專利名稱：用于測量鍍覆的襯底的光學(xué)性質(zhì)的測量裝置的制作方法
鍍覆的襯底，例如鍍覆的建筑玻璃或鍍覆的合成薄膜，在其鍍覆以后具有改變了的光學(xué)性質(zhì)。這些光學(xué)性質(zhì)是否符合人們所期望的性質(zhì)，可以通過相應(yīng)的測量來確定。在襯底上已經(jīng)沉積一層或幾層以后，即對其光學(xué)性質(zhì)的后續(xù)確定此時只能起到將優(yōu)質(zhì)鍍層與劣質(zhì)鍍層分開的作用。因此，本發(fā)明的目的是如果可能的話，在鍍覆過程中就已經(jīng)獲得其光學(xué)性質(zhì)，以便在必要時干預(yù)鍍覆過程本身。
人們已經(jīng)知道的是，當(dāng)采用單一的測量和評估系統(tǒng)來保持測量精度時，相對較多數(shù)量的測量對象可以在封閉腔(DE 34 06 645 C2)內(nèi)通過分光光度計裝置加以探測。其中，設(shè)置在封閉腔中的幾個測量點，通過幾根纖維光纜連接到光分辨系統(tǒng)中。事實上，通過相關(guān)的可動光闌，任何所期望數(shù)量的測量點或測量對象都可以通過此單一的光分辨系統(tǒng)得以探測，而且這里所得到的測量結(jié)果能夠被評估。
然而，對于即將鍍覆的、途經(jīng)幾個腔的襯底的在線測量，上述光度計并不適用。
因此，本發(fā)明著手解決這樣一個問題，即，在包括幾個腔的鍍覆裝置中，即使在鍍覆過程本身中也可對鍍覆的襯底的光學(xué)性質(zhì)進(jìn)行測量的問題。
該問題可按照本發(fā)明權(quán)利要求1所述的特征來解決。
因此，本發(fā)明涉及一種測量裝置，其包括幾個依次布置的鍍覆腔，用于測量鍍覆的襯底的光學(xué)性質(zhì)。這些鍍覆腔相互之間被隔離壁隔開，該隔離壁的自由端都設(shè)置在靠近襯底的上方。襯底最好是連續(xù)的薄膜。通過在各個鍍覆腔之間測量襯底的反射、透射等，就可能在僅僅部分完成的層系統(tǒng)內(nèi)實現(xiàn)測量。這就實現(xiàn)了對鍍覆過程的技術(shù)操作進(jìn)行控制的優(yōu)點。
通過本發(fā)明可獲得的優(yōu)點包括特別地改善了過程控制。在復(fù)雜的光學(xué)層系統(tǒng)中，對第一層、第二層、第三層等以后的部分層系統(tǒng)的反射進(jìn)行測量是可能的。這就使得能對于直至測量時的所完成層的層厚質(zhì)量給出直接的結(jié)論。
附圖顯示了本發(fā)明的實施例，下面進(jìn)一步對實施例進(jìn)行具體的描述。附圖中

圖1是用于薄片或薄膜的鍍覆裝置的側(cè)視截面圖；圖2是經(jīng)過內(nèi)設(shè)有測量頭的隔離壁的截面圖；圖3是設(shè)置在隔離壁內(nèi)的光學(xué)波導(dǎo)管。
圖1所示的是薄片或薄膜的鍍覆裝置1，該鍍覆裝置1包括幾個鍍覆腔2、3、4、5和6，每個腔內(nèi)設(shè)置有濺射裝置7、8、9、10、11。除了鍍覆腔2-6以外，鍍覆裝置1還包括送料和卷繞腔12。每個鍍覆腔2-6分別設(shè)有用于使鍍覆腔2-6內(nèi)成為真空的泵13-17。在各個鍍覆腔2-6之間，朝著送料和卷繞腔12的方向設(shè)有隔離壁18-23，這些隔離壁在靠近鍍覆鼓24的前面終止。鍍覆鼓24的旋轉(zhuǎn)軸線垂直于圖紙平面，即，送料和卷繞腔設(shè)置在上面，而鍍覆腔2-6設(shè)置在下面。
送料和卷繞腔12里面設(shè)有輥25，將要鍍覆的薄膜26從該輥傳送出來。該薄膜由幾個小的張力和引導(dǎo)滾筒27-35引導(dǎo)至鍍覆鼓24的表面。當(dāng)薄膜26環(huán)繞鍍覆鼓24之后，它經(jīng)由幾個滾筒36-44被卷繞到卷繞輥45上。在接近滾筒40處設(shè)有反射測量儀器46，其包括光源47和傳感器48。
隔離壁18-23設(shè)在鍍覆鼓24的附近，分別有加寬出去的支腳49-54，支腳的外輪廓形狀與鍍覆鼓24的圓形輪廓相一致。每個支腳49-54上都裝有反射測量頭(圖1中未示)。
當(dāng)薄膜26繞鍍覆鼓24移動時，它可以在每個鍍覆腔2-6中提供不同的層，最好是通過濺射提供。因此，未鍍覆的或鍍覆的薄膜26的光學(xué)性質(zhì)就可以在其從一個腔到下一個腔的每一次傳送時進(jìn)行測量。
圖2具體地顯示了隔離壁22的支腳53。顯而易見，支腳53上有幾個孔60-63，冷卻介質(zhì)可以從這些孔中流過。此外，在支腳53的中心有一個孔64，該孔內(nèi)設(shè)有反射測量頭65。該反射測量頭65包括反射測量儀器，該測量儀器在本質(zhì)上相當(dāng)于圖1的反射測量儀器46，然而，該測量儀器上連接有線纜束66，接近該線纜束的下部繞有螺旋狀的彈簧67。隔離壁22內(nèi)設(shè)有側(cè)部凹陷68，線纜束66從該凹陷中穿過。所述線纜束66包括兩個光纖束，其中一個光纖束用于將光照到鍍覆的襯底上，而另一個則收集反射光。收集到的反射光被投射到設(shè)在鍍覆裝置外面的接收器上，該接收器產(chǎn)生電信號且該信號被傳導(dǎo)至中央評估點。
與傾斜面71相鄰接的是垂直面72。密封件70將隔離壁22的下部封閉。
圖3描述的是沿著垂直于圖1和2繪圖方向上的視圖。
鍍覆鼓24或其旋轉(zhuǎn)軸線沿著水平方向延伸。在鍍覆鼓24的上方安裝著支腳53，其具有沿垂直方向延伸的側(cè)部73及其傾斜延伸的鄰接部74。支腳53上支撐著反射測量頭65的外殼69。線纜束66從凹陷68內(nèi)開始，然后被平行地引導(dǎo)向密封件70，隨后穿透外腔壁80伸到外面。在外腔壁內(nèi)有冷卻水的進(jìn)口和出口。線纜束66靠隔離壁22上部的固定器83、84和85來固定。
權(quán)利要求
1.一種用于測量在鍍覆裝置內(nèi)的鍍覆的襯底的光學(xué)性質(zhì)的測量裝置，所述鍍覆裝置包括幾個依次設(shè)置的鍍覆腔，這些鍍覆腔之間設(shè)有隔離壁，隔離壁的自由端安裝在靠近襯底的上方，襯底從一個腔傳送到另一個腔，其特征在于，測量裝置(65，66，67)安裝在隔離壁(18-23)的自由端(49-54)上。
2.如權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，它與隔離壁(18-23)的自由端(49-54)結(jié)合為一體。
3.如權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述光學(xué)性質(zhì)為反射特性。
4.如權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，其包括反射測量頭(65)。
5.如權(quán)利要求4所述的測量裝置，其特征在于，所述反射測量頭與線纜束(66)相連接，所述線纜束包括兩個光纖束。
6.如權(quán)利要求5所述的測量裝置，其特征在于，所述線纜束(66)被沿著隔離壁(80)引導(dǎo)。
7.如權(quán)利要求6所述的測量裝置，其特征在于，所述線纜束(66)從鍍覆腔(2-6)引出，經(jīng)由光電轉(zhuǎn)換器供給到評估單元。
8.如權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述鍍覆裝置包括卷繞和送料腔(12)和幾個鍍覆腔(2-6)。
9.如權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述鍍覆裝置包括鍍覆鼓(24)，其設(shè)在卷繞和送料腔(12)和鍍覆腔(2-6)之間。
10.如權(quán)利要求9所述的測量裝置，其特征在于，所述鍍覆腔(2-6)環(huán)繞設(shè)置在鍍覆鼓(24)周圍。
11.如權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述襯底為柔性薄膜。
12.如權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述卷繞和送料腔(12)中進(jìn)一步設(shè)有光學(xué)測量單元(47，48)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種測量裝置，其包括幾個依次設(shè)置的鍍覆腔，用于測量鍍覆的襯底的光學(xué)性質(zhì)。這些鍍覆腔相互之間被隔離壁隔開，隔離壁的自由端安裝在靠近襯底的上方。襯底最好是連續(xù)的薄膜。通過在各個鍍覆腔之間測量襯底的反射、透射等，使得在僅僅部分完成的層系統(tǒng)中實現(xiàn)測量成為可能。這就實現(xiàn)了對鍍覆過程的技術(shù)操作進(jìn)行控制的優(yōu)點。
文檔編號C23C14/54GK1699964SQ20041007519
公開日2005年11月23日 申請日期2004年9月2日 優(yōu)先權(quán)日2004年5月22日
發(fā)明者漢斯－格奧爾格·洛茨, 彼得·索爾, 斯特凡·海因, 彼得·斯庫克 申請人:應(yīng)用薄膜有限公司