本技術(shù)涉及氣流傳感器，特別涉及一種氣流傳感器上料裝置及其自動(dòng)化焊線設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、目前氣流傳感器主要自動(dòng)化設(shè)備進(jìn)行生產(chǎn)加工，然而自動(dòng)化設(shè)備在上料時(shí)通常僅利用單一機(jī)械臂完成氣流傳感器的取料動(dòng)作和上料動(dòng)作，雖然實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)化上料作業(yè)，但是整個(gè)上料過程的流暢性較差，上料時(shí)的停頓時(shí)間較長。

2、可見，現(xiàn)有技術(shù)還有待改進(jìn)和提高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處，本實(shí)用新型的目的在于提供一種氣流傳感器上料裝置，其可對氣流傳感器進(jìn)行多級上料，提高產(chǎn)線整體工作的流暢性。

2、為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采取了以下技術(shù)方案：

3、一種氣流傳感器上料裝置，包括輸送線和多個(gè)設(shè)置在所述輸送線上的上料模具，所述輸送線的一側(cè)沿其長度方向設(shè)置有至少兩個(gè)旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂，所述輸送線的另一側(cè)設(shè)置有至少兩個(gè)用于對所述上料模具進(jìn)行定位的定位機(jī)構(gòu)，所述定位機(jī)構(gòu)與所述旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂一一對應(yīng)；所述旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂上設(shè)置有擺臂，所述擺臂的端部設(shè)置有可上下伸縮的吸嘴部；所述旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂的一側(cè)設(shè)置有用于與外部送料設(shè)備連接的上料座，所述上料座位于所述吸嘴部的下方。

4、所述的氣流傳感器上料裝置中，所述吸嘴部包括第一伸縮部、供氣單元和吸嘴頭，所述供氣單元和所述第一伸縮部分別設(shè)置在所述擺臂的頂部，所述第一伸縮部的伸縮端往所述擺臂的下方延伸，所述吸嘴部設(shè)置在所述第一伸縮部的伸縮端的端部，且所述吸嘴部與所述供氣單元之間通過氣管連通。

5、所述的氣流傳感器上料裝置中，所述上料座包括基座，所述基座的頂部沿其長度方向設(shè)置有滑槽，所述滑槽內(nèi)設(shè)置有推料塊，所述基座位于所述滑槽的一側(cè)槽壁上設(shè)置有上料通道，所述推料塊上設(shè)置有朝向所述上料通道的方向開口的定位槽，所述定位槽與所述上料通道的位置左右錯(cuò)位，所述基座的一側(cè)設(shè)置有第二伸縮部，所述第二伸縮部的伸縮端與所述推料塊的一側(cè)連接。

6、所述的氣流傳感器上料裝置中，所述上料座還包括用于檢測氣流傳感器的來料狀態(tài)的光感檢測單元，所述光感檢測單元設(shè)置在所述定位槽的上方，且所述光感檢測單元與所述基座連接。

7、所述的氣流傳感器上料裝置中，所述定位機(jī)構(gòu)包括橫移部和推拉單元，所述橫移部設(shè)置在所述輸送線的一側(cè)，所述推拉單元與所述橫移部傳動(dòng)連接，所述推拉單元的輸出端朝向所述上料模具的方向，且所述推拉單元的輸出端上設(shè)置有卡板，所述卡板的端部設(shè)置有與所述上料模具配合連接的卡槽。

8、所述的氣流傳感器上料裝置中，所述橫移部包括滑移架和電機(jī)單元，所述電機(jī)單元設(shè)置在所述滑移架的一側(cè)，所述滑移架內(nèi)沿其長度方向設(shè)置有絲桿組件，所述電機(jī)單元與所述絲桿組件傳動(dòng)連接，所述推拉單元的底部與所述絲桿組件傳動(dòng)連接。

9、所述的氣流傳感器上料裝置中，所述推拉單元包括滑架和第三伸縮部，所述第三伸縮部設(shè)置在所述滑架的頂部，所述滑架的底部設(shè)置有與所述絲桿組件傳動(dòng)連接的螺母滑塊；所述第三伸縮部的伸縮端與所述卡板的一端連接。

10、本實(shí)用新型還提供一種自動(dòng)化焊線設(shè)備，包括如上所述的氣流傳感器上料裝置。

11、有益效果：

12、本實(shí)用新型提供了一種氣流傳感器上料裝置，每一組旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂和定位機(jī)構(gòu)組成一個(gè)上下料工位，通過設(shè)置多個(gè)上下料工位形成動(dòng)態(tài)上料的模式，每個(gè)上下料工位僅負(fù)責(zé)上料模具上部分區(qū)域的上料，利用多級上料來減少每次氣流傳感器上料時(shí)的停頓時(shí)間，從而使整個(gè)產(chǎn)線的運(yùn)轉(zhuǎn)更加流暢，提高產(chǎn)線整體的生產(chǎn)效率。

技術(shù)特征：

1.一種氣流傳感器上料裝置，其特征在于，包括輸送線和多個(gè)設(shè)置在所述輸送線上的上料模具，所述輸送線的一側(cè)沿其長度方向設(shè)置有至少兩個(gè)旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂，所述輸送線的另一側(cè)設(shè)置有至少兩個(gè)用于對所述上料模具進(jìn)行定位的定位機(jī)構(gòu)，所述定位機(jī)構(gòu)與所述旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂一一對應(yīng)；所述旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂上設(shè)置有擺臂，所述擺臂的端部設(shè)置有可上下伸縮的吸嘴部；所述旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂的一側(cè)設(shè)置有用于與外部送料設(shè)備連接的上料座，所述上料座位于所述吸嘴部的下方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氣流傳感器上料裝置，其特征在于，所述吸嘴部包括第一伸縮部、供氣單元和吸嘴頭，所述供氣單元和所述第一伸縮部分別設(shè)置在所述擺臂的頂部，所述第一伸縮部的伸縮端往所述擺臂的下方延伸，所述吸嘴部設(shè)置在所述第一伸縮部的伸縮端的端部，且所述吸嘴部與所述供氣單元之間通過氣管連通。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氣流傳感器上料裝置，其特征在于，所述上料座包括基座，所述基座的頂部沿其長度方向設(shè)置有滑槽，所述滑槽內(nèi)設(shè)置有推料塊，所述基座位于所述滑槽的一側(cè)槽壁上設(shè)置有上料通道，所述推料塊上設(shè)置有朝向所述上料通道的方向開口的定位槽，所述定位槽與所述上料通道的位置左右錯(cuò)位，所述基座的一側(cè)設(shè)置有第二伸縮部，所述第二伸縮部的伸縮端與所述推料塊的一側(cè)連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種氣流傳感器上料裝置，其特征在于，所述上料座還包括用于檢測氣流傳感器的來料狀態(tài)的光感檢測單元，所述光感檢測單元設(shè)置在所述定位槽的上方，且所述光感檢測單元與所述基座連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氣流傳感器上料裝置，其特征在于，所述定位機(jī)構(gòu)包括橫移部和推拉單元，所述橫移部設(shè)置在所述輸送線的一側(cè)，所述推拉單元與所述橫移部傳動(dòng)連接，所述推拉單元的輸出端朝向所述上料模具的方向，且所述推拉單元的輸出端上設(shè)置有卡板，所述卡板的端部設(shè)置有與所述上料模具配合連接的卡槽。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種氣流傳感器上料裝置，其特征在于，所述橫移部包括滑移架和電機(jī)單元，所述電機(jī)單元設(shè)置在所述滑移架的一側(cè)，所述滑移架內(nèi)沿其長度方向設(shè)置有絲桿組件，所述電機(jī)單元與所述絲桿組件傳動(dòng)連接，所述推拉單元的底部與所述絲桿組件傳動(dòng)連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種氣流傳感器上料裝置，其特征在于，所述推拉單元包括滑架和第三伸縮部，所述第三伸縮部設(shè)置在所述滑架的頂部，所述滑架的底部設(shè)置有與所述絲桿組件傳動(dòng)連接的螺母滑塊；所述第三伸縮部的伸縮端與所述卡板的一端連接。

8.一種自動(dòng)化焊線設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的氣流傳感器上料裝置。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種氣流傳感器上料裝置及其自動(dòng)化焊線設(shè)備，包括輸送線和多個(gè)設(shè)置在輸送線上的上料模具，輸送線的一側(cè)沿其長度方向設(shè)置有至少兩個(gè)旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂，輸送線的另一側(cè)設(shè)置有至少兩個(gè)用于對上料模具進(jìn)行定位的定位機(jī)構(gòu)，定位機(jī)構(gòu)與旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂一一對應(yīng)；旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂上設(shè)置有擺臂，擺臂的端部設(shè)置有可上下伸縮的吸嘴部；旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂的一側(cè)設(shè)置有用于與外部送料設(shè)備連接的上料座，上料座位于吸嘴部的下方；每一組旋轉(zhuǎn)機(jī)械臂和定位機(jī)構(gòu)組成一個(gè)上下料工位，通過設(shè)置多個(gè)上下料工位形成動(dòng)態(tài)上料的模式，每個(gè)上下料工位僅負(fù)責(zé)上料模具上部分區(qū)域的上料，利用多級上料來減少每次氣流傳感器上料時(shí)的停頓時(shí)間，從而使整個(gè)產(chǎn)線的運(yùn)轉(zhuǎn)更加流暢。

技術(shù)研發(fā)人員：趙啟東,段劍鋒,文焱
受保護(hù)的技術(shù)使用者：杭州尚格半導(dǎo)體有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231221
技術(shù)公布日：2024/12/19