專利名稱：現(xiàn)場研磨拋光機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種研磨拋光裝置，特別是用于被研磨拋光壓輥所在現(xiàn)場的現(xiàn)場研磨拋光機(jī)。
目前，在塑膠、造紙、印刷及有色金屬薄板軋制等行業(yè)中，使用各種大型壓輥，這些壓輥使用較長時間后，表面光潔度降低，導(dǎo)致產(chǎn)品質(zhì)量下降。此時，必須停工停產(chǎn)很長一段時間，并花費大量人力與財力，把壓輥拆卸下來，進(jìn)行研磨與拋光。現(xiàn)有的研磨機(jī)或鏡面拋光機(jī)多為單頭單功能運行，一般研磨或拋光加工頭只能在傳動箱的一側(cè)，或左或右，由于受現(xiàn)場空間的限制，不能將壓輥的有效長度全磨或全拋，總歸留有未能光整的兩端。而且研磨石和拋光帶不能互換。在用拋光帶時，更要規(guī)定壓輥的運轉(zhuǎn)方向。單頭式研磨石或拋光帶在工作時，須通過汽缸壓在壓輥上作水平左右高速往復(fù)式移動，此時整個機(jī)械會產(chǎn)生巨大的震蕩力，影響加工質(zhì)量，因此研磨機(jī)或拋光機(jī)必須牢牢地固定在重型機(jī)床的機(jī)床拖板上，而不可能安裝在現(xiàn)場作業(yè)的輕型導(dǎo)軌上。
本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足和缺陷，提出一種現(xiàn)場研磨拋光機(jī)，它可在不拆卸待磨待拋光壓輥的情況下，安裝在現(xiàn)場的待修設(shè)備上，最大限度消除加工時產(chǎn)生的振動力，增加穩(wěn)定性和可靠性，并且一機(jī)兩用，只須換用不同的夾具，便可對待修壓輥外圓表面就地進(jìn)行必要的研磨、超精研磨、拋光及鏡面拋光等表面光整加工。
本實用新型的目的是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的。
一種現(xiàn)場研磨拋光機(jī)，包括雙頭研磨拋光裝置，
移動裝置，包括雙頭研磨拋光裝置的固定移動裝置和導(dǎo)軌，固定移動裝置可以在導(dǎo)軌上移動，平衡支撐裝置，包括兩個橫向平衡桿、支撐橫向平衡桿的可調(diào)支撐裝置，其中橫向平衡桿上安裝導(dǎo)軌。
其中所述雙頭研磨拋光裝置包括研磨裝置或拋光裝置。
其中所述研磨裝置包括夾具和由其夾持的研磨石。
其中所述拋光裝置包括拋光輪、拋光輪叉頭、拋光帶、以及收卷拋光帶的收放卷裝置。
其中收卷拋光帶的收放卷裝置中包括一個帶有單向軸承的快速收卷輪，用于快速順轉(zhuǎn)卷帶。
其中所述雙頭研磨拋光裝置還包括一水平對置的曲柄連桿機(jī)構(gòu)，其兩個連桿分別連接對稱放置于傳動箱左右兩旁的振動滑塊，作高速反方向振動。
其中所述橫向平衡桿的一端通過連接板固定在壓輥軸承座的螺栓孔上，另一端連接在可調(diào)支撐裝置上。
其中可調(diào)支撐裝置包括支撐腳、調(diào)整螺桿和與之連接的支撐桿。
所述現(xiàn)場研磨拋光機(jī)，還包括位于導(dǎo)軌兩頭的螺桿和撐腳，將導(dǎo)軌支撐在設(shè)備兩邊的壁上。
本實用新型的優(yōu)點是它克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足和缺陷，可在不拆卸待磨待拋光壓輥的情況下，安裝在現(xiàn)場的待修設(shè)備上，最大限度地消除了加工時產(chǎn)生的振動力，增加了穩(wěn)定性和可靠性，并且一機(jī)兩用，只須根據(jù)需要換用研磨裝置和拋光裝置，便可對待修壓輥外圓表面就地進(jìn)行必要的研磨、超精研磨、拋光及鏡面拋光等表面光整加工，使用它可改善加工質(zhì)量，提高工作效率，大大減少人力財力。
以下結(jié)合附圖詳細(xì)介紹本實用新型的實施例。
如


圖1和圖2所示，一種現(xiàn)場研磨拋光機(jī)，安裝在待研磨壓輥1所在設(shè)備的一側(cè)，它包括雙頭研磨拋光裝置2，移動裝置，包括雙頭研磨拋光裝置的固定移動裝置23和導(dǎo)軌3，固定移動裝置23可以在導(dǎo)軌3上移動，平衡支撐裝置，包括兩個橫向平衡桿4和支撐橫向平衡桿的兩個可調(diào)支撐裝置，橫向平衡桿4上安裝導(dǎo)軌3。
所述橫向平衡桿4的一端通過連接板14固定在壓輥軸承座15的螺栓孔16上，另一端通過螺栓直接連接在可調(diào)支撐裝置的頂部。
所述可調(diào)支撐裝置包括支撐腳17、調(diào)整螺桿18和與之螺紋連接的支撐桿18’，支撐腳17支在地面22上。
在圖2中還可見，所述位于導(dǎo)軌3兩頭的兩個支撐裝置包括與導(dǎo)軌3上的螺孔連接的螺桿19和撐腳20。通過擰緊螺桿19將撐腳20緊緊地固定在壁21上，從而把導(dǎo)軌3支撐在設(shè)備兩邊的壁21上。
所述雙頭研磨拋光裝置2包括研磨裝置或拋光裝置。根據(jù)需要可以分別使用其中之一，研磨時使用研磨裝置，拋光時使用拋光裝置。
如圖3和圖4所示，研磨裝置包括夾具6和由其夾持的研磨石5。
如圖5和圖6所示，拋光裝置包括拋光輪7、拋光輪叉頭8、拋光帶9、以及收卷拋光帶的收卷裝置10。其中收卷拋光帶的收放卷裝置10中有一個帶有單向軸承的快速收卷輪26，用單向軸承與收卷軸連接，用于快速順轉(zhuǎn)卷帶。另外，拋光帶9在拋光輪7和收放卷裝置10上可以有不同的放帶途徑和方向，以改變拋光輪7的運轉(zhuǎn)方向，不受壓輥1運轉(zhuǎn)方向的限制。如
圖1和圖5所示，表示兩種不同的放帶方式。
如圖4或圖6所示，雙頭研磨拋光裝置2還包括一水平對置的曲柄連桿機(jī)構(gòu)，曲柄11上連有兩個連桿12，這兩個連桿12分別連接對稱放置于傳動箱24左右兩旁的兩個振動滑塊13。開機(jī)時，兩個振動滑塊13作高速反向振動，振動力互相抵消。
圖7和圖8分別表示曲柄連桿機(jī)構(gòu)運作時，兩個振動滑塊13抵消雙頭研磨拋光裝置上兩個拋光輪7向內(nèi)和向外振動的情況。
對現(xiàn)場待修壓輥1的外圓就地進(jìn)行研磨、超精研磨、拋光及鏡面拋光加工時，首先將一個橫向平衡桿4的一端固定在壓輥軸承座15的螺栓孔16上，另一端通過螺栓直接連接在可調(diào)支撐裝置的頂部，并用調(diào)整螺桿18、支撐桿18’作橫向平衡桿4的水平調(diào)整。將另一個橫向平衡桿4用同樣的方法安裝，并調(diào)至同一高度。將導(dǎo)軌3橫向(即與壓輥軸向平行)架在兩端的橫向平衡桿4上，調(diào)整固定移動裝置23與壓輥1之間的距離，與壓輥1平行后，以螺栓25固定之。將在導(dǎo)軌3的兩端所設(shè)的支撐裝置的螺桿19擰緊，以起穩(wěn)定作用。此時，便可將研磨裝置或拋光裝置安裝在固定移動裝置23上，并加以固定，裝上研磨石5或拋光帶9，調(diào)整冷卻用的水量，選定參數(shù)后便可開機(jī)施工。
權(quán)利要求1．現(xiàn)場研磨拋光機(jī)，包括雙頭研磨拋光裝置；移動裝置，包括雙頭研磨拋光裝置的固定移動裝置和導(dǎo)軌，固定移動裝置可以在導(dǎo)軌上移動；平衡支撐裝置，包括兩個橫向平衡桿、支撐橫向平衡桿的可調(diào)支撐裝置，其中橫向平衡桿上安裝導(dǎo)軌。
2．根據(jù)權(quán)利要求1所述的現(xiàn)場研磨拋光機(jī)，其中雙頭研磨拋光裝置包括研磨裝置或拋光裝置。
3．根據(jù)權(quán)利要求2所述的現(xiàn)場研磨拋光機(jī)，其中研磨裝置包括夾具和由其夾持的研磨石。
4．根據(jù)權(quán)利要求2所述的現(xiàn)場研磨拋光機(jī)，其中拋光裝置包括拋光輪、拋光輪叉頭、拋光帶、以及收卷拋光帶的收放卷裝置。
5．根據(jù)權(quán)利要求4所述的現(xiàn)場研磨拋光機(jī)，其中收卷拋光帶的收放卷裝置中包括一個帶有單向軸承的快速收卷輪，用于快速順轉(zhuǎn)卷帶。
6．根據(jù)權(quán)利要求1所述的現(xiàn)場研磨拋光機(jī)，其中雙頭研磨拋光裝置還包括一水平對置的曲柄連桿機(jī)構(gòu)，其兩個連桿分別連接對稱放置的振動滑塊。
7．根據(jù)權(quán)利要求1所述的現(xiàn)場研磨拋光機(jī)，其中橫向平衡桿的一端通過連接板固定在壓輥軸承座上，另一端連接在可調(diào)支撐裝置上。
8．根據(jù)權(quán)利要求1所述的現(xiàn)場研磨拋光機(jī)，其中可調(diào)支撐裝置包括支撐腳、調(diào)整螺桿和與之連接的支撐桿。
9．根據(jù)權(quán)利要求1所述的現(xiàn)場研磨拋光機(jī)，還包括位于導(dǎo)軌兩頭的螺桿和撐腳，將導(dǎo)軌支撐在設(shè)備兩邊的壁上。
專利摘要本實用新型涉及一種現(xiàn)場研磨拋光機(jī),它包括雙頭研磨拋光裝置,雙頭研磨拋光裝置的固定移動裝置和導(dǎo)軌,固定移動裝置可以在導(dǎo)軌上移動,以及包括兩個橫向平衡桿和兩個可調(diào)支撐裝置在內(nèi)的平衡支撐裝置,本實用新型可在不拆卸待磨待拋光壓輥的情況下,安裝在現(xiàn)場的待修設(shè)備上,最大限度地消除了加工時產(chǎn)生的振動力,增加穩(wěn)定性和可靠性,并且一機(jī)兩用,可改善加工質(zhì)量,提高工作效率,大大減少人力財力。
文檔編號B24B39/00GK2455442SQ0025654
公開日2001年10月24日 申請日期2000年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2000年11月30日
發(fā)明者錢遠(yuǎn)強(qiáng) 申請人:錢遠(yuǎn)強(qiáng)