應(yīng)用于激光退火設(shè)備的吹掃裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種應(yīng)用于激光退火設(shè)備的吹掃裝置，設(shè)置在激光退火設(shè)備工件臺上方區(qū)域的周圍，包括一組以上氣流腔。本實用新型通過在激光退火設(shè)備工件臺上方設(shè)置一組或多組氣流腔，向工件臺吹純凈氣體，將硅片析出的金屬離子及時吹走，同時阻止空氣中的金屬離子沉積到工件臺上，從而在不影響激光退火設(shè)備使用效率和效果的前提下，實現(xiàn)了對工件臺金屬離子的有效控制，避免了金屬離子對器件性能的影響。
【專利說明】應(yīng)用于激光退火設(shè)備的吹掃裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型涉及集成電路制造領(lǐng)域，特別是涉及硅片背面激光退火領(lǐng)域，更具體 地說，是涉及一種應(yīng)用于激光退火設(shè)備的吹掃裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 在IGBT (絕緣柵雙極型晶體管）等工藝中，需要對硅片背面進行激光退火的步驟， 以實現(xiàn)對背面金屬離子的激活。由于激光退火是硅片背面朝下的，且此時的硅片基本已完 成前道的工藝，因此部分金屬會暴在面對著工件臺的方向上，這些金屬離子可能通過空氣 傳播，在工件臺上產(chǎn)生沉積。同時，空氣中的微量金屬離子也會隨著時間的增加而容易沉積 到工件臺上。由于激光退火時是一個高溫狀態(tài)，且正面貼著工件臺，這些原來沉積在工件臺 上的金屬離子容易在高溫作用下通過保護層進入到器件中，影響器件的性能，甚至引起功 能的失效。
[0003] 通過跑控片的方式可以帶走金屬離子，但是跑控片的方式既增加工藝成本也影響 設(shè)備的有效利用率。通過使工件臺不斷地處于運動狀態(tài)，也可以使這些金屬離子不易沉積 到工件臺上，但是工件臺不斷的處于運動狀態(tài)不利于設(shè)備本身。 實用新型內(nèi)容
[0004] 本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種應(yīng)用于激光退火設(shè)備的吹掃裝置，它可 以有效控制金屬離子沉積到工件臺上。
[0005] 為解決上述技術(shù)問題，本實用新型的應(yīng)用于激光退火設(shè)備的吹掃裝置，設(shè)置在激 光退火設(shè)備工件臺上方區(qū)域的周圍，包括一組以上氣流腔。
[0006] 本實用新型通過在激光退火設(shè)備工件臺上方設(shè)置吹掃裝置，吹走工件臺上的金屬 離子，同時阻止空氣中的金屬離子沉積到工件臺上，在不影響激光退火設(shè)備使用效率和效 果的前提下，實現(xiàn)了對工件臺金屬離子的有效控制和改善，避免了金屬離子對器件性能的 影響。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0007] 圖1是帶本實用新型的吹掃裝置的激光退火設(shè)備的工件臺的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0008] 圖2?圖5是本實用新型的吹掃裝置的氣流腔結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實施方式】
[0009] 為對本實用新型的技術(shù)內(nèi)容、特點與功效有更具體的了解，現(xiàn)結(jié)合附圖，詳述如 下：
[0010] 如圖1所示，本實用新型的應(yīng)用于激光退火設(shè)備的吹掃裝置，設(shè)置在工件臺上方 區(qū)域周圍，主要由一組以上可以形成一定氣流的氣流腔組成。吹掃裝置的位置高度和到工 件臺的距離可調(diào)。吹掃裝置可以只包含一組單向氣流腔(見圖2)，也可以包含兩組雙向氣流 腔(見圖3)，或包含多組多向氣流腔(見圖4);也可以將氣流腔設(shè)計成環(huán)形(見圖5)。
[0011] 吹掃裝置可以和激光退火設(shè)備設(shè)計成關(guān)聯(lián)裝置，即：當激光退火開始時，吹掃裝置 自動關(guān)閉氣流，以避免由于局部高溫引起硅片上方的氣流波動，導(dǎo)致空氣折射變化，影響退 火效果；當激光退火結(jié)束后，吹掃裝置自動開啟氣流，向工件臺吹純凈的氣體（比如空氣或 N2等)，并在工件臺上方形成一定速度的氣流(氣流風(fēng)速和強度可調(diào))，將硅片中析出的金屬 離子及時吹走，并使空氣中的微量金屬離子不易沉積在工件臺上，以保持工件臺不受金屬 離子的污染。
[0012] 表1有無使用吹掃裝置，對工件臺金屬離子數(shù)量的影響 [0013]

【權(quán)利要求】
1. 應(yīng)用于激光退火設(shè)備的吹掃裝置，其特征在于，設(shè)置在激光退火設(shè)備工件臺上方區(qū) 域的周圍，包括一組以上氣流腔。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的吹掃裝置，其特征在于，所述氣流腔呈環(huán)形。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的吹掃裝置，其特征在于，所述吹掃裝置和激光退火設(shè)備相 關(guān)聯(lián)，當激光退火開始時，吹掃裝置自動關(guān)閉氣流；當激光退火結(jié)束后，吹掃裝置自動開啟 氣流，向激光退火設(shè)備工件臺吹純凈的氣體。
【文檔編號】B23K26/142GK204135553SQ201320818003
【公開日】2015年2月4日 申請日期:2013年12月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月12日
【發(fā)明者】童宇鋒, 胡榮星 申請人:上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司