本發(fā)明涉及噴嘴技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種分體式等離子噴嘴。

背景技術(shù)：
等離子噴焊技術(shù)是出現(xiàn)的一種進(jìn)行表面防護(hù)與強(qiáng)化的熱噴焊技術(shù)，它是采用轉(zhuǎn)移型等離子弧為熱源，利用壓縮等離子弧產(chǎn)生的高溫熔化金屬粉末，在工件表面形成一層與基體冶金結(jié)合的、具有特定性能熔覆層的一種表面加工方法。如圖1和2所示為傳統(tǒng)的等離子噴嘴，其采用送粉通孔1直接將粉料送至底部，導(dǎo)致送粉通孔1較長(zhǎng)，流動(dòng)阻力大，粉料量小，因此局部冷卻效果差，溫度高，由于溫度高，還會(huì)導(dǎo)致粉末粘度大，容易堵粉，且疏通送粉通孔1較為麻煩。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是：為了克服傳統(tǒng)的等離子噴嘴在等離子長(zhǎng)時(shí)間焊接時(shí)，經(jīng)常出現(xiàn)送粉孔堵塞，且疏通送粉孔較為麻煩的不足，現(xiàn)提供一種能輕松處理堵塞問題的分體式等離子噴嘴。本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種分體式等離子噴嘴，包括噴嘴主體，所述噴嘴主體上設(shè)置有噴射管道，所述噴嘴主體上具有環(huán)形腔體，所述噴嘴主體上位于所述環(huán)形腔體的前端開設(shè)有出粉孔，所述噴嘴主體上位于所述環(huán)形腔體的后端開設(shè)有送粉通道，所述送粉通道和出粉孔均與所述環(huán)形腔體連通，在噴嘴主體上增加環(huán)形腔體，粉料從送粉通道進(jìn)入環(huán)形腔體，再?gòu)沫h(huán)形腔體進(jìn)入出粉孔噴出，粉料流動(dòng)距離變短，一方面可以增加送粉量，另一方面可以保持送粉通道通暢，同時(shí)冷卻面積增大，粉料不容易高溫粘著，由于出粉孔的距離變的非常短，堵粉瓶頸小，不容易堵粉。具體地，所述噴嘴主體包括連接部和噴頭部，還包括遮蔽環(huán)，所述噴頭部與所述連接部固定連接，所述噴頭部與連接部連接的一端開設(shè)有環(huán)形凹槽，所述環(huán)形凹槽繞設(shè)于所述噴頭部的外側(cè)，所述遮蔽環(huán)套設(shè)在所述環(huán)形凹槽的外側(cè)，所述遮蔽環(huán)的上下兩端分別與所述連接部和噴頭部密封配合，所述遮蔽環(huán)、噴頭部和連接部之間形成所述環(huán)形腔體，遮蔽環(huán)可以隨時(shí)拆卸，便于疏通出粉孔和送粉通道。具體地，所述遮蔽環(huán)沿軸線方向依次開設(shè)有與噴頭部外側(cè)相匹配的第一通孔、第二通孔和與連接部外側(cè)相匹配的第三通孔，所述第一通孔、第二通孔和第三通孔貫穿所述遮蔽環(huán)，所述第一通孔套設(shè)于所述噴頭部的外側(cè)，所述第三通孔套設(shè)于所述連接部的外側(cè)。優(yōu)選地，所述連接部的上端呈錐形，下端呈圓柱形。優(yōu)選地，所述噴頭部呈錐形。優(yōu)選地，所述連接部向上延伸有圓柱形凸起，所述第三通孔套設(shè)在所述圓柱形凸起上，所述圓柱形凸起的上端與所述噴頭部固定連接。為了降低堵粉概率，優(yōu)選地，所述出粉孔有八個(gè)，還可以增加出粉量。為了便于生產(chǎn)，優(yōu)選地，所述連接部、圓柱形凸起和噴頭部一體成型。優(yōu)選地，所述送粉通道為設(shè)置在所述連接部上的斜孔。本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明的分體式等離子噴嘴其連接部上開設(shè)環(huán)形凹槽，有效的保持送粉通道通暢，同時(shí)冷卻面積增大，粉料不容易高溫粘著，由于出粉孔的距離變的非常短，堵粉瓶頸小，不容易堵粉，八個(gè)出粉孔有效的降低了堵粉概率，且遮蔽環(huán)隨時(shí)可以拆卸，便于相關(guān)人員疏通出粉孔和送粉通道。附圖說明下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說明。圖1是傳統(tǒng)的等離子噴嘴的俯視圖；圖2是圖1中A-A向的剖視圖；圖3是本發(fā)明分體式等離子噴嘴的俯視圖；圖4是圖3中B-B向剖視圖；圖5是本發(fā)明分體式等離子噴嘴中遮蔽環(huán)的示意圖；圖中：1、送粉通孔，2、噴射管道，3、環(huán)形腔體，4、出粉孔，5、送粉通道，6、連接部，7、噴頭部，8、遮蔽環(huán)，9、第一通孔，10、第二通孔，11、第三通孔，12、圓柱形凸起。具體實(shí)施方式現(xiàn)在結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。這些附圖均為簡(jiǎn)化的示意圖，僅以示意方式說明本發(fā)明的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本發(fā)明有關(guān)的構(gòu)成。實(shí)施例1如圖3和4所示，一種分體式等離子噴嘴，包括噴嘴主體，所述噴嘴主體上設(shè)置有噴射管道2，所述噴嘴主體上具有環(huán)形腔體3，所述噴嘴主體上位于所述環(huán)形腔體3的前端開設(shè)有出粉孔4，所述出粉孔4有八個(gè)，出粉孔4包圍噴射管道2且呈環(huán)形陣列分布，可以降低堵粉概率，還可以增加出粉量，所述噴嘴主體上位于所述環(huán)形腔體3的后端開設(shè)有送粉通道5，所述送粉通道5和出粉孔4均與所述環(huán)形腔體3連通，在噴嘴主體上增加環(huán)形腔體3，粉料從送粉通道5進(jìn)入環(huán)形腔體3，再?gòu)沫h(huán)形腔體3進(jìn)入出粉孔4噴出。如圖3和4所示，所述噴嘴主體包括連接部6和噴頭部7，還包括遮蔽環(huán)8，所述連接部6的上端呈錐形，下端呈圓柱形，所述噴頭部7與所述連接部6固定連接，所述噴頭部7呈錐形，所述噴頭部7與連接部6連接的一端開設(shè)有環(huán)形凹槽，所述環(huán)形凹槽繞設(shè)于所述噴頭部7的外側(cè)，所述遮蔽環(huán)8套設(shè)在所述環(huán)形凹槽的外側(cè)，所述遮蔽環(huán)8的上下兩端分別與所述連接部6和噴頭部7密封配合，所述遮蔽環(huán)8、噴頭部7和連接部6之間形成所述環(huán)形腔體3，遮蔽環(huán)8可以隨時(shí)拆卸，便于疏通出粉孔4和送粉通道5，所述送粉通道5為設(shè)置在所述連接部6上的斜孔。如圖4和5所示，所述遮蔽環(huán)8沿軸線方向依次開設(shè)有與噴頭部7外側(cè)相匹配的第一通孔9、第二通孔10和與連接部6外側(cè)相匹配的第三通孔11，所述第一通孔9、第二通孔10和第三通孔11貫穿所述遮蔽環(huán)8，所述第一通孔9套設(shè)于所述噴頭部7的外側(cè)，所述連接部6向上延伸有圓柱形凸起12，所述第三通孔11套設(shè)在所述圓柱形凸起12上，第三通孔11與圓柱形凸起12過盈配合，所述圓柱形凸起12的上端與所述噴頭部7固定連接，所述連接部6、圓柱形凸起12和噴頭部7一體成型。本發(fā)明的分體式等離子噴嘴具有如下優(yōu)點(diǎn)：1)、環(huán)形凹槽可以增加送粉量，粉料流動(dòng)距離變短，可以保持送粉通道5通暢，同時(shí)冷卻面積增大，粉料不容易高溫粘著，由于出粉孔4的距離變的非常短，堵粉瓶頸小，不容易堵粉；2)、八個(gè)送粉孔可以增加送粉量，且降低堵粉概率；3)、遮蔽環(huán)8可以隨時(shí)拆卸，便于相關(guān)人員疏通送粉孔或送粉通道5；4)、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本低且使用方便。上述依據(jù)本發(fā)明的理想實(shí)施例為啟示，通過上述的說明內(nèi)容，相關(guān)工作人員完全可以在不偏離本項(xiàng)發(fā)明技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項(xiàng)發(fā)明的技術(shù)性范圍并不局限于說明書上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來確定其技術(shù)性范圍。