專利名稱:納米級平面微細(xì)結(jié)構(gòu)加工裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種用于制作集成電路的納米級半導(dǎo)體平面微細(xì)結(jié)構(gòu)加工裝置。
目前,微細(xì)結(jié)構(gòu)采用掃描探針顯微技術(shù)來加工,在加工過程中,針尖損耗,同時很難控制其損耗過程,換針尖也很難與前針尖保持一致。微細(xì)結(jié)構(gòu)的另一加工方法是掃描探針結(jié)合反應(yīng)氣體進(jìn)行加工,而這種加工方法需在真空環(huán)境中進(jìn)行,加工時須退入一定量反應(yīng)氣體進(jìn)行,而在掃描探針的作用下參予反應(yīng)的氣體非常之少,這便形成了多余氣體,多余氣體不僅造成了浪費(fèi),而且,對不需要加工之處造成污染,尤其是針尖損壞后污染等情形則更為嚴(yán)重。此外,在諸如搬遷原子、或分子基團(tuán)的過程,往往通過STM針尖具有一定的極性靜電吸附一定材料,隨后須不時地在另外地方脫附,以恢復(fù)原針尖形狀。從加工角度看,這樣做效率很低,同時在移往另外脫附后,針尖有顯著重復(fù)定位不準(zhǔn),重復(fù)定位難的缺陷。
本發(fā)明目的在于提供一種能夠降低污染的納米級半導(dǎo)體平面微細(xì)結(jié)構(gòu)加工裝置。
本發(fā)明采用如下技術(shù)方案來實現(xiàn)其發(fā)明目的本發(fā)明由三維壓電掃描器、探針及安裝調(diào)節(jié)器組成,在探針1的外部設(shè)有密封室2,在密封室2的下部設(shè)有可供探針1進(jìn)出的小孔3,在密封室2上還設(shè)有氣孔。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn)
①由于本發(fā)明在探針外部套設(shè)密封室,尤其是選擇了錐形密封室,反應(yīng)氣體從密封室底部小孔噴出,使探針針尖部位反應(yīng)氣體小范圍包圍,因而,降低了污染,節(jié)省了氣體,并可在大氣下使用。
②由于本發(fā)明可以通過密封室的氣孔抽氣,使密封室形成負(fù)壓,將針尖的原子吸走,這既保證了探針的位置不變,重復(fù)定位簡單,又簡化了結(jié)構(gòu)且易于搬遷原子。
③由于本發(fā)明中的密封室遠(yuǎn)小于現(xiàn)有技術(shù)中的大真空環(huán)境,故氣體可以在密封室中得充分混合,具有均勻性好的優(yōu)點(diǎn)。
圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
下面參照附圖,對本發(fā)明的實施方案作一詳細(xì)描述本發(fā)明由三維壓電掃描器、探針1及安裝調(diào)節(jié)器組成,在探針1的外部設(shè)有密封室2,在密封室2的下部設(shè)有可供探針1進(jìn)出的小孔3,在密封室2上還設(shè)有氣孔,該氣孔可以為反應(yīng)氣體的入孔兼做抽吸氣體的出口,該氣孔也可以設(shè)有若干個,其中一些為入氣孔,另一些為出氣孔,即在密封室2上設(shè)有的氣孔可以包括入氣孔4和出氣孔5。為提高移動廢異物的能力,減少非加工區(qū)域的污染,上述密封室2為錐形密封室。
權(quán)利要求
1.一種納米級平面微細(xì)結(jié)構(gòu)加工裝置,由三維壓電掃描器、探針(1)及安裝調(diào)節(jié)器組成,其特征在于在探針(1)的外部設(shè)有密封室(2),在密封室(2)的下部設(shè)有可供探針(1)進(jìn)出的小孔(3),在密封室(2)上還設(shè)有氣孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米級平面微細(xì)結(jié)構(gòu)加工裝置,其特征在于密封室(2)錐形密封室。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的納米級平面微細(xì)結(jié)構(gòu)加熱裝置,其特征在于在密封室(2)上設(shè)有的氣孔可以包括入氣孔(4)和出氣孔(5)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種平面微細(xì)結(jié)構(gòu)加工裝置。本發(fā)明由三維壓電掃描器、探針及安裝調(diào)節(jié)器組成,在探針的外部設(shè)有密封室,在密封室的下部設(shè)有可供探針進(jìn)出的小孔,在密封室上還設(shè)有氣孔,該氣孔可以包括入氣孔和出氣孔,上述密封室可以選擇為錐形密封室。本發(fā)明可以在探針的周圍形成小范圍反應(yīng)氣體,因此,既節(jié)省了氣體,又降低了污染,反應(yīng)氣體在密封室中也可以得到充分混合,另外,本發(fā)明可以通過密封室搬遷原子,具有易重復(fù)定位,結(jié)構(gòu)簡單的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號H01L21/70GK1163476SQ9611690
公開日1997年10月29日 申請日期1996年4月22日 優(yōu)先權(quán)日1996年4月22日
發(fā)明者顧寧, 陸祖宏, 韋鈺 申請人:東南大學(xué)