(guī)則形狀時,材質(zhì)較厚區(qū)域在吸收一定的二次電子后不易變形,而材質(zhì)較薄區(qū)域在吸收同等的二次電子后則容易變形,利用現(xiàn)有濺鍍設(shè)備對不規(guī)則形狀的被濺鍍物品4進(jìn)行濺鍍處理時,會導(dǎo)致被濺鍍物品4的變形。
現(xiàn)有技術(shù)中被濺鍍物品材質(zhì)較薄區(qū)域在吸收二次電子后產(chǎn)生熱效應(yīng)容易變形。

發(fā)明內(nèi)容本實用新型的主要目的在于提供一種通過減少二次電子熱效應(yīng)以防止濺鍍過程中被濺鍍物品大面積易變形區(qū)域變形的防護(hù)裝置。
為達(dá)上述目的,本實用新型提供一種濺鍍過程中防止被濺鍍物品變形的防護(hù)裝置,該防護(hù)裝置為一塊或者相應(yīng)多塊金屬板,該金屬板的整體形狀為可遮覆被濺鍍物品對應(yīng)易變形區(qū)域,該金屬板上陣列式分布有大小相等的穿透板面的圓孔,該圓孔大小可有效屏蔽和反射二次電子且不影響靶材原子的透過,該金屬板有一側(cè)緣,該金屬板通過該側(cè)緣安裝于濺鍍治具的側(cè)緣,遮覆被濺鍍物品大面積易變形區(qū)域。
濺鍍過程中,靶材原子接觸被濺鍍物品的表面后便形成一鍍膜層;大量二次電子被防護(hù)裝置所屏蔽和反射,少量二次電子到達(dá)被濺鍍物品的大面積易變形區(qū)域。從而減少了二次電子對大面積易變形區(qū)域的熱效應(yīng),防止被濺鍍物品的變形。
為使對本實用新型的目的、構(gòu)造特征及其功能有進(jìn)一步的了解,配合圖示詳細(xì)說明如下
圖1為現(xiàn)有濺鍍設(shè)備的使用狀態(tài)圖。
圖2為安裝有本實用新型一較佳實施例的防止濺鍍過程中被濺鍍物品變形的防護(hù)裝置的濺鍍設(shè)備的使用狀態(tài)圖。
圖3為安裝有本實用新型一較佳實施例一種防止濺鍍過程中被濺鍍物品變形的防護(hù)裝置的濺鍍治具及其被濺鍍物品的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為圖3的組裝分解示意圖。
具體實施方式請結(jié)合參閱圖3、圖4。圖3所示,為安裝有本實用新型一較佳實施例一種防止濺鍍過程中被濺鍍物品變形的防護(hù)裝置的濺鍍治具,及其被濺鍍物品的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為圖3的組裝分解示意圖。該防護(hù)裝置111為一塊鋁板,該防護(hù)裝置111的整體形狀為長方形,該防護(hù)裝置111上陣列式分布有大小相等的穿透板面的圓孔111a,該圓孔111a大小可有效屏蔽和反射二次電子且不影響靶材原子的透過,該防護(hù)裝置111有一無上述圓孔的側(cè)緣111b。該濺鍍治具100由蓋體110和基座120組成,該蓋體110和基座120將被濺鍍物品200卡合于二者之間,使得被濺鍍物品200僅露出其被濺鍍區(qū)域210,該被濺鍍區(qū)域210有一大面積易變形區(qū)域211。該蓋體110有一側(cè)緣110a。該防護(hù)裝置111通過該側(cè)緣111b粘附于濺鍍治具100的側(cè)緣110a,恰好遮覆被濺鍍物品200大面積易變形區(qū)域211。
請參閱圖2,圖示為安裝有本實用新型一較佳實施例的防止濺鍍過程中被濺鍍物品變形的防護(hù)裝置的濺鍍設(shè)備的使用狀態(tài)圖。該濺鍍設(shè)備包括一反應(yīng)室10,該反應(yīng)室10呈中空狀,且該反應(yīng)室10內(nèi)的頂部固定一靶材20,而該反應(yīng)室10的底部設(shè)有一傳送裝置(圖未示),該傳送裝置用以傳送一被濺鍍物品200,且該被濺鍍物品200包括一大面積易變形區(qū)域211。且該被濺鍍物品200通過一濺鍍治具100加以固定與遮護(hù),而該濺鍍治具100側(cè)緣設(shè)有一防護(hù)裝置111,且該防護(hù)裝置111可吸收二次電子。該防護(hù)裝置111用以遮覆被濺鍍物品200的大面積易變形區(qū)域211。
惰性氣體從反應(yīng)室10外以某一流量進(jìn)入反應(yīng)室10內(nèi),在電磁場作用下作螺旋狀加速運(yùn)動,令其朝著靶材20的方向撞擊;當(dāng)惰性氣體撞擊靶材20表面后,伴隨產(chǎn)生靶材原子及二次電子,且靶材原子及二次電子會朝著被濺鍍物品200的方向飛射;其中,靶材原子接觸被濺鍍物品200的表面后便形成一鍍膜層;二次電子接觸被濺物品200的不易變形區(qū)域212及防護(hù)裝置111的表面后發(fā)生熱效應(yīng),大量二次電子被防護(hù)裝置111屏蔽和反射,僅有少量二次電子穿過防護(hù)裝置111并到達(dá)被濺鍍物品200的大面積易變形區(qū)域211。從而減少了二次電子對易變形區(qū)域的熱效應(yīng),防止被濺鍍物品的變形。
以上僅為本實用新型一較佳實施例,在實際生產(chǎn)中,可根據(jù)被濺鍍產(chǎn)品的實際情況,設(shè)置防護(hù)裝置的材質(zhì)、形狀、結(jié)構(gòu)、安裝方式以及個數(shù),以調(diào)整防護(hù)裝置所吸收的二次電子與自防護(hù)裝置穿過的二次電子的比例,以達(dá)到在不影響濺鍍質(zhì)量的前提下,盡可能減少自防護(hù)裝置穿過的二次電子的目的。從而確保被濺鍍物品的易變形區(qū)域不會因二次電子的熱效應(yīng)而發(fā)生變形。
權(quán)利要求1.一種防止濺鍍過程中被濺鍍物品變形的防護(hù)裝置,其特征在于,該防護(hù)裝置為一塊金屬板,該金屬板的整體形狀與被濺鍍物品易變形區(qū)域形狀對應(yīng),該金屬板上陣列式分布有大小相等的穿透板面的圓孔,該金屬板有側(cè)緣。
專利摘要一種防止濺鍍過程中被濺鍍物品變形的防護(hù)裝置,該防護(hù)裝置為一塊或者相應(yīng)多塊金屬板,該金屬板的整體形狀為可遮覆被濺鍍物品對應(yīng)易變形區(qū)域,該金屬板上陣列式分布有大小相等的穿透板面的圓孔,該圓孔大小可有效屏蔽和反射二次電子且不影響靶材原子的透過,該金屬板有一無上述圓孔的側(cè)緣,該金屬板通過該側(cè)緣安裝于濺鍍治具的側(cè)緣,遮覆被濺鍍物品大面積易變形區(qū)域。濺鍍過程中,靶材原子接觸被濺鍍物品的表面后便形成一鍍膜層;大量二次電子被防護(hù)裝置所屏蔽和反射,少量二次電子到達(dá)被濺鍍物品的易變形區(qū)域。從而減少了二次電子對易變形區(qū)域的熱效應(yīng),防止被濺鍍物品的變形。
文檔編號C23C14/34GK2880852SQ20052013983
公開日2007年3月21日 申請日期2005年12月13日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月13日
發(fā)明者劉萬滿 申請人:漢達(dá)精密電子(昆山)有限公司
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