專利名稱：用于熱浸涂鍍金屬條的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于熱浸涂鍍金屬條尤其鋼帶的裝置，金屬條在該裝置中垂直地導(dǎo)引穿過(guò)一個(gè)容納熔融的涂鍍金屬的容器以及穿過(guò)一個(gè)前置的導(dǎo)引槽，該裝置包括至少兩個(gè)設(shè)置在金屬條兩側(cè)的、在導(dǎo)引槽范圍內(nèi)的、以產(chǎn)生用于將涂鍍金屬保留在容器內(nèi)的電磁場(chǎng)的感應(yīng)器。
經(jīng)典的用于金屬帶的金屬熱浸涂鍍?cè)O(shè)備具有一個(gè)頻繁維護(hù)的部分，即涂鍍?nèi)萜骷拔挥谄鋬?nèi)的裝備。需要涂鍍的金屬帶的表面必須在涂鍍之前清除氧化殘留物并且為了與涂鍍金屬連接而被活化。因此帶表面在涂鍍之前在熱過(guò)程中在還原性的氣氛下進(jìn)行處理。因?yàn)檠趸瘜邮孪韧ㄟ^(guò)化學(xué)或者磨去的方式去除，所以通過(guò)還原性的熱過(guò)程使表面活化，使得表面在熱過(guò)程之后體現(xiàn)單純的金屬。
隨著帶表面的活化，提高了該帶表面對(duì)于周圍的氧氣的親合性。為了防止空氣中的氧氣在涂鍍工藝之前又能到達(dá)帶表面，帶在一個(gè)浸浴口(Tauchrüssel)中從上方導(dǎo)入到浸浴涂鍍?nèi)鄢刂小Ｒ驗(yàn)橥垮兘饘偬幱谝簯B(tài)并且人們想將重力與噴吹裝置(“氣量計(jì)”)一起用于調(diào)節(jié)涂鍍厚度，但是隨后的過(guò)程使直到涂鍍金屬完全硬化前不允許帶接觸，所以帶必須在涂鍍?nèi)萜鲀?nèi)轉(zhuǎn)向到垂直方向上。這通過(guò)一個(gè)輥進(jìn)行，所述輥在液態(tài)金屬中工作。由于液態(tài)的涂鍍金屬，所述輥遭受嚴(yán)重的磨損并且在生產(chǎn)中造成停車并且從而停工。
通過(guò)涂鍍金屬的所期望的很小的可以在微米范圍內(nèi)變化的涂層(Auflagedicken)厚度，對(duì)帶表面的質(zhì)量提出了很高的要求。這意味著，導(dǎo)引帶的輥的表面也必須有很高的質(zhì)量。在這些表面上的干擾一般導(dǎo)致帶表面的損傷。這是設(shè)備經(jīng)常停車的另一原因。
為了避免與在液態(tài)涂鍍金屬中工作的輥相關(guān)聯(lián)的問題，已知一些解決方案，它們使用一個(gè)向下敞開的涂鍍?nèi)萜鳎撏垮內(nèi)萜髟谄湎旅娴膮^(qū)域內(nèi)具有一個(gè)確定高度的用于向上垂直穿過(guò)帶的導(dǎo)引槽并且為了密封而使用電磁封閉。在此是電磁的感應(yīng)器，它們以抑制的、泵吸的或者束縛的電磁的使涂鍍?nèi)萜飨蛳旅芊獾慕蛔儓?chǎng)或者移動(dòng)場(chǎng)工作。
這種解決方案例如由EP 0673444B1已知。用于向下密封涂鍍?nèi)萜鞯碾姶欧忾]也用于按WO 96/03533或相同的按JP 5086446的解決方案。
對(duì)于金屬條在導(dǎo)引槽內(nèi)的位置的精確調(diào)節(jié)，DE 19535845A1和DE10014867A1中提出了專門的解決方案。按照在那里公開的構(gòu)思，除了用于產(chǎn)生電磁移動(dòng)場(chǎng)的線圈之外還設(shè)有附加的矯正線圈，它們與一個(gè)調(diào)節(jié)系統(tǒng)連接并且用于在金屬帶偏離中心位置時(shí)又退回到該中心位置。
在上述討論的解決方案中使用的用于密封導(dǎo)引槽的電磁封閉是一種磁泵，其使涂鍍金屬保持在涂鍍?nèi)萜鲀?nèi)。
這種設(shè)備的工業(yè)試驗(yàn)結(jié)果是，在金屬熔池的表面上的干擾圖像，也就是熔池表面相對(duì)不平靜，這可以追溯到由于電磁封閉引起的電磁力。在熔池內(nèi)的不平靜導(dǎo)致熱浸涂鍍的質(zhì)量受到負(fù)面影響。因此如上所述，從已涂鍍的金屬條上通過(guò)位于涂鍍?nèi)萜魃戏降摹皻饬坑?jì)”吹刷過(guò)量的液態(tài)金屬。為了精確調(diào)節(jié)覆層厚度，平靜的金屬熔池表面是必不可少的。
但是為了使熔池平靜不存在如下方案顯著降低磁場(chǎng)的強(qiáng)度，而不因此危害電磁封閉的密封性。因此由DE 10254307A1已知，為了保證封閉的密封性，根據(jù)涂鍍?nèi)鄢貎?nèi)液面高度需要一個(gè)確定的最小強(qiáng)度磁場(chǎng)。在此規(guī)定，根據(jù)在容器內(nèi)熔融的涂鍍金屬的液面高度確定由感應(yīng)器產(chǎn)生的磁場(chǎng)強(qiáng)度的大小。
因此本發(fā)明的任務(wù)是，提出一種開頭所述類型的用于熱浸涂鍍金屬條的裝置，通過(guò)該裝置能夠克服上述缺點(diǎn)。即保證在使用電磁封閉時(shí)使浸浴熔池保持平靜，因此可以提高涂鍍的質(zhì)量。
這個(gè)任務(wù)通過(guò)本發(fā)明解決，其特征在于限定導(dǎo)引槽的壁在垂直于金屬條表面的方向上的距離在導(dǎo)引槽的高度延伸部分的范圍內(nèi)在底面和容器底部區(qū)域之間不是恒定的。
此后提出，導(dǎo)引槽的有效寬度在其高度延伸部分上改變，其中槽的待觀察的高度在槽底面和容器底部之間是重要的。通過(guò)設(shè)置的導(dǎo)引槽的橫截面變化應(yīng)該在槽的高度延伸部分內(nèi)產(chǎn)生一個(gè)區(qū)，在該區(qū)內(nèi)可以使涂鍍金屬內(nèi)的流動(dòng)平靜，由此追求的是，熔池表面因此也平靜下來(lái)。
根據(jù)一種第一結(jié)構(gòu)方案規(guī)定，限定導(dǎo)引槽的壁的曲線至少局部地設(shè)計(jì)成漏斗形。漏斗形區(qū)段在此可以直接連接在容器底部區(qū)域上并且以其較寬側(cè)朝上。在此尤其可以規(guī)定，漏斗形區(qū)段的高度延伸部分最多為導(dǎo)引槽的高度延伸部分的30％。
一種代替的或者附加的結(jié)構(gòu)方案規(guī)定，限定導(dǎo)引槽的壁具有一個(gè)收縮部位。又一個(gè)代替的或者附加的結(jié)構(gòu)方案可以規(guī)定，限定導(dǎo)引槽的壁具有一個(gè)擴(kuò)寬部位。收縮部位或擴(kuò)寬部位可以在橫截面上基本上具有圓區(qū)段的形狀。
按一種改進(jìn)方案可以實(shí)現(xiàn)另一種使流動(dòng)平靜的方式，其中，在容器和/或在導(dǎo)引槽內(nèi)設(shè)置至少一個(gè)導(dǎo)流元件。有利的是，導(dǎo)流元件設(shè)計(jì)成平面的窄的板片，其縱軸線在垂直于金屬條的輸送方向的方向上并且垂直于金屬條表面法向的方向上延伸。另外，所述至少一個(gè)導(dǎo)流元件可以在導(dǎo)引槽內(nèi)設(shè)置在擴(kuò)寬部位的區(qū)域內(nèi)。
按另一種改進(jìn)方案可以實(shí)現(xiàn)另一種使熔池表面平靜的方式，其中，在容器內(nèi)的涂鍍金屬的表面的區(qū)域內(nèi)設(shè)置至少一個(gè)熔池平靜板。所述熔池平靜板貼靠在熔池表面上或者在熔池上方很小的高度處。熔池平靜板的位置在此可以借助于一個(gè)促動(dòng)器在高度上調(diào)節(jié)。熔池平靜板優(yōu)選由陶瓷材料制成。
通過(guò)所提出的措施實(shí)現(xiàn)，盡管使用電磁封閉，但是金屬熔池的表面還保持相對(duì)平靜，因此確保熱浸涂鍍可以達(dá)到很高的質(zhì)量。
在附圖中描述本發(fā)明的實(shí)施例。其中

圖1一個(gè)熱浸涂鍍裝置以及一個(gè)穿過(guò)該熱浸涂鍍裝置導(dǎo)引的金屬條的側(cè)視示意剖面圖；圖2一種不同于圖1的結(jié)構(gòu)方案，其中僅示出了涂鍍金屬用的容器的底部區(qū)域以及向下連接的導(dǎo)引槽；圖3另一種類似于圖2的替換結(jié)構(gòu)方案。
在附圖中描述的裝置具有一個(gè)容器3，它被熔液態(tài)的涂鍍金屬2填充。涂鍍金屬可以例如是鋅或鋁。需要涂鍍的金屬條1以一種鋼帶的形式沿輸送方向R垂直向上通過(guò)容器3。在此指出，金屬條1原則上也可以從上向下通過(guò)容器3。
為了使金屬條1穿過(guò)容器3，容器3在底部區(qū)域開口；一個(gè)夸大尺寸或?qū)挾鹊膶?dǎo)引槽4位于此處。導(dǎo)引槽有一個(gè)高度延伸部分的區(qū)域H。在此需要注意，該區(qū)域H從容器3的底部區(qū)域8一直計(jì)算到導(dǎo)引槽4的底面7并且該區(qū)域表現(xiàn)為，它為了金屬條1的穿行而設(shè)有一個(gè)開口縫隙。
為了熔液態(tài)的涂鍍金屬2不會(huì)通過(guò)導(dǎo)引槽4向下流出，在金屬條1的兩側(cè)有兩個(gè)電磁的感應(yīng)器5，它們產(chǎn)生一個(gè)磁場(chǎng)，該磁場(chǎng)抵消涂鍍金屬2的重力并且從而朝下密封導(dǎo)引槽4。
感應(yīng)器5是兩個(gè)對(duì)置的交變場(chǎng)或移動(dòng)場(chǎng)感應(yīng)器，它們?cè)陬l率范圍2Hz至10kHz范圍內(nèi)工作并且建立一個(gè)垂直于輸送方向R的電磁橫向場(chǎng)。對(duì)于單相系統(tǒng)(交變場(chǎng)感應(yīng)器)的優(yōu)選頻率范圍為2kHz至10kHz之間，對(duì)于多相系統(tǒng)(例如移動(dòng)場(chǎng)感應(yīng)器)為2Hz至2kHz之間。
為了在導(dǎo)引槽4的中心平面內(nèi)穩(wěn)定金屬條1，可以在導(dǎo)引槽4或金屬條1的兩側(cè)設(shè)置沒有示出的矯正線圈。這些矯正線圈由調(diào)節(jié)裝置控制，使得感應(yīng)器5的磁場(chǎng)與矯正線圈的磁場(chǎng)疊加使金屬條1總是保持在導(dǎo)引槽4的中心。
借助于矯正線圈可以使感應(yīng)器5的磁場(chǎng)根據(jù)控制的不同情況被加強(qiáng)或削弱(磁場(chǎng)的重疊原理)。通過(guò)這種方式可以對(duì)金屬條1在導(dǎo)引槽4中的位置施加影響。
為了使容器3內(nèi)的熔池表面平靜，規(guī)定，限定導(dǎo)引槽4的壁6在垂直于金屬條1的表面的方向N上的距離d在位于導(dǎo)引槽底面7和容器3底部區(qū)域8之間的導(dǎo)引槽4的高度延伸部分的區(qū)域H內(nèi)不是恒定的。
如圖1可知，這在該實(shí)施例中以如下方式實(shí)現(xiàn)，即一個(gè)漏斗形的區(qū)段9直接連接在容器3的底部區(qū)域8下方，其中漏斗9以其寬面鄰接容器3的底部區(qū)域8。在漏斗形區(qū)段9的高度延伸部分h上，限定導(dǎo)引槽4的壁6的距離d下降到一個(gè)數(shù)值，該數(shù)值在漏斗形區(qū)段9下方達(dá)到并且然后向下保持恒定。
這種結(jié)構(gòu)方案的選擇通過(guò)下面的知識(shí)得出在對(duì)所述熱浸涂鍍裝置進(jìn)行工業(yè)試驗(yàn)時(shí)出現(xiàn)引起平靜的熔池表面的狀態(tài)。但是數(shù)據(jù)的分析得出，其原因是在涂鍍?nèi)鄢貎?nèi)的液面高度和感應(yīng)器5的調(diào)整的密封功率的相互作用。借助于已經(jīng)提及的矯正線圈對(duì)金屬條1在導(dǎo)引槽4內(nèi)的位置的調(diào)節(jié)工作另外表明，調(diào)節(jié)干預(yù)在局部加強(qiáng)熔池表面的不平靜。在此也涉及多種共同作用的效果的組合。不能僅降低感應(yīng)器5的功率，因?yàn)橐虼藭?huì)產(chǎn)生泄漏。感應(yīng)器功率然而如上所述針對(duì)涂鍍?nèi)鄢刂械囊好娓叨?，液面高度?yīng)該盡可能大。然而人們也需要調(diào)節(jié)金屬條1在導(dǎo)引槽4內(nèi)的位置，這造成局部不平靜。因此提出已經(jīng)解釋的導(dǎo)引槽4的幾何形狀的改變或者下面還詳細(xì)解釋的用于使熔池表面平靜的輔助措施。
在圖1中描述的導(dǎo)引槽4的具有漏斗形區(qū)段9的結(jié)構(gòu)方案是一種措施，這種措施如下進(jìn)行調(diào)整，從導(dǎo)引槽4過(guò)來(lái)的流在涂鍍金屬2內(nèi)進(jìn)行轉(zhuǎn)向，使得在熔池表面沒有熔池沸騰。另外有如下方案，即通過(guò)合適的措施使得由感應(yīng)器5在涂鍍金屬內(nèi)引起的流動(dòng)中的紊流被局部限制到導(dǎo)引槽4的區(qū)域。
漏斗形區(qū)段9的設(shè)置是一種第一重要效果，通過(guò)該效果可以使涂鍍金屬2內(nèi)的流動(dòng)在導(dǎo)引槽4的區(qū)域內(nèi)轉(zhuǎn)向。通過(guò)漏斗形區(qū)段9可以降低在金屬熔池的表面上的熔池沸騰，因?yàn)橥ㄟ^(guò)所建議的幾何形狀為在導(dǎo)引槽4內(nèi)向上指向的流動(dòng)提供了一個(gè)用于偏轉(zhuǎn)到容器3的容積內(nèi)的空間。因此降低或者吸收局部的紊流。
在涂鍍金屬2的表面的熔池沸騰因此被避免或者降低，它否則會(huì)造成“氣量計(jì)”不能調(diào)節(jié)到一個(gè)至熔池表面的對(duì)于涂鍍質(zhì)量合適的距離。
用于流動(dòng)轉(zhuǎn)向的另一措施是將例如由陶瓷材料制成的熔池平靜板貼靠到涂鍍?nèi)鄢氐谋砻?5上。熔池平靜板16保持在涂鍍金屬2表面15上或者定位在表面附近。為此使用促動(dòng)器17，通過(guò)這些促動(dòng)器可以調(diào)整水平設(shè)置的熔池平靜板16的合適高度。因此可以將必要時(shí)一直穿流到熔池表面的紊流偏轉(zhuǎn)到水平方向，因此可以避免熔池沸騰。
流動(dòng)轉(zhuǎn)向的另一種方案在于將導(dǎo)流元件12、12′、12″、13、13′嵌入到液態(tài)的涂鍍金屬2中，它們構(gòu)成為導(dǎo)引板或者導(dǎo)引翼片。如圖1可知，導(dǎo)流元件12、12′、12″構(gòu)成為窄板，其縱軸線14垂直于圖面。它們?cè)O(shè)置成一個(gè)期望的角度并且用于使涂鍍金屬內(nèi)的流動(dòng)偏轉(zhuǎn)到水平方向，因此使熔池沸騰降得最低。導(dǎo)流元件12、12′、12″在此相對(duì)靠近金屬條1設(shè)置。
作為將流動(dòng)局部限制到導(dǎo)引槽4的區(qū)域內(nèi)的措施可以是一些其它的結(jié)構(gòu)方案，它們?cè)趫D2和3中描繪。
總體上可以說(shuō)，感應(yīng)器5通過(guò)其泵效應(yīng)產(chǎn)生一個(gè)主要在導(dǎo)引槽4內(nèi)的紊流。作為抑制在熔池表面上的沸騰的措施存在如下方案，即通過(guò)改變導(dǎo)引槽4的幾何形狀為已經(jīng)在導(dǎo)引槽4區(qū)域內(nèi)的紊流偏轉(zhuǎn)提供空間或者通過(guò)防護(hù)方式防止紊流擴(kuò)展到容器3內(nèi)并且因此將紊流限制到導(dǎo)引槽4的區(qū)域內(nèi)。
這已經(jīng)在顯著的范圍內(nèi)通過(guò)圖1描述的漏斗形區(qū)段9實(shí)現(xiàn)。在圖2中作為替代方案或者補(bǔ)充方案規(guī)定，在導(dǎo)引槽4的高度延伸部分H的區(qū)域內(nèi)設(shè)置一個(gè)收縮部位10，它表現(xiàn)為一種接片或者防護(hù)部位并且優(yōu)選直接設(shè)置在容器3的底部區(qū)域8下方(尤其是在沒有示出的槽凸緣和容器底部之間的區(qū)域得到驗(yàn)證)。
如圖2可知，邊界壁6在收縮部位10的區(qū)域內(nèi)具有圓區(qū)段的形式的橫截面。因此實(shí)現(xiàn)一定的流動(dòng)平靜性。
通過(guò)收縮部位10首先防止紊流擴(kuò)展到容器3內(nèi)。在這種措施中需要擔(dān)憂的在導(dǎo)引槽4內(nèi)的鋁貧化不會(huì)出現(xiàn)，因?yàn)樵趯?dǎo)引槽4內(nèi)的涂鍍金屬2的容積很小并且從涂鍍?nèi)萜鹘?jīng)過(guò)槽的新鮮涂鍍金屬的補(bǔ)充通過(guò)涂鍍金屬的正常排出得到保證。另外在這種措施中需要擔(dān)憂的帶接觸(在金屬條1和收縮部位10之間)的可能性很低，因?yàn)樵诖瞬辉儆腥缭诓蹍^(qū)域內(nèi)的鐵磁的吸引力并且金屬條1在收縮部位10的兩側(cè)之間通過(guò)兩個(gè)被入流的導(dǎo)引板的效應(yīng)而自動(dòng)定心是已知的。這種以收縮部位10的形式的防護(hù)部位實(shí)施方式和形式及其對(duì)于金屬條1的凈寬度對(duì)應(yīng)于在導(dǎo)引槽4和容器3之間的中間區(qū)域的流動(dòng)技術(shù)的要求。
在圖3中描述了另一種替代的結(jié)構(gòu)方案。在此規(guī)定，在導(dǎo)引槽4的高度延伸部分H的區(qū)域內(nèi)設(shè)置一個(gè)擴(kuò)寬部位11，也就是感應(yīng)器5所延伸的高度區(qū)域上方(這在按圖2的結(jié)構(gòu)方案中也是有利的)。
擴(kuò)寬部位11在一定的方式中體現(xiàn)為一個(gè)在導(dǎo)引槽4和容器3的底部區(qū)域8之間的補(bǔ)償容積。因此實(shí)現(xiàn)了，在導(dǎo)引槽中的紊流在到達(dá)容器3之前可能已經(jīng)擴(kuò)張并且平靜下來(lái)并且從而不在影響容器3內(nèi)的流動(dòng)關(guān)系。因此實(shí)現(xiàn)了，在導(dǎo)引槽4中的流動(dòng)不再繼續(xù)進(jìn)入到位于其上方的容器3內(nèi)，而是涂鍍金屬2又到達(dá)導(dǎo)引槽4的被紊流占據(jù)的深處。
對(duì)于這種結(jié)構(gòu)方案在金屬條1的可能的鋁貧化或者自動(dòng)定心方面也是適用的，這已經(jīng)在上面在圖2的關(guān)系中描述了。
沒有描述的是，一個(gè)按圖2的收縮部位10可以在朝上的延續(xù)部分中連接在擴(kuò)寬部位11上。
如上述在結(jié)合圖2中描述的，擴(kuò)寬部位11的幾何結(jié)構(gòu)方案對(duì)應(yīng)于在導(dǎo)引槽4和容器3之間的區(qū)域內(nèi)的流動(dòng)技術(shù)要求。
另一用于將流動(dòng)局部限制到導(dǎo)引槽4的區(qū)域內(nèi)的措施類似地在圖3中描述。在此在擴(kuò)寬部位11的區(qū)域內(nèi)設(shè)置導(dǎo)流元件13和13′，它們從其功能看對(duì)應(yīng)于上面已經(jīng)描述過(guò)的導(dǎo)流元件12、12′、12″。通過(guò)在導(dǎo)引槽4的底面7和容器3的底部區(qū)域8之間使用導(dǎo)流元件13、13′(以導(dǎo)引接片或?qū)б淼男问?，又可以使紊流向下轉(zhuǎn)向。導(dǎo)流元件13、13′支持地形成在擴(kuò)寬部位11區(qū)域內(nèi)的期望的流動(dòng)關(guān)系并且導(dǎo)致降低紊流。
上述措施的實(shí)現(xiàn)可以很簡(jiǎn)單地變換，因?yàn)槌私饘?，陶瓷材料也可以很好地加工和組合。至于在涂鍍金屬2的腐蝕性環(huán)境中的使用，陶瓷材料也是有足夠的抵抗力的。
特別有利的是，使用在圖1、2和3中描述的措施組合，這種組合在疊加的情況下產(chǎn)生一個(gè)在導(dǎo)引槽4和容器3內(nèi)的總體上低紊流的流動(dòng)并且因此導(dǎo)致在容器3中的涂鍍金屬2的表面的良好的平靜性。
附圖標(biāo)記列表1金屬條(鋼帶)2涂鍍金屬3容器4導(dǎo)引槽5感應(yīng)器6邊界壁7導(dǎo)引槽的底面8容器的底部區(qū)域9漏斗形區(qū)段10 收縮部位11 擴(kuò)寬部位12、 12′、12″ 導(dǎo)流元件13、 13′ 導(dǎo)流元件14 導(dǎo)流元件的縱軸線15 涂鍍金屬的表面16 熔池平靜板17 促動(dòng)器d限定導(dǎo)引槽的壁的距離N金屬條的表面的垂直方向H導(dǎo)引槽的高度延伸部分的區(qū)域h漏斗形區(qū)段的高度延伸部分R輸送方向
權(quán)利要求
1.一種用于熱浸涂鍍金屬條(1)尤其鋼帶的裝置，金屬條(1)在該裝置中垂直地穿過(guò)容納熔融的涂鍍金屬(2)的容器(3)以及穿過(guò)前置的導(dǎo)引槽(4)，該裝置包括至少兩個(gè)設(shè)置在金屬條(1)兩側(cè)的、在導(dǎo)引槽(4)范圍內(nèi)的、以產(chǎn)生用于將涂鍍金屬(2)保留在容器(3)內(nèi)的電磁場(chǎng)的感應(yīng)器(5)，其特征在于限定導(dǎo)引槽(4)的壁(6)在垂直于金屬條(1)表面的方向(N)上的距離(d)在導(dǎo)引槽(4)的高度延伸部分(H)的范圍內(nèi)在導(dǎo)引槽底面(7)和容器(3)底部區(qū)域(8)之間不是恒定的。
2.按權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于限定導(dǎo)引槽(4)的壁(6)的曲線至少局部地設(shè)計(jì)成漏斗形(9)。
3.按權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于漏斗形區(qū)段(9)直接連接在容器(3)底部區(qū)域(8)上并且以其較寬的面朝上。
4.按權(quán)利要求2或3所述的裝置，其特征在于漏斗形區(qū)段(9)的高度延伸部分(h)最多為導(dǎo)引槽(4)的高度延伸部分(H)的30％。
5.按權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于限定導(dǎo)引槽(4)的壁(6)具有收縮部位(10)。
6.按權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于限定導(dǎo)引槽(4)的壁(6)具有擴(kuò)寬部位(11)。
7.按權(quán)利要求5或6所述的裝置，其特征在于收縮部位(10)或擴(kuò)寬部位(11)在橫截面上基本上具有圓區(qū)段的形狀。
8.按權(quán)利要求1至7之一所述的裝置，其特征在于在容器(3)和/或在導(dǎo)引槽(4)內(nèi)設(shè)置至少一個(gè)導(dǎo)流元件(12、12′、12″、13、13′)。
9.按權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于導(dǎo)流元件(12、12′、12″、13、13′)設(shè)計(jì)成平面的窄的板片，板片的其縱軸線(14)在垂直于金屬條(1)的輸送方向(R)的方向上并且在垂直于金屬條(1)表面法向(N)的方向上延伸。
10.按權(quán)利要求8或9所述的裝置，其特征在于所述至少一個(gè)導(dǎo)流元件(13、13′)在導(dǎo)引槽(4)內(nèi)設(shè)置在擴(kuò)寬部位(11)的區(qū)域內(nèi)。
11.按權(quán)利要求1至10之一所述的裝置，其特征在于在容器(3)內(nèi)的涂鍍金屬(2)的表面(15)的區(qū)域內(nèi)設(shè)置至少一個(gè)熔池平靜板(16)。
12.按權(quán)利要求11所述的裝置，其特征在于所述熔池平靜板(16)的位置可以借助于促動(dòng)器(17)在高度方面調(diào)節(jié)。
13.按權(quán)利要求11或12所述的裝置，其特征在于所述熔池平靜板(16)由陶瓷材料制成。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于熱浸涂鍍金屬條(1)尤其鋼帶的裝置，金屬條(1)在該裝置中垂直地穿過(guò)一個(gè)容納熔融的涂鍍金屬(2)的容器(3)以及穿過(guò)一個(gè)前置的導(dǎo)引槽(4)，該裝置包括至少兩個(gè)設(shè)置在金屬條(1)兩側(cè)的、在導(dǎo)引槽(4)范圍內(nèi)的、以產(chǎn)生用于將涂鍍金屬(2)保留在容器(3)內(nèi)的電磁場(chǎng)的感應(yīng)器(5)。為了使涂鍍?nèi)鄢仄届o，按本發(fā)明規(guī)定限定導(dǎo)引槽(4)的壁(6)在垂直于金屬條(1)表面法向(N)的方向上的距離(d)在導(dǎo)引槽(4)的高度延伸部分(H)的范圍內(nèi)在導(dǎo)引槽底面(7)和容器(3)底部區(qū)域(8)之間不是恒定的。
文檔編號(hào)C23C2/24GK1849405SQ200480025827
公開日2006年10月18日 申請(qǐng)日期2004年6月16日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月8日
發(fā)明者H·貝倫斯, R·布里斯貝格, H·G·哈通, B·滕克霍夫, W·特拉科夫斯基, M·齊倫巴赫 申請(qǐng)人:Sms 迪馬格股份公司