專利名稱：快速制備大面積均勻納米功能膜的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種波能真空鍍覆裝置。
目前已有以激光為能源通過真空濺射和離子注入鍍覆方式制取大面積均勻納米級具有特定功能或特性薄膜(如金剛石膜、超導(dǎo)膜等)的裝置，存在制備速度慢的缺點(diǎn)。
本實(shí)用新型的目的是提供一種可快速制備大面積均勻納米功能膜的裝置。
本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是它是在真空罩的罩體上分別設(shè)有激光入射窗口、抽氣口、紅外光擴(kuò)束窗口、充氣窗口、靶體動力輸入口、檢驗(yàn)窗口、碘鎢燈、觀察窗口、靶體電極、襯底電極、襯底動力輸入口，在對應(yīng)靶體動力輸入口和襯底動力輸入口的罩體內(nèi)分別設(shè)有靶體旋轉(zhuǎn)裝置和襯底旋轉(zhuǎn)裝置。
本實(shí)用新型的技術(shù)技術(shù)效果是它可快速制備大面積均勻納米功能膜。
附圖
為本實(shí)用新型實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖。
實(shí)施例如圖所示，它是在橫截面為圓形的真空罩的罩體上分別設(shè)有激光入射窗口1、抽氣口2、紅外光擴(kuò)束窗口3、充氣窗口4、靶體動力輸入口5、檢驗(yàn)窗口6、碘鎢燈7、觀察窗口8、靶體電極9、襯底電極10、襯底動力輸入口11，在對應(yīng)靶體動力輸入口和襯底動力輸入口的罩體內(nèi)分別設(shè)有靶體旋轉(zhuǎn)裝置12和襯底旋轉(zhuǎn)裝置13。
權(quán)利要求快速制備大面積均勻納米功能膜的裝置，其特征是，在真空罩的罩體上分別設(shè)有激光入射窗口(1)、抽氣口(2)、紅外光擴(kuò)束窗口(3)、充氣窗口(4)、靶體動力輸入口(5)、檢驗(yàn)窗口(6)、碘鎢燈(7)、觀察窗口(8)、靶體電極(9)、襯底電極(10)、襯底動力輸入口(11)，在對應(yīng)靶體動力輸入口(5)和襯底動力輸入口(11)的罩體內(nèi)分別設(shè)有靶體旋轉(zhuǎn)裝置(12)和襯底旋轉(zhuǎn)裝置(13)。
專利摘要快速制備大面積均勻納米功能膜的裝置,它是在真空罩的罩體上分別設(shè)有激光入射窗口、抽氣口、紅外光擴(kuò)束窗口、充氣窗口、靶體動力輸入口、檢驗(yàn)窗口、碘鎢燈、觀察窗口、靶體電極、襯底電極、襯底動力輸入口,在對應(yīng)靶體動力輸入口和襯底動力輸入口的罩體內(nèi)分別設(shè)有靶體旋轉(zhuǎn)裝置和襯底旋轉(zhuǎn)裝置。它可快速制備大面積均勻納米功能膜。
文檔編號C23C14/32GK2453017SQ00260690
公開日2001年10月10日 申請日期2000年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2000年11月30日
發(fā)明者申家鏡, 彭鴻雁, 楊貴龍, 彭寄星, 王軍 申請人:黑龍江省光電技術(shù)研究所