處理諸如晶圓的靶材的光刻系統(tǒng)和方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種操作用以處理夾盤(13)上的靶材(23)的靶材處理系統(tǒng)的方法，該方法包括：在該夾盤(13)上提供至少第一夾盤位置標(biāo)記(27)和第二夾盤位置標(biāo)記(28)；提供對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)(17)，其被布置成用以檢測(cè)這些第一和第二夾盤位置標(biāo)記(27，28)，對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)(17)包括至少第一對(duì)準(zhǔn)傳感器(61)和第二對(duì)準(zhǔn)傳感器(62)；以對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)(17)的至少一個(gè)測(cè)量值為基礎(chǔ)將該夾盤(13)移動(dòng)至第一位置；以及測(cè)量和夾盤的第一位置有關(guān)的至少一個(gè)值。
【專利說明】處理諸如晶圓的靶材的光刻系統(tǒng)和方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種處理諸如晶圓的靶材的光刻系統(tǒng)，以及涉及一種操作處理諸如晶 圓的靶材的光刻系統(tǒng)的方法

【背景技術(shù)】
[0002] 處理靶材的系統(tǒng)在本技術(shù)中為已知的系統(tǒng)，其通常包括用以將圖案投射在靶材表 面的最終投射系統(tǒng)以及用以決定晶圓相對(duì)于該最終投射系統(tǒng)的位置的系統(tǒng)。一般來說，這 些系統(tǒng)可以使用晶圓上的位置標(biāo)記。在投射圖案的第一期間和第二期間之間可以需要從該 光刻系統(tǒng)處移除晶圓。在此情況中，第二期間的該圖案的位置可以必須匹配第一期間的該 圖案的位置，而且晶圓相對(duì)于最終投射系統(tǒng)（或是圖案化射束）的位置可以必須決定兩次 (每一個(gè)期間的開始處）。然而，要以高再現(xiàn)性（reproducibility)來決定晶圓相對(duì)于最終 投射系統(tǒng)的位置非常困難。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明的目的是提供一種改進(jìn)的處理諸如晶圓的靶材的光刻系統(tǒng)和方法。本發(fā)明 包括一種操作用于處理夾盤上的靶材的靶材處理系統(tǒng)的方法，該方法包括：在夾盤上提供 至少第一夾盤位置標(biāo)記和第二夾盤位置標(biāo)記；提供對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)，其被設(shè)置成用于檢測(cè)第 一和第二夾盤位置標(biāo)記，對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)至少包括第一對(duì)準(zhǔn)傳感器和第二對(duì)準(zhǔn)傳感器；基于 對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)的至少一個(gè)測(cè)量值將夾盤移至第一位置；以及測(cè)量與夾盤的第一位置有關(guān)的 至少一個(gè)值。
[0004] 第一夾盤位置標(biāo)記相對(duì)于第二夾盤位置標(biāo)記的相對(duì)位置可以與第一對(duì)準(zhǔn)傳感器 相對(duì)于第二對(duì)準(zhǔn)傳感器的相對(duì)位置基本上相同。對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)可以被設(shè)置成用于在基本上水平 的方向（X，y方向）中測(cè)量夾盤位置標(biāo)記。該方法可以進(jìn)一步包括提供最終投射系統(tǒng)，該最 終投射系統(tǒng)設(shè)置成將圖案化射束投射在靶材上，且其中，第一對(duì)準(zhǔn)傳感器被設(shè)置在第一方 向中與最終投射系統(tǒng)相隔一距離處，第二對(duì)準(zhǔn)傳感器被設(shè)置在第二方向中與最終投射系統(tǒng) 相隔一距離處。依此方式，這些對(duì)準(zhǔn)傳感器可被設(shè)置成沿著垂直的X軸與y軸，以更快地確 定這些夾盤位置標(biāo)記在兩個(gè)維度中的位置。
[0005] 該方法可以包括將圖案化射束投射在靶材上，以在靶材上形成射束網(wǎng)格，其中，第 一對(duì)準(zhǔn)傳感器被設(shè)置成用于檢測(cè)在第一方向中與射束網(wǎng)格相隔一距離處的位置標(biāo)記，第二 對(duì)準(zhǔn)傳感器被設(shè)置成用于檢測(cè)在第二方向中與射束網(wǎng)格相隔一距離處的位置標(biāo)記。在此設(shè) 置中，這些對(duì)準(zhǔn)傳感器相對(duì)于投射在靶材上的射束網(wǎng)格被設(shè)置成沿著垂直的X軸與y軸，以 便更快地確定夾盤位置標(biāo)記在兩個(gè)維度中的位置。
[0006] 該方法可以包括將圖案化射束投射在靶材上，以在靶材上形成射束網(wǎng)格，其中，對(duì) 準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)包括一個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器，該對(duì)準(zhǔn)傳感器被設(shè)置成用于檢測(cè)與射束網(wǎng)格相隔 一距離處的位置標(biāo)記，且其中，該方法進(jìn)一步包括確定一個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器與射束網(wǎng)格 之間的空間關(guān)系。確定一個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器與射束網(wǎng)格之間的空間關(guān)系的步驟可包括確 定每一個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器的向量，該向量用于描述在基本上水平的方向（舉例來說，x、y方向） 中對(duì)準(zhǔn)傳感器相對(duì)于射束網(wǎng)格的位置。
[0007] 對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)可以包括至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器，用于檢測(cè)靶材和/或夾盤的表面上 的位置標(biāo)記，而且對(duì)準(zhǔn)傳感器可以包括：被設(shè)置成用于提供對(duì)準(zhǔn)光射束的光源；被設(shè)置成 用于確定反射對(duì)準(zhǔn)光射束的光強(qiáng)度的光強(qiáng)度檢測(cè)器，其中，反射對(duì)準(zhǔn)光射束是由于表面反 射所述對(duì)準(zhǔn)光射束而產(chǎn)生；以及光學(xué)系統(tǒng)，其被設(shè)置成用于將對(duì)準(zhǔn)光射束聚焦在表面上并 且將反射對(duì)準(zhǔn)光射束引導(dǎo)至光強(qiáng)度檢測(cè)器上。
[0008] 測(cè)量與夾盤的第一位置有關(guān)的至少一個(gè)值的步驟可以包括：移動(dòng)夾盤以使夾盤位 置標(biāo)記與對(duì)準(zhǔn)傳感器對(duì)準(zhǔn)，以及測(cè)量與夾盤的目前位置有關(guān)的至少一個(gè)值。移動(dòng)夾盤以使 夾盤位置標(biāo)記與對(duì)準(zhǔn)傳感器對(duì)準(zhǔn)的步驟可以包括在兩條水平軸（舉例來說，X軸與y軸）中 移動(dòng)夾盤并且在必要時(shí)繞著垂直軸（舉例來說，Rz方向）旋轉(zhuǎn)夾盤，以便達(dá)到對(duì)準(zhǔn)的目的。
[0009] 使夾盤位置標(biāo)記與對(duì)準(zhǔn)傳感器對(duì)準(zhǔn)可以包括實(shí)施第一夾盤位置標(biāo)記和第一對(duì)準(zhǔn) 傳感器的對(duì)準(zhǔn)以及第二夾盤位置標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)傳感器的對(duì)準(zhǔn)的極小的最小平方擬合 (minimum least square fit) 〇
[0010] 本發(fā)明可提供了一種夾盤位置測(cè)量系統(tǒng)，其包括至少兩個(gè)干涉儀，其中，測(cè)量與夾 盤的第一位置有關(guān)的至少一個(gè)值包括測(cè)量干涉儀的輸出。該方法可進(jìn)一步包括利用位于第 一位置處的夾盤來初始化干涉儀。該方法可進(jìn)一步包括儲(chǔ)存與夾盤的第一位置有關(guān)的至少 一個(gè)測(cè)量值作為夾盤初始化位置。
[0011] 本發(fā)明可提供了一種水平傳感系統(tǒng)，其包括多個(gè)水平傳感器，而且參考表面可設(shè) 置在夾盤上，該方法進(jìn)一步包括測(cè)量與參考表面相對(duì)于水平傳感器的定向有關(guān)的至少一個(gè) 值。該方法可進(jìn)一步包括：在測(cè)量與射束網(wǎng)格的定向有關(guān)的至少一個(gè)值之前，先移動(dòng)夾盤， 以使參考表面與水平傳感器的水平傳感器平面對(duì)準(zhǔn)。這使得夾盤的傾斜能夠被糾正或?qū)?齊，從而使隨后的測(cè)量和處理更簡(jiǎn)單。移動(dòng)夾盤以使參考表面與水平傳感器的水平傳感器 平面對(duì)準(zhǔn)的步驟可包括測(cè)量從第一水平傳感器至參考表面的距離以及測(cè)量從第二水平傳 感器至參考表面的距離，并且于必要時(shí)移動(dòng)夾盤，使得參考表面與水平傳感器平面一致。該 水平傳感系統(tǒng)可以設(shè)置成用于在基本上垂直的方向（舉例來說，z方向）中測(cè)量與表面相隔 的距離。該水平傳感系統(tǒng)可包括微分電容式感測(cè)系統(tǒng)。該水平傳感系統(tǒng)可包括：至少第一 水平傳感器，其被設(shè)置在第一方向中與最終投射系統(tǒng)相隔一距離處；以及第二水平傳感器， 其被設(shè)置在第二方向中與最終投射系統(tǒng)相隔一距離處。
[0012] 該對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)可包括至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器，且水平傳感系統(tǒng)可包括至少一個(gè)水 平傳感器，至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器可設(shè)置成在第一點(diǎn)處檢測(cè)在表面上的位置標(biāo)記，并且至少 一個(gè)水平傳感器可設(shè)置成用于在第一點(diǎn)處或是鄰近第一點(diǎn)測(cè)量與表面相隔的距離。
[0013] 該方法可進(jìn)一步包括測(cè)量直接或間接裝載在夾盤上的靶材的名義靶材中心相對(duì) 于對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)的位置。該方法可進(jìn)一步包括至少部分基于與夾盤的第一位置有關(guān)的測(cè)量 值將夾盤移至第二位置，以及測(cè)量與夾盤的第二位置有關(guān)的至少一個(gè)值。該方法可進(jìn)一步 包括：提供參考靶材，在參考靶材的中心位置處具有靶材位置標(biāo)記；移動(dòng)該夾盤，以使該中 心位置與對(duì)準(zhǔn)傳感器中的至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)；以及測(cè)量夾盤的目前位置。該方法可包括，例如通 過計(jì)算向量來確定參考靶材的中心位置相對(duì)于每一個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器的相對(duì)位置。
[0014] 本發(fā)明還涉及一種方法，該方法可以附加于上述方法或獨(dú)立于該上述方法來執(zhí) 行，該方法包括以下步驟：產(chǎn)生圖案化射束，該圖案化射束在聚焦平面上有焦距；移動(dòng)該夾 盤，以將射束位置傳感器定位在圖案化射束下方，該圖案化射束在射束位置傳感器上形成 射束網(wǎng)格；以及測(cè)量與射束位置傳感器上的射束網(wǎng)格的定向有關(guān)的至少一個(gè)值。產(chǎn)生圖案 化射束的步驟可包括產(chǎn)生多個(gè)子射束，該子射束被設(shè)置成網(wǎng)格形式。該方法可進(jìn)一步包括 在射束位置傳感器上提供至少一個(gè)阻隔（blocking)特征，而且測(cè)量與射束位置傳感器上 的射束網(wǎng)格的定向有關(guān)的至少一個(gè)值的步驟可包括讓圖案化射束掃過射束位置傳感器的 至少一個(gè)阻隔特征。
[0015] 產(chǎn)生圖案化射束的步驟可包括產(chǎn)生被設(shè)置成網(wǎng)格形式的多個(gè)子射束，在射束位置 傳感器上提供至少一個(gè)阻隔特征的步驟可包括在對(duì)應(yīng)于子射束的名義相對(duì)空間位置的相 對(duì)空間位置處提供被設(shè)置在射束位置傳感器上的多個(gè)阻隔特征，而且使圖案化射束掃過的 步驟可包括讓多個(gè)子射束掃過多個(gè)阻隔特征中的多個(gè)對(duì)應(yīng)阻隔特征。
[0016] 靶材可以具有在表面上形成的第一圖案和多個(gè)靶材位置標(biāo)記，該方法進(jìn)一步包 括：基于與夾盤的定向有關(guān)的至少一個(gè)測(cè)量值以及與射束網(wǎng)格的定向有關(guān)的至少一個(gè)測(cè)量 值來使夾盤與射束網(wǎng)格對(duì)準(zhǔn)。使夾盤與射束網(wǎng)格對(duì)準(zhǔn)的步驟可包括繞著垂直軸（舉例來 說，RZ方向）旋轉(zhuǎn)夾盤。測(cè)量與夾盤相對(duì)于對(duì)準(zhǔn)傳感器的定向有關(guān)的至少一個(gè)值的步驟可 包括：確定基本上水平的夾盤軸，其中，產(chǎn)生圖案化射束的步驟包括產(chǎn)生被設(shè)置成網(wǎng)格形式 的多個(gè)子射束，相對(duì)于基本上水平的射束網(wǎng)格軸設(shè)置這些子射束，且其中，使夾盤與射束網(wǎng) 格對(duì)準(zhǔn)的步驟可包括對(duì)準(zhǔn)夾盤軸使其平行于射束網(wǎng)格軸。
[0017] 本發(fā)明還涉及一種方法，該方法可以附加于上述方法或獨(dú)立于該上述方法來執(zhí) 行，該方法包括以下步驟：使靶材的表面與圖案化射束的聚焦平面對(duì)準(zhǔn)。使靶材的表面與圖 案化射束的聚焦平面對(duì)準(zhǔn)的步驟可包括：在必要時(shí)在兩個(gè)維度（X方向，y方向）中基本上 水平地移動(dòng)夾盤，以將夾盤的原點(diǎn)定位在射束網(wǎng)格的原點(diǎn)下方；以及在必要時(shí)在基本上垂 直的方向（z方向）中移動(dòng)夾盤，以將夾盤的原點(diǎn)定位在最終投射系統(tǒng)的聚焦平面中。該方 法可進(jìn)一步包括在必要時(shí)繞著基本上水平的軸（Rx，Ry方向）旋轉(zhuǎn)夾盤，以便使參考表面對(duì) 準(zhǔn)水平傳感器平面。
[0018] 該方法可進(jìn)一步包括在必要時(shí)繞著基本上垂直的軸（Rz方向）旋轉(zhuǎn)夾盤，以便使 夾盤的軸對(duì)準(zhǔn)射束網(wǎng)格的軸，并且可包括校正水平傳感器使得水平傳感器平面與聚焦平面 重合。該方法可進(jìn)一步包括測(cè)量與形成在靶材上的第一圖案的定向有關(guān)的至少一個(gè)值。
[0019] 本發(fā)明還涉及一種方法，該方法可以附加于上述方法或獨(dú)立于該上述方法來執(zhí) 行，該方法包括以下步驟：測(cè)量靶材上的第一圖案的中心位置相對(duì)于靶材的名義中心位置 的偏移；以及根據(jù)該偏移和靶材位置標(biāo)記相對(duì)于靶材的位置計(jì)算與靶材位置標(biāo)記相對(duì)于對(duì) 準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)的位置有關(guān)的至少一個(gè)值。
[0020] 上述方法中測(cè)量與第一圖案射束網(wǎng)格的定向有關(guān)的至少一個(gè)值的步驟可進(jìn)一步 包括：移動(dòng)夾盤，以將靶材上第一圖案的中心位置定位在第一對(duì)準(zhǔn)傳感器下方；移動(dòng)夾盤， 以將第一祀材位置標(biāo)記定位在第一對(duì)準(zhǔn)傳感器下方；以及確定第一祀材位置標(biāo)記相對(duì)于射 束網(wǎng)格的位置。該方法可進(jìn)一步包括：移動(dòng)夾盤，以將靶材的中心定位在第二對(duì)準(zhǔn)傳感器下 方；移動(dòng)夾盤，以將第二靶材位置標(biāo)記定位在第二對(duì)準(zhǔn)傳感器下方；以及確定第二靶材位 置標(biāo)記相對(duì)于射束網(wǎng)格的位置。
[0021] 上述方法可進(jìn)一步包括：根據(jù)與第一圖案的定向有關(guān)的至少一個(gè)測(cè)量值以及與射 束網(wǎng)格的定向有關(guān)的至少一個(gè)測(cè)量值來使形成在表面上的第一圖案與射束網(wǎng)格對(duì)準(zhǔn)。該方 法可包括旋轉(zhuǎn)該靶材，以使第一靶材圖案的軸（y軸）與射束網(wǎng)格的對(duì)應(yīng)軸（y軸）對(duì)準(zhǔn)，并 且可進(jìn)一步包括利用圖案化射束在表面上形成第二圖案。
[0022] 本發(fā)明還涉及一種利用圖案化射束在靶材上形成第二圖案的方法，該第二圖案與 先前已形成在靶材的表面上的第一圖案對(duì)準(zhǔn)，該方法包括：提供光刻系統(tǒng)來產(chǎn)生圖案化射 束，該光刻系統(tǒng)包括用于將圖案化射束投射在表面上的最終投射系統(tǒng)，并且進(jìn)一步包括對(duì) 準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)和水平傳感系統(tǒng)；以及提供夾盤，該夾盤包括夾盤位置標(biāo)記和射束位置傳感器。 該方法包括以下步驟：根據(jù)對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)的至少一個(gè)測(cè)量將夾盤移至第一位置，和測(cè)量與 夾盤的第一位置有關(guān)的至少一個(gè)值；測(cè)量直接或間接裝載在夾盤上的靶材的名義中心相對(duì) 于對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)的位置；產(chǎn)生圖案化射束，該圖案化射束在聚焦平面上有焦距；移動(dòng)夾盤， 以將射束位置傳感器定位在圖案化射束下方，該圖案化射束在射束位置傳感器上形成射束 網(wǎng)格；和測(cè)量與射束位置傳感器上的射束網(wǎng)格的定向有關(guān)的至少一個(gè)值。該方法可以進(jìn)一 步包括以下步驟：將靶材直接或間接定位在夾盤上，該靶材具有表面并且具有形成在該表 面上的第一圖案和多個(gè)靶材位置標(biāo)記；基于與夾盤的定向有關(guān)的至少一個(gè)測(cè)量值以及與射 束網(wǎng)格的定向有關(guān)的至少一個(gè)測(cè)量值來使夾盤與射束網(wǎng)格對(duì)準(zhǔn)；使靶材的表面與圖案化射 束的聚焦平面對(duì)準(zhǔn)；測(cè)量與第一圖案的定向有關(guān)的至少一個(gè)值；基于與第一圖案的定向有 關(guān)的至少一個(gè)測(cè)量值以及與射束網(wǎng)格的定向有關(guān)的至少一個(gè)測(cè)量值來使形成在表面上的 第一圖案與射束網(wǎng)格對(duì)準(zhǔn)；以及利用圖案化射束在表面上形成第二圖案。
[0023] 本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種確定圖案相對(duì)于射束網(wǎng)格的空間關(guān)系的方法，其中，該圖 案被形成在靶材的表面上，且靶材直接或間接地定位在夾盤上，且其中，通過將圖案化射束 投射在表面上形成射束網(wǎng)格。該方法包括：將夾盤移至第一位置，并且測(cè)量與夾盤相對(duì)于參 考坐標(biāo)框架的空間關(guān)系有關(guān)的至少第一值；將夾盤移至第二位置，該夾盤移動(dòng)至少部分以 該第一值為基礎(chǔ)，測(cè)量與靶材相對(duì)于參考坐標(biāo)框架的空間關(guān)系有關(guān)的至少一個(gè)值；將夾盤 移至第三位置，該夾盤移動(dòng)至少部分以該第一值為基礎(chǔ)，以及測(cè)量與射束網(wǎng)格相對(duì)于參考 坐標(biāo)框架的空間關(guān)系有關(guān)的至少一個(gè)值；將夾盤移至第四位置，該夾盤移動(dòng)至少部分以第 一值、第二值、以及第三值為基礎(chǔ)，以及測(cè)量與圖案相對(duì)于參考坐標(biāo)框架的空間關(guān)系有關(guān)的 至少一個(gè)值。
[0024] 在又一方面，本發(fā)明涉及一種用于處理夾盤上的靶材的靶材處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)包 括：可移動(dòng)的夾盤，其包括至少第一夾盤位置標(biāo)記和第二夾盤位置標(biāo)記；對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)，其 被設(shè)置成用于檢測(cè)第一夾盤位置標(biāo)記和第二夾盤位置標(biāo)記，該對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)包括至少第一 對(duì)準(zhǔn)傳感器和第二對(duì)準(zhǔn)傳感器，致動(dòng)器，被設(shè)置成用于基于對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)的至少一個(gè)測(cè)量 將夾盤移至第一位置；以及測(cè)量系統(tǒng)，被設(shè)置成用于測(cè)量與夾盤的第一位置有關(guān)的至少一 個(gè)值。
[0025] 第一夾盤位置標(biāo)記相對(duì)于第二夾盤位置標(biāo)記的相對(duì)位置可以與第一對(duì)準(zhǔn)傳感器 相對(duì)于第二對(duì)準(zhǔn)傳感器的相對(duì)位置基本上相同。對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)可設(shè)置成用于在基本上水平的方 向中（x，y方向）測(cè)量夾盤位置標(biāo)記。該系統(tǒng)可進(jìn)一步包括最終投射系統(tǒng)，其被設(shè)置成將圖 案化射束投射在靶材上，且其中，第一對(duì)準(zhǔn)傳感器被設(shè)置在第一方向（y軸）中與最終投射 系統(tǒng)相隔一距離處，第二對(duì)準(zhǔn)傳感器被設(shè)置在第二方向（X軸）中與最終投射系統(tǒng)相隔一距 離處。
[0026] 該系統(tǒng)可進(jìn)一步包括最終投射系統(tǒng)，用于將圖案化射束投射在靶材上，以在靶材 上形成射束網(wǎng)格，其中，該第一對(duì)準(zhǔn)傳感器被設(shè)置成用于檢測(cè)在第一方向（y軸）中與射束 網(wǎng)格相隔一距離處的位置標(biāo)記，該第二對(duì)準(zhǔn)傳感器被設(shè)置成用于檢測(cè)在第二方向（X軸）中 與該射束網(wǎng)格相隔一距離處的位置標(biāo)記。
[0027] 該系統(tǒng)可進(jìn)一步包括最終投射系統(tǒng)，用于將圖案化射束投射在靶材上，以在靶材 上形成射束網(wǎng)格，其中，該對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)包括一個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器，該對(duì)準(zhǔn)傳感器被設(shè)置 成用于檢測(cè)與射束網(wǎng)格相隔一距離處的位置標(biāo)記，且其中，該系統(tǒng)進(jìn)一步包括測(cè)量系統(tǒng)，用 于確定一個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器與射束網(wǎng)格之間的空間關(guān)系。
[0028] 測(cè)量系統(tǒng)可被設(shè)置成通過確定每一個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器的向量來確定一個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn) 傳感器與射束網(wǎng)格之間的空間關(guān)系，該向量描述在基本上水平的方向中（x，y方向）對(duì)準(zhǔn)傳 感器相對(duì)于射束網(wǎng)格的位置。該對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)可包括至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器，用于檢測(cè)在靶 材和/或夾盤的表面上的位置標(biāo)記，該對(duì)準(zhǔn)傳感器包括：光源，被設(shè)置成用于提供對(duì)準(zhǔn)光射 束；光強(qiáng)度檢測(cè)器，其被設(shè)置成用于確定反射對(duì)準(zhǔn)光射束的光強(qiáng)度，其中，反射對(duì)準(zhǔn)光射束 是通過表面反射所述對(duì)準(zhǔn)光射束而產(chǎn)生的；以及光學(xué)系統(tǒng)，被設(shè)置成用于將對(duì)準(zhǔn)光射束聚 焦在表面上并且將反射對(duì)準(zhǔn)光射束引導(dǎo)至光強(qiáng)度檢測(cè)器上。
[0029] 夾盤可包括在該夾盤上的至少兩個(gè)夾盤位置標(biāo)記，且其中，測(cè)量系統(tǒng)被設(shè)置成用 于測(cè)量與夾盤的第一位置有關(guān)的至少一個(gè)值，該操作包括：移動(dòng)該夾盤以使夾盤位置標(biāo)記 與對(duì)準(zhǔn)傳感器對(duì)準(zhǔn)；以及測(cè)量與夾盤的目前位置有關(guān)的至少一個(gè)值。該測(cè)量系統(tǒng)和夾盤致 動(dòng)器可被設(shè)置成用于移動(dòng)該夾盤，以使夾盤位置標(biāo)記與對(duì)準(zhǔn)傳感器對(duì)準(zhǔn)，該操作包括：在兩 個(gè)水平軸（X，y軸）中移動(dòng)該夾盤，以及在必要時(shí)繞著垂直軸（RZ方向）旋轉(zhuǎn)該夾盤，以便 達(dá)到對(duì)準(zhǔn)的目的。
[0030] 該系統(tǒng)可被設(shè)置成用于將夾盤位置標(biāo)記和對(duì)準(zhǔn)傳感器對(duì)準(zhǔn)，該操作包括：實(shí)施第 一夾盤位置標(biāo)記與第一對(duì)準(zhǔn)傳感器的對(duì)準(zhǔn)以及第二夾盤位置標(biāo)記與第二對(duì)準(zhǔn)傳感器的對(duì) 準(zhǔn)的極小的最小平方擬合。該系統(tǒng)可進(jìn)一步包括夾盤位置測(cè)量系統(tǒng)，其包括至少兩個(gè)干涉 儀，且其中，測(cè)量與夾盤的第一位置有關(guān)的至少一個(gè)值包括測(cè)量該干涉儀的輸出。該系統(tǒng)可 被設(shè)置成用于利用位于第一位置處的夾盤來初始化干涉儀。測(cè)量系統(tǒng)可被設(shè)置成用于儲(chǔ)存 與夾盤的第一位置有關(guān)的至少一個(gè)測(cè)量值作為夾盤初始化位置。
[0031] 該系統(tǒng)可進(jìn)一步包括水平傳感系統(tǒng)，其包括多個(gè)水平傳感器，以及位于夾盤上的 參考表面，該系統(tǒng)被設(shè)置成用于測(cè)量與參考表面相對(duì)于水平傳感器的定向有關(guān)的至少一個(gè) 值。該測(cè)量系統(tǒng)和致動(dòng)器可被設(shè)置成用于在測(cè)量與射束網(wǎng)格的定向有關(guān)的至少一個(gè)值之前 先移動(dòng)該夾盤以將參考表面和水平傳感器的水平傳感器平面對(duì)準(zhǔn)。
[0032] 該水平傳感系統(tǒng)可被設(shè)置成測(cè)量從第一水平傳感器至參考表面的距離以及測(cè)量 從第二水平傳感器至參考表面的距離；并且致動(dòng)器被設(shè)置成在必要時(shí)移動(dòng)夾盤，使得參考 表面與水平傳感器平面重合。該水平傳感系統(tǒng)可設(shè)置成用于在基本上垂直的方向（舉例來 說，z方向）中測(cè)量與該表面相隔的距離。該水平傳感系統(tǒng)可包括微分電容式感測(cè)系統(tǒng)。該 水平傳感系統(tǒng)可包括：至少第一水平傳感器，其被設(shè)置在第一方向（y軸）中與最終投射系 統(tǒng)相隔一距離處；以及第二水平傳感器，其被設(shè)置在第二方向（X軸）中與最終投射系統(tǒng)相 隔一距離處。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0033] 現(xiàn)在將依照附圖中所示的示例實(shí)施例來說明本發(fā)明，其中：
[0034] 圖1所示的是根據(jù)本發(fā)明的光刻系統(tǒng)的實(shí)施例的一部分的示意剖面圖；
[0035] 圖2示意顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的對(duì)準(zhǔn)傳感器和水平傳感器的布置；
[0036] 圖3示意顯示本發(fā)明實(shí)施例的微分電容式傳感器；
[0037] 圖4所示的是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的對(duì)準(zhǔn)傳感器的示意圖；
[0038] 圖5所示的是光刻系統(tǒng)中的X方向、y方向、z方向、以及Rx旋轉(zhuǎn)方向、Ry旋轉(zhuǎn)方 向、Rz旋轉(zhuǎn)方向的可能定義圖；
[0039] 圖6A所示的是夾盤的實(shí)施例的示意俯視圖；
[0040] 圖6B所示的是本發(fā)明實(shí)施例中多個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器和射束網(wǎng)格之間的空間關(guān)系的示 意俯視圖；
[0041] 圖7所示的是射束測(cè)量傳感器的實(shí)施例的示意俯視圖；
[0042] 圖8所示的是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的位置標(biāo)記（例如，靶材位置標(biāo)記或夾盤位置標(biāo) 記）的不意略圖；
[0043] 圖9所示的是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的位置標(biāo)記的布置的概要略圖；
[0044] 圖10A至10B所示的是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的測(cè)量與對(duì)準(zhǔn)程序的第一部分的概要略 圖；
[0045] 圖11所示的是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的測(cè)量與對(duì)準(zhǔn)程序的第二部分的概要略圖；
[0046] 圖12A至12B所示的是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的測(cè)量與對(duì)準(zhǔn)程序的第三部分的概要略 圖；
[0047] 圖13A至13B所示的是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的測(cè)量與對(duì)準(zhǔn)程序的第四部分的概要略 圖；
[0048] 圖14A至14E所示的是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的測(cè)量與對(duì)準(zhǔn)程序的第五部分的概要略 圖；
[0049] 圖15所示的是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光刻系統(tǒng)的概要略圖。

【具體實(shí)施方式】
[0050] 下面為本發(fā)明特定實(shí)施例的說明，其僅透過示例提出并且參考上面的附圖。參考 圖1，圖中提供的是光刻系統(tǒng)的剖面的概要略圖。最終投射系統(tǒng)11可被布置成用以從射束 源處接收射束并且投射圖案化射束18于表面12上。圖1中并未顯示該射束源，但是，可在 圖15中看見示例。最終投射系統(tǒng)11可以包括準(zhǔn)直器、透鏡、偏轉(zhuǎn)器、和/或其它（電氣）光 學(xué)組件，用以整形和/或引導(dǎo)該圖案化射束。該最終投射系統(tǒng)11可以是投射列的（最后） 部件，該投射列包括射束源、偏轉(zhuǎn)器、射束切換器和/或其它（電氣）光學(xué)組件。該投射列 可以是光學(xué)投射列或是帶電粒子光學(xué)投射列。
[0051] 圖案化射束18會(huì)被引導(dǎo)至表面12。表面12可以是靶材（例如，晶圓）的表面，或 是傳感器（例如，射束測(cè)量傳感器20)的測(cè)量表面。該射束測(cè)量傳感器和/或該靶材/晶 圓可以被提供在夾盤13上，直接位于該夾盤上或是位于該夾盤上的另一組件上。該夾盤13 可以在至少一個(gè)維度中移動(dòng)，而且較佳的是，可以在多個(gè)維度中移動(dòng)。
[0052] 該光刻系統(tǒng)可以具備致動(dòng)器系統(tǒng)，用以在一或多個(gè)維度中移動(dòng)該夾盤。該致動(dòng)器 系統(tǒng)通常包括長(zhǎng)行程平臺(tái)和短行程平臺(tái)，兩者會(huì)一起完成這些移動(dòng)，并且可以是通常使用 在光刻系統(tǒng)中的類型。
[0053] 最終投射系統(tǒng)11會(huì)被布置成用以聚焦該圖案化射束18于聚焦平面上，而該光刻 系統(tǒng)會(huì)被布置成用以讓表面12位于該聚焦平面上。該圖案化射束18可以包括單一射束或 多個(gè)子射束（有時(shí)候稱為小射束），而且較佳的是包括大量的子射束。該圖案化射束18可 被投射于表面12上，用以照射表面12上的區(qū)域，本文中稱為"射束網(wǎng)格"。其中，該圖案化 射束18包括多個(gè)子射束，這些子射束較佳的是會(huì)被引導(dǎo)至表面12上布置成網(wǎng)格形態(tài)的多 個(gè)光點(diǎn)，以便在該表面上形成射束網(wǎng)格60。
[0054] 為定義射束網(wǎng)格60相對(duì)于表面12的位置/定向，舉例來說，射束網(wǎng)格60的原點(diǎn) 或參考點(diǎn)64可以被定義為定位在穿過射束網(wǎng)格60中射束18的所有子射束的最小平方網(wǎng) 格擬合處的參考射束的名義聚焦位置（實(shí)數(shù)或虛數(shù)）。射束網(wǎng)格60的X軸與y軸也可以被 定義，舉例來說，X軸穿過該原點(diǎn)并且平行于該射束網(wǎng)格上的子射束行，而y軸穿過該原點(diǎn) 并且垂直于X軸。z軸也可以被定義，舉例來說，垂直于水平傳感系統(tǒng)19的水平傳感器平面 或是圖案化射束18的聚焦平面。此坐標(biāo)系統(tǒng)的定義與射束網(wǎng)格60有關(guān)，而且于本文中稱 為射束網(wǎng)格坐標(biāo)系統(tǒng)。
[0055] 在圖1中顯示一夾盤位置傳感器系統(tǒng)的實(shí)施例，其包括微分干涉儀 (differential interferometer) 15。該微分干涉儀可以使用兩個(gè)面鏡：夾盤位置面鏡14, 其被固定至該夾盤；以及最終投射系統(tǒng)位置面鏡16,其可以被固定至支撐體63或是被固定 至最終投射系統(tǒng)11。依此方式，該干涉儀會(huì)被布置成用以檢測(cè)移動(dòng)并且測(cè)量夾盤13相對(duì)于 最終投射系統(tǒng)11的位置。該夾盤位置傳感器系統(tǒng)可以包括一個(gè)以上微分干涉儀，以便測(cè)量 夾盤在一個(gè)以上方向中的位置，舉例來說，X軸微分干涉儀被布置成用以測(cè)量X方向中的夾 盤位置而y軸微分干涉儀被布置成用以測(cè)量y方向中的夾盤位置。干涉儀15可以是三軸 干涉儀。應(yīng)該了解的是，亦可以使用其它類型的夾盤位置傳感器系統(tǒng)來決定夾盤13相對(duì)于 最終投射系統(tǒng)11的位置。
[0056] 圖1還顯示對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)17的實(shí)施例的一部分，其被布置成用以檢測(cè)一表面上的 位置標(biāo)記。此位置標(biāo)記可以被提供在夾盤13的表面上，S卩，夾盤位置標(biāo)記；或者，其可以被 提供在靶材的表面上，即，靶材位置標(biāo)記。
[0057] 圖1還顯示水平傳感系統(tǒng)19的實(shí)施例的一部分。該水平傳感系統(tǒng)19會(huì)被布置成 用以檢測(cè)水平傳感器和表面12之間的距離，以便決定表面12在z方向中的位置。該水平 傳感系統(tǒng)19可以包括被布置在支撐體63上和/或最終投射系統(tǒng)11上，和/或被布置在其 它合適位置中，的傳感器，例如，電容式傳感器。對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)17和水平傳感系統(tǒng)19的傳 感器較佳的是和最終投射系統(tǒng)11及射束網(wǎng)格60有固定的空間關(guān)系。
[0058] 可以提供一測(cè)量系統(tǒng)10,用以從夾盤位置測(cè)量系統(tǒng)15和/或?qū)?zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)17和 /或水平傳感系統(tǒng)19和/或射束測(cè)量系統(tǒng)處接收輸入和/或測(cè)量值。
[0059] 圖2所示的是根據(jù)本發(fā)明的光刻系統(tǒng)的實(shí)施例的剖面圖的一部分。圖2顯示最終 投射系統(tǒng)11和支撐體63的布置（于本實(shí)施例為環(huán)圈形式）以及對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)17的各個(gè) 部分。圖中所示的布置猶如從該行的射束源看去，注視該靶材，以便簡(jiǎn)單地和其它圖中所示 坐標(biāo)作比較。
[0060] 在此實(shí)施例中，對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)17包括兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器61、62,而水平傳感系統(tǒng)19 包括六個(gè)水平傳感器57、58、59。圖中所示的最終投射系統(tǒng)11雖然有方形射束網(wǎng)格60 ;不 過，也可以使用矩形、偏菱形、六角形、圓形、或是其它形狀的射束網(wǎng)格。水平傳感器59可以 被布置在最終投射系統(tǒng)11的底部表面，緊密靠近射束網(wǎng)格60。支撐體63支撐對(duì)準(zhǔn)傳感器 61、62以及水平傳感器57、58,并且還可以支撐干涉儀面鏡16。
[0061] 圖2中顯示該射束網(wǎng)格坐標(biāo)系統(tǒng)的X軸與y軸。在此實(shí)施例中，第一對(duì)準(zhǔn)傳感器 61和第一水平傳感器57是被沿著y軸布置，而第二對(duì)準(zhǔn)傳感器62和第二水平傳感器58是 沿著X軸被布置。對(duì)準(zhǔn)傳感器61、62以及水平傳感器57、58是以和原點(diǎn)64基本上為固定 空間關(guān)系的方式被安置，對(duì)準(zhǔn)傳感器61、62的射束軸位與射束網(wǎng)格60的原點(diǎn)64相隔固定 的距離。
[0062] 支撐體63可以懸掛自框架71。在圖1中顯示支撐體63如何通過三個(gè)彎曲件72(圖 1中僅顯示兩個(gè)彎曲件）被連接至框架71?？梢孕枰辽偃齻€(gè)彎曲件方能在空間中定義該 環(huán)圈的位置。該彎曲件72可以包括彈性材料或多個(gè)支撐桿，其利用有鏈或彈性接點(diǎn)或是利 用連接線連接至能夠收縮的框架71和/或支撐體63。該彎曲件72可以被膠黏在支撐體 63的凹部中，如圖1中所示。從圖1和圖6中可以了解，舉例來說，倘若該最終投射系統(tǒng)因 為例如溫度變化造成的熱膨脹而在徑向方向中（也就是，垂直于圖案化射束18的軸線）膨 脹的話，該膨脹并不會(huì)相對(duì)于表面12來移動(dòng)該射束軸。支撐體63可以同樣會(huì)因?yàn)闊崤蛎?的關(guān)系而在徑向方向中膨脹，這會(huì)相對(duì)于射束原點(diǎn)64移動(dòng)對(duì)準(zhǔn)傳感器和水平傳感器。支撐 體63可以包括低熱膨脹材料，例如，玻璃陶瓷（Pyrex和/或Zerodur),用以降低此效應(yīng)。 因?yàn)閺澢?2的關(guān)系，支撐體63的任何此種膨脹均不會(huì)在框架71上的徑向方向中造成膨 脹作用力。同樣地，因?yàn)閺澢?2的關(guān)系，框架71在徑向方向中的任何膨脹也不會(huì)在支撐 體63上造成膨脹作用力。這使得可以利用高熱膨脹材料（例如，鋁）來建構(gòu)框架71，而不 會(huì)對(duì)對(duì)準(zhǔn)傳感器和水平傳感器相對(duì)于射束網(wǎng)格的位置產(chǎn)生不適當(dāng)?shù)挠绊憽?br> [0063] 圖3示意顯示可以使用在本發(fā)明實(shí)施例中的水平傳感系統(tǒng)19中的微分電容式傳 感器51的實(shí)施例視圖。該電容式傳感器可以包括第一測(cè)量電極52、第二測(cè)量電極53、以及 護(hù)衛(wèi)電極54,全部彼此電絕緣。這些電極52、53以及護(hù)衛(wèi)部54可以各自形成包括金屬（例 如，銅）的薄層。第一測(cè)量電極與第二測(cè)量電極都可以具有類半月的形狀，而且在它們之間 可以有一開口 55。這些電極52、53以及護(hù)衛(wèi)部54可以被連接至微分電容式高度測(cè)量系統(tǒng) (例如，圖1中所示的高度測(cè)量系統(tǒng)40)的處理單元，該微分電容式高度測(cè)量系統(tǒng)被布置成 用以決定距離和/或傾斜測(cè)量值。為決定傾斜，可能需要用到兩對(duì)測(cè)量電極，舉例來說，如 圖3中所示的兩個(gè)傳感器結(jié)構(gòu)。
[0064] 開口 55可以被布置成使得對(duì)準(zhǔn)光射束和反射對(duì)準(zhǔn)光射束可以在這些對(duì)準(zhǔn)傳感器 的其中一者的操作期間通過開口 55。由于此種布置的關(guān)系，該微分電容式傳感器51的距離 測(cè)量會(huì)在開口 55的中心的下方進(jìn)行，位于對(duì)準(zhǔn)傳感器的射束軸的位置處，因此，水平測(cè)量 能夠在對(duì)準(zhǔn)傳感器正在進(jìn)行讀取的位置處進(jìn)行。同樣地，可以在開口 55的中心處利用兩對(duì) 測(cè)量電極來測(cè)量?jī)A斜。這些電極可被布置成使得其中一對(duì)位于另一對(duì)頂端而且兩對(duì)皆可以 被布置在開口 55周圍。第一對(duì)測(cè)量電極的定向可能相對(duì)于第二對(duì)測(cè)量電極的定向產(chǎn)生偏 移，舉例來說，偏移90度。
[0065] 水平傳感系統(tǒng)19,舉例來說，利用電容式傳感器，能夠進(jìn)行絕對(duì)距離測(cè)量。在此情 況中，水平傳感系統(tǒng)19的傳感器可以經(jīng)過校正，用以在水平傳感器平面處產(chǎn)生一已知的讀 數(shù)，舉例來說，零讀數(shù)。該水平傳感器平面可以大體上在X，y平面中，而且該校正會(huì)被實(shí)施 以使得該水平傳感器平面盡可能與圖案化射束18的聚焦平面接近。
[0066] 圖4示意顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的對(duì)準(zhǔn)傳感器的概要略圖。光源401可以包括激 光器402,用以提供對(duì)準(zhǔn)光射束403。激光器402可以被布置成用以提供對(duì)準(zhǔn)光射束403,其 波長(zhǎng)在600至650nm的范圍之中，或者約635nm。光源401可以進(jìn)一步包括光纖404,用以 將光射束403從激光器402處引導(dǎo)至光學(xué)系統(tǒng)405。離開光纖404的對(duì)準(zhǔn)光射束可能會(huì)有 接近完美的高斯輪廓并且可以輕易地被準(zhǔn)直。該光源可以包括準(zhǔn)直器透鏡406,其被布置成 用以準(zhǔn)直來自光纖404的光射束403。然而，當(dāng)沒有使用光纖而且該激光器或是另一光產(chǎn)生 裝置提供已準(zhǔn)直的光射束時(shí)，則可以不需要用到準(zhǔn)直透鏡406。
[0067] 在另一實(shí)施例中，光源401被布置成用以提供貝索（Bessel)光射束。貝索光射束 的特征可以為在貝索光射束的光點(diǎn)中，能量輪廓（舉例來說，以與中心相隔的距離為函數(shù) 的強(qiáng)度）可以利用貝索函數(shù)來描述，而取代高斯函數(shù)。貝索光射束的優(yōu)點(diǎn)是光點(diǎn)可以很小， 而聚焦深度很大。
[0068] 光學(xué)系統(tǒng)405可以進(jìn)一步包括射束分裂器407,用以將光射束403引導(dǎo)至表面12。 光學(xué)系統(tǒng)405可以包括聚焦透鏡408,用以將對(duì)準(zhǔn)光射束403聚焦在表面12上。反射對(duì)準(zhǔn) 光射束409是因?qū)?zhǔn)光射束403在表面12上反射而產(chǎn)生的。聚焦透鏡408可以還被用來 準(zhǔn)直反射射束409。射束分裂器可以接著將反射射束409引導(dǎo)致光強(qiáng)度檢測(cè)器410。
[0069] 光強(qiáng)度檢測(cè)器410可以包括光二極管或是工作在光伏特模式中的無偏壓硅質(zhì)PIN 二極管。相較于光二極管的偏壓模式操作，此模式可以降低被產(chǎn)生的熱量。該光強(qiáng)度檢測(cè) 器可以還包括運(yùn)算放大器，用以將來自該光二極管的電流轉(zhuǎn)換成可被濾波的電壓。經(jīng)過濾 波的電壓可被轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號(hào)，其可被處理單元（舉例來說，對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)17的處理單元） 使用。光強(qiáng)度檢測(cè)器410的主動(dòng)區(qū)可以大于離開射束分裂器407的反射對(duì)準(zhǔn)光射束409的 直徑。
[0070] 另一聚焦透鏡（圖4中并未顯示）可被定位在射束分裂器407和光強(qiáng)度檢測(cè)器 410之間，用以將該反射對(duì)準(zhǔn)光射束聚焦在該主動(dòng)區(qū)上，以便利用離開射束分裂器407的所 有能量。在非偏振射束分裂器中的情況可以是對(duì)準(zhǔn)光射束403中的50%會(huì)被引導(dǎo)至表面 12,而另外的50%可以會(huì)丟失丟失。而反射對(duì)準(zhǔn)光射束中的50%可以被引導(dǎo)至該光強(qiáng)度檢 測(cè)器，而另外的50%可能會(huì)丟失。這暗示著對(duì)準(zhǔn)光射束403中的75%會(huì)丟失，也就是，沒有 用于位置檢測(cè)。所以，在對(duì)準(zhǔn)傳感器的實(shí)施例中可以使用偏振射束分裂器407。在此情況 中，該光源可以提供已偏振的對(duì)準(zhǔn)光射束403。該光源可以包括偏振器412,其被布置成用 以將非偏振光射束轉(zhuǎn)換成偏振光射束。
[0071] 對(duì)準(zhǔn)光射束403可以是S10偏振光射束，在圖4中以黑點(diǎn)表示。偏振射束分裂器 407可以被布置成用以將該S偏振對(duì)準(zhǔn)光射束引導(dǎo)至該表面。該光學(xué)系統(tǒng)可以進(jìn)一步包括 四分之一波板411，其可以位于偏振射束分裂器407和聚焦透鏡408之間。當(dāng)對(duì)準(zhǔn)光射束 403前進(jìn)經(jīng)過該四分之一波板411時(shí)，其可以將其偏振從S偏振改變成右圓形偏振，如圖4 中的彎曲箭頭所示。
[0072] 當(dāng)對(duì)準(zhǔn)光射束403被表面12反射時(shí)，偏振可能會(huì)再次改變；該反射對(duì)準(zhǔn)光射束 409可能會(huì)有左圓形偏振，如圖4中的另一彎曲箭頭所示。當(dāng)該反射對(duì)準(zhǔn)光射束409前進(jìn)經(jīng) 過該四分之一波板411時(shí)，其可能會(huì)將其偏振從左圓形偏振改變成圖4中的筆直箭頭所示 的P偏振。偏振射束分裂器407可以被布置成用以將P偏振反射對(duì)準(zhǔn)光射束引導(dǎo)至光強(qiáng)度 檢測(cè)器410。使用偏振的對(duì)準(zhǔn)光射束、偏振的反射對(duì)準(zhǔn)光射束、以及偏振射束分裂器可以減 少雜散光、反向反射、以及射束分裂器中的能量損失。再者，偏振濾波器412可被布置成用 以最小化反向回到光源中的光反射。
[0073] 在對(duì)準(zhǔn)傳感器的實(shí)施例中，聚焦透鏡408被布置成用以協(xié)同透明板413將對(duì)準(zhǔn)光 射束403聚焦在表面12上，該透明板413可以折射對(duì)準(zhǔn)光射束403和反射對(duì)準(zhǔn)光射束409 兩者。折射取決于該透明板413的材料。
[0074] 高度測(cè)量系統(tǒng)40可以被提供用以測(cè)量這些對(duì)準(zhǔn)傳感器與表面12之間的距離h和 /或這些對(duì)準(zhǔn)傳感器相對(duì)于表面的傾斜。利用和對(duì)準(zhǔn)傳感器與表面之間的距離h和/或?qū)?準(zhǔn)傳感器相對(duì)于表面的傾斜有關(guān)的信息，致動(dòng)器可被布置成用以移動(dòng)夾盤，以便調(diào)整該距 離h和/或傾斜。此高度測(cè)量系統(tǒng)可以是光學(xué)式高度測(cè)量系統(tǒng)或是電容式高度測(cè)量系統(tǒng)， 并且可以和水平傳感系統(tǒng)19分離或是該水平傳感系統(tǒng)19的一部分。
[0075] 微分電容式傳感器（如圖3中所示的傳感器51)可以被布置在圖4中所示的透明 板413上，其中微分電容式傳感器面朝表面12。此傳感器可被使用在高度測(cè)量系統(tǒng)或是水 平傳感系統(tǒng)19中。在此布置中，電容式傳感器和對(duì)準(zhǔn)傳感器射束403的聚焦平面（其為 表面12的理想定位處）之間的距離可為最小，這非常有利，因?yàn)楫?dāng)傳感器和其面對(duì)的物體 (在本例中為表面12)之間的距離增加時(shí)電容式傳感器的效能會(huì)下降。
[0076] 在一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)17包括兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器，例如，圖2中所示的傳感 器61、62,而且每一個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器可以是根據(jù)本文件中所述的實(shí)施例。利用兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器 可以簡(jiǎn)單地決定具有兩個(gè)位置標(biāo)記的表面在兩個(gè)維度中（舉例來說，X方向與y方向，或是 偏轉(zhuǎn)方向與掃描方向）的位置。掃描方向或軸線在電子射束光刻術(shù)中可以和祀材（例如，晶 圓）在圖案化期間被機(jī)械性移動(dòng)的方向有關(guān)；而偏轉(zhuǎn)方向或軸線則可以和圖案化射束（或 子射束）在圖案化期間被偏轉(zhuǎn)的方向有關(guān)。
[0077] 如上面所提，夾盤13可以在至少一個(gè)維度或方向中移動(dòng)，且較佳的是，可以在兩 個(gè)（舉例來說，x、y)或三個(gè)（舉例來說，x、y、z)維度中移動(dòng)。夾盤13也可以在至少一個(gè)旋 轉(zhuǎn)方向中（舉例來說，Rz)、兩個(gè)旋轉(zhuǎn)方向中（舉例來說，Ry、Rz)、或是三個(gè)旋轉(zhuǎn)方向中（舉 例來說，Rx、Ry、Rz)移動(dòng)。圖5所示的是光刻系統(tǒng)中這些方向的其中一種可能的定義，圖中 顯示X方向、y方向、z方向、以及Rx旋轉(zhuǎn)方向、Ry旋轉(zhuǎn)方向、Rz旋轉(zhuǎn)方向。在此布置中，X 方向中的移動(dòng)代表水平平移該夾盤；在y方向中，夾盤是在另一方向中（其可以垂直于X方 向）水平平移；而在z方向中（其可以垂直于X方向與 y方向），夾盤則垂直平移。RX方向 中的移動(dòng)代表夾盤繞著X軸旋轉(zhuǎn)；在Ry方向中，夾盤繞著y軸旋轉(zhuǎn)；而在Rz方向中，夾盤則 繞著z軸旋轉(zhuǎn)。圖5還顯示每一個(gè)方向的記號(hào)的定義，舉例來說，正向方向?yàn)榧^的方向， 因此，可以定義某個(gè)特殊方向中的正向移動(dòng)與負(fù)向移動(dòng)兩者。
[0078] 圖5中所示的方向定義可以被使用在光刻系統(tǒng)的不同坐標(biāo)系統(tǒng)中，舉例來說，被 使用在夾盤坐標(biāo)系統(tǒng)中用以定義相對(duì)于夾盤13的位置與移動(dòng)，使用在靶材坐標(biāo)系統(tǒng)中用 以定義相對(duì)于靶材23的位置與移動(dòng)，以及使用在射束坐標(biāo)系統(tǒng)中用以定義相對(duì)于射束網(wǎng) 格60和原點(diǎn)64的位置與移動(dòng)。然而，這些不同的坐標(biāo)系統(tǒng)也可以使用這些方向的不同定 義。
[0079] 夾盤坐標(biāo)系統(tǒng)可以由穿過夾盤面鏡14的平均平面以及靶材23的表面12的名義 平面來定義。在此實(shí)施例中，X軸與y軸是被定義成平均面鏡表面和靶材表面平面之間的相 交線。而垂直z軸則被定義成垂直于該平均靶材表面水平。夾盤坐標(biāo)系統(tǒng)的原點(diǎn)落在靶材 表面平面和定位在夾盤上的靶材的指定（幾何）中心的交點(diǎn)處。在此實(shí)施例中，夾盤的原 點(diǎn)的垂直位置（在z方向中）可以會(huì)因每個(gè)靶材而不同。另外，因?yàn)檫@些夾盤坐標(biāo)的X軸 與y軸于本實(shí)施例中不需要正交，所以，Rz方向中介于夾盤和射束坐標(biāo)之間的旋轉(zhuǎn)可被測(cè) 量為介于兩個(gè)坐標(biāo)系統(tǒng)的y軸之間的角度。
[0080] 測(cè)量系統(tǒng)10可被布置成用以報(bào)告夾盤13和/或祀材23相對(duì)于射束網(wǎng)格60(舉例 來說，相對(duì)于該射束網(wǎng)格的原點(diǎn)64和/或相對(duì)于該射束網(wǎng)格的一條或多條軸線）的位置。 舉例來說，測(cè)量系統(tǒng)10的坐標(biāo)系統(tǒng)（舉例來說，具有坐標(biāo)[ X，y，z，Rx，Ry，Rz])可以是指目 前被定位在射束網(wǎng)格60的原點(diǎn)64處的夾盤坐標(biāo)系統(tǒng)（也就是，該夾盤坐標(biāo)系統(tǒng)的原點(diǎn)在 射束網(wǎng)格60的原點(diǎn)64處）的坐標(biāo)[x，y，z]以及相對(duì)于射束網(wǎng)格的原點(diǎn)和軸線所測(cè)得的該 夾盤的旋轉(zhuǎn)[Rx，Ry，Rz]。該測(cè)量系統(tǒng)10可以會(huì)使用來自夾盤位置測(cè)量系統(tǒng)15、對(duì)準(zhǔn)傳感 器61、62、水平傳感器57、58、59、和/或射束測(cè)量傳感器20的測(cè)量輸入來報(bào)告這些位置。
[0081] 該測(cè)量系統(tǒng)10坐標(biāo)系統(tǒng)可以定義夾盤坐標(biāo)（也就是，相對(duì)于該夾盤的坐標(biāo)）和射 束網(wǎng)格坐標(biāo)（也就是，相對(duì)于該射束網(wǎng)格的坐標(biāo)）之間的轉(zhuǎn)換。對(duì)水平平面來說，[ X，y，RZ] 中的測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)系統(tǒng)可被定義為在X方向、y方向、以及Rz方向中從射束網(wǎng)格坐標(biāo)轉(zhuǎn)換 至夾盤坐標(biāo)。該測(cè)量系統(tǒng)10可以報(bào)告在射束網(wǎng)格60的原點(diǎn)64處于x-y平面中所觀察到 的夾盤坐標(biāo)。對(duì)垂直平面來說，測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)[z，Rx，Ry]定義從夾盤坐標(biāo)轉(zhuǎn)換至射束網(wǎng)格 坐標(biāo)。該測(cè)量系統(tǒng)可以報(bào)告該靶材相對(duì)于該射束網(wǎng)格坐標(biāo)系統(tǒng)的高度與傾斜。該測(cè)量系統(tǒng) 坐標(biāo)系統(tǒng)的（記號(hào)）定義可以如圖5中所示。
[0082] 本發(fā)明的實(shí)施例雖然根據(jù)此種布置來說明；不過，也可以使用許多其它坐標(biāo)系統(tǒng) 來說明本文中所述的測(cè)量與移動(dòng)方向，而且本發(fā)明并不受限于圖5中所示的特殊布置。
[0083] 圖6A所示的是夾盤13的實(shí)施例的示意俯視圖。夾盤13具備射束測(cè)量傳感器21 和多個(gè)夾盤位置標(biāo)記22,它們會(huì)結(jié)合在單一單元20中。在圖6A中所示的實(shí)施例中，這些夾 盤位置標(biāo)記22的形式為定向在X方向與y方向中的格柵；夾盤位置標(biāo)記22亦可以具有定 向在X方向與y方向中但是為任何其它數(shù)量的格柵。
[0084] 圖6A中的射束測(cè)量傳感器21雖然具有圓形形狀；但是，其也可具有矩形形狀或是 其它形狀。夾盤13可以支撐靶材23 (例如，晶圓）。該靶材的表面可以具備四個(gè)靶材位置 標(biāo)記76、77。這些靶材位置標(biāo)記76、77是被布置在曝光場(chǎng)70周圍。靶材通常包括許多曝光 場(chǎng)70。曝光場(chǎng)70可以具有矩形形狀。這些四個(gè)靶材位置標(biāo)記76、77可被定位在該矩形形 狀的側(cè)邊的末端處或是其它位置處；但是，較佳的是，這些靶材位置標(biāo)記中沒有任何一者相 鄰于另一者。本實(shí)施例中的夾盤13具備兩個(gè)夾盤位置面鏡14,它們被安置在該夾盤的側(cè) 邊，以使得這些面鏡彼此垂直。該夾盤13可以在至少X方向與y方向中移動(dòng)，因此，射束測(cè) 量傳感器和靶材也可以在至少X方向與y方向中移動(dòng)。
[0085] 夾盤13還具備參考平板25,其包括表面26以及夾盤位置標(biāo)記27、28。這些夾盤位 置標(biāo)記27、28較佳的是被布置成其分離距離和這些第一對(duì)準(zhǔn)傳感器61與第二對(duì)準(zhǔn)傳感器 62之間的分離距離名義上相同，而且較佳的是具有相同的空間布置。這些夾盤位置標(biāo)記可 以是2維標(biāo)記，舉例來說，用以X方向與y方向中進(jìn)行讀取和對(duì)準(zhǔn)。兩個(gè)2維標(biāo)記可被用于 兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器，如圖6A中的實(shí)施例的中所描繪。另一種作法是使用1維夾盤位置標(biāo)記， 每一個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器使用兩個(gè)1維標(biāo)記，如圖8中所示的實(shí)施例中所描繪。
[0086] 圖6B所示的是本發(fā)明實(shí)施例中介于對(duì)準(zhǔn)傳感器61、62和射束網(wǎng)格60之間的空間 關(guān)系的示意俯視圖。圖中所示的布置猶如從該列的射束源看去，注視該靶材，以便簡(jiǎn)單和其 它圖中所示坐標(biāo)作比較。如從圖6A與圖6B中所看見，這些夾盤位置標(biāo)記27、28的分離距 離及空間布置雖然可以和這些對(duì)準(zhǔn)傳感器61、62及射束網(wǎng)格60的分離距離及空間布置一 致；不過，在分離距離和/或空間布置中可能會(huì)出現(xiàn)特定誤差。
[0087] 圖7所示的是射束測(cè)量傳感器21的示意俯視圖。該射束測(cè)量傳感器可以包括（測(cè) 量）表面31，其可以被布置成用以檢測(cè)以一入射射束入射在表面31上的位置為函數(shù)的該入 射射束的強(qiáng)度。該射束測(cè)量傳感器可以還包括夾盤位置標(biāo)記22以及以二維圖案布置在表 面31上的數(shù)個(gè)射束阻隔結(jié)構(gòu)32。圖案化射束18可以包括數(shù)道子射束，而且阻隔結(jié)構(gòu)的圖 案可以被布置成具有對(duì)應(yīng)于被投射在表面31上的射束網(wǎng)格60中相鄰子射束間的名義距離 的間距。在此情況中，每一道子射束可以在一對(duì)應(yīng)的阻隔結(jié)構(gòu)32上方掃描，用以辨識(shí)一個(gè) 或多個(gè)相關(guān)的子射束參數(shù)，例如，子射束位置。
[0088] 構(gòu)成夾盤位置標(biāo)記22的二維圖案及帶電粒子阻隔結(jié)構(gòu)的二維圖案之間的空間關(guān) 系彼此具有預(yù)設(shè)的關(guān)系。較佳的是，兩個(gè)圖案之間的空間關(guān)系會(huì)使得這些夾盤位置標(biāo)記22 的中心30和阻隔結(jié)構(gòu)32的二維圖案的幾何中心一致。阻隔結(jié)構(gòu)的圖案的幾何中心可被定 義為和所有周遭阻隔結(jié)構(gòu)相隔距離的平方的總和為最小的位置。
[0089] 圖8所示的是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的位置標(biāo)記73 (例如，靶材位置標(biāo)記或夾盤位置 標(biāo)記）的概要略圖。位置標(biāo)記73被設(shè)計(jì)成用以提供能夠被對(duì)準(zhǔn)傳感器61、62精確檢測(cè)到 的標(biāo)記。這些位置標(biāo)記可以包含能夠被這些對(duì)準(zhǔn)傳感器檢測(cè)到的從其中一個(gè)區(qū)域至另一個(gè) 區(qū)域的邊緣或過渡區(qū)，舉例來說，讓光射束從該標(biāo)記處反射并且被對(duì)準(zhǔn)傳感器接收。這些位 置標(biāo)記可以包含數(shù)個(gè)這樣的邊緣或過渡區(qū)，以便讓這些對(duì)準(zhǔn)傳感器區(qū)分這些位置標(biāo)記的不 同位置或定向。位置標(biāo)記73可以包括數(shù)個(gè)區(qū)域74,其中，第一反射區(qū)域的反射系數(shù)高于第 二反射區(qū)域，或者反之亦然。或者，甚至除此之外，這些區(qū)域74可以包括第一隆起區(qū)域和第 二非隆起區(qū)域，以使得，舉例來說，能夠藉由從這些區(qū)域處反射的光射束的干涉圖案或相位 來區(qū)分這些第一區(qū)域和第二區(qū)域。
[0090] 圖9所示的是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的靶材位置標(biāo)記76、77的布置的概要略圖。該靶 材可以需要在其表面上形成多個(gè)圖案，而且這些靶材位置標(biāo)記76、77可以在將被形成在該 靶材上的第一圖案進(jìn)行圖案化期間被形成在該靶材上，使得這些標(biāo)記與該第一圖案有固定 的空間關(guān)系。被形成在該靶材上的后續(xù)圖案能對(duì)準(zhǔn)先前已被形成在該靶材上的圖案，從而 使得所有這些圖案彼此對(duì)準(zhǔn)。
[0091] 這些靶材位置標(biāo)記76、77可被布置圍繞該靶材上的場(chǎng)域70。這些靶材位置標(biāo)記可 被布置成讓兩個(gè)標(biāo)記76定位在該靶材的其中一條軸線（舉例來說，X軸）上并且讓兩個(gè)標(biāo) 記77定位在該靶材的另一條軸線（舉例來說，y軸）上。每一條軸線中這些靶材位置標(biāo)記 之間的最小分離距離容許更精確測(cè)量該靶材的表面的位置與傾斜。在其中一個(gè)實(shí)施例中， 每一條軸線中這些祀材位置標(biāo)記分離至少26_。
[0092] 在圖9中所示的實(shí)施例中，四個(gè)靶材位置標(biāo)記被布置在區(qū)域78里面與靶材的中心 相隔指定距離內(nèi)，舉例來說，該靶材的中心的±33mm里面。兩個(gè)標(biāo)記76被布置在該靶材上 該圖案的X軸上，而兩個(gè)標(biāo)記77則被布置在該靶材上該圖案的y軸上。這些靶材位置標(biāo)記 可以位于該靶材表面上的場(chǎng)域之間的切割線的中。
[0093] 為達(dá)迭置的目的，重要的是能夠在夾盤的任何位置處再現(xiàn)射束網(wǎng)格至對(duì)準(zhǔn)傳感器 向量。倘若夾盤在不同的對(duì)準(zhǔn)傳感器測(cè)量之間或是在射束傳感器測(cè)量與對(duì)準(zhǔn)傳感器測(cè)量之 間旋轉(zhuǎn)的話，此再現(xiàn)性會(huì)更為復(fù)雜。為保持該過程盡可以簡(jiǎn)單，夾盤的Rx、Ry以及Rz位置 在所有對(duì)準(zhǔn)傳感器測(cè)量和射束傳感器測(cè)量中可以是固定的。
[0094] 夾盤初始化程序可被用來讓光刻系統(tǒng)精確測(cè)量夾盤13的移動(dòng)并且追蹤夾盤位 置。當(dāng)夾盤位置傳感器系統(tǒng)使用微分干涉儀時(shí)，該系統(tǒng)需要被初始化方能決定夾盤13的目 前位置，因?yàn)檫@些干涉儀僅測(cè)量相對(duì)位置。倘若光刻系統(tǒng)的特定部件被更換或是當(dāng)干涉儀 丟失它的測(cè)量信號(hào)時(shí)，便可以要實(shí)施夾盤初始化。初始化過程的示例說明如下并且描繪在 圖10A與圖10B的中。
[0095] 特定的夾盤位置（舉例來說，用于射束位置測(cè)量所需要的夾盤位置以及夾盤上的 晶圓位置）在測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)中被進(jìn)行校正。這是為了這些夾盤移動(dòng)的再現(xiàn)性的目的，以使 得每一次相同的測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)表示該射束網(wǎng)格60和/或這些對(duì)準(zhǔn)傳感器61、62下方該夾 盤中相同的位置。
[0096] 用以移動(dòng)夾盤的致動(dòng)器系統(tǒng)可以具有傳感器或編碼器，以便決定夾盤的粗略位 置。初始化可以從粗略初始化程序開始，用以在足夠精確的極限內(nèi)將夾盤13帶至已知位置 里面，使得能夠利用來自該夾盤位置測(cè)量系統(tǒng)（例如，干涉儀）的測(cè)量數(shù)據(jù)來控制進(jìn)一步的 夾盤13移動(dòng)。
[0097] 在圖10A中所示的夾盤初始化的第一步驟中，夾盤13會(huì)被移動(dòng)用以利用對(duì)準(zhǔn)傳感 器61、62將夾盤位置標(biāo)記27、28定位在參考平板25上。通過將夾盤13移動(dòng)至夾盤位置標(biāo) 記27、28能夠被對(duì)準(zhǔn)傳感器61、62讀取的位置便可以達(dá)成此目的。該致動(dòng)器系統(tǒng)會(huì)移動(dòng)該 夾盤13,用以達(dá)成夾盤位置標(biāo)記和對(duì)準(zhǔn)傳感器的最佳擬合對(duì)準(zhǔn)，如圖10B中所示。舉例來 說，可以取得這些標(biāo)記27、28的位置的四個(gè)標(biāo)記讀數(shù)，兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器61、62中每一個(gè)都會(huì) 在X方向中取得一個(gè)讀數(shù)并且在y方向中取得一個(gè)讀數(shù)，而且夾盤會(huì)在X方向與y方向中 移動(dòng)并且在Rz方向中（繞著z軸）旋轉(zhuǎn)至一位置處，以使得標(biāo)記27、28的位置偏離對(duì)準(zhǔn)傳 感器61、62的位置的偏差的平方的總和最小化。這會(huì)以對(duì)準(zhǔn)傳感器61、62為基準(zhǔn)來定義夾 盤13的已知的X位置、y位置、以及Rz位置。
[0098] 在第二步驟中，當(dāng)夾盤13被定位成讓參考平板25位于對(duì)準(zhǔn)傳感器61、62下方時(shí)， 水平傳感器會(huì)測(cè)量與到參考平板的表面26的距離。夾盤13會(huì)以此水平測(cè)量為基礎(chǔ)在z方 向中移動(dòng)并且于必要時(shí)在Rx方向與Ry方向中旋轉(zhuǎn)，以使得該參考平板表面26處于水平傳 感器平面中。這會(huì)以這些對(duì)準(zhǔn)水平傳感器61、62為基準(zhǔn)來定義夾盤13的已知的z位置、Rx 位置、以及Ry位置。
[0099] 在第三步驟中，夾盤位置系統(tǒng)會(huì)因夾盤13處在此位置而被初始化，舉例來說， 在此夾盤位置處從干涉儀15、16處取得的測(cè)量數(shù)值可被儲(chǔ)存當(dāng)作X維度、y維度、z維 度、Rx維度、Ry維度、以及Rz維度中的夾盤初始化位置。舉例來說，可以表示成坐標(biāo) [X，y, z, Rx, Ry, Rz]init。請(qǐng)注意，這些測(cè)量數(shù)值和這些坐標(biāo)代表夾盤相對(duì)于這些對(duì)準(zhǔn)傳感器 位置的位置。
[0100] 夾盤初始化位置的再現(xiàn)性會(huì)影響光刻系統(tǒng)的度量系統(tǒng)的校正再現(xiàn)性，而且其還會(huì) 影響所有其它位置測(cè)量的精確性，例如，測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)中的射束位置測(cè)量傳感器、靶材坐標(biāo) 中的名義靶材位置、Rz粗略對(duì)準(zhǔn)精確性等。干涉儀初始化位置是6個(gè)自由度的位置，用以 在該參考平板對(duì)準(zhǔn)這些對(duì)準(zhǔn)傳感器（針對(duì)X位置、y位置、以及Rz位置）并且對(duì)準(zhǔn)水平傳 感器平面（針對(duì)z位置、Rx位置、以及Ry位置）時(shí)在測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)中定義夾盤的坐標(biāo)。 [0101] 由于對(duì)準(zhǔn)傳感器位置以及夾盤上靶材的裝載位置的不確定性的關(guān)系，所以，可以 實(shí)施初始化以便以這些對(duì)準(zhǔn)傳感器為基準(zhǔn)來建立靶材的中心的位置。
[0102] 參考靶材80會(huì)被裝載在夾盤13上，如圖11中所示。該參考靶材是特殊靶材， 靶材位置標(biāo)記81表示它的中心點(diǎn)。具有參考靶材80的夾盤13會(huì)被定位成讓該參考靶 材的中心對(duì)準(zhǔn)在第一對(duì)準(zhǔn)傳感器（例如，對(duì)準(zhǔn)傳感器61)下方。此第一夾盤位置會(huì)被測(cè) 量，而且用以描述該第一位置的第一向量會(huì)被推知，例如，測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)中的向量[x，y] TargetCewensOT。接著，具有參考靶材80的夾盤13會(huì)被定位成讓該參考靶材的中心對(duì)準(zhǔn) 在第二對(duì)準(zhǔn)傳感器（例如，對(duì)準(zhǔn)傳感器62)下方。此第二夾盤位置會(huì)被測(cè)量，而且用以描述 該第二位置的第二向量會(huì)被推知，例如，測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)中的向量[X，y] TawtCmtCTT()S_ndSms"。這 些向量以這些對(duì)準(zhǔn)傳感器為基準(zhǔn)來建立該參考靶材的中心的位置。
[0103] 此校正較佳的是在對(duì)最終投射系統(tǒng)11或是其任何器件進(jìn)行任何更換或調(diào)整之后 被實(shí)施一次。參考靶材會(huì)從該夾盤13處被移除而要被處理的靶材則會(huì)被裝載于該夾盤13 上。
[0104] 讓夾盤對(duì)準(zhǔn)已校正的機(jī)械掃描方向也可以會(huì)被實(shí)施。在夾盤初始化程序的后，該 夾盤13定向仍和最終投射系統(tǒng)11所產(chǎn)生的圖案化射束18(也就是，射束網(wǎng)格60)的對(duì)準(zhǔn) 或是被定位在夾盤13上的靶材23的對(duì)準(zhǔn)沒有任何直接關(guān)系。
[0105] 夾盤13會(huì)被移動(dòng)，以使得射束18落在射束測(cè)量傳感器20上，如圖12A中所示。當(dāng) 射束18包括多個(gè)子射束時(shí)，子射束間的分離距離的測(cè)量便可以被實(shí)施。在此測(cè)量中，由多 個(gè)子射束組成的網(wǎng)格會(huì)掃射跨越該射束測(cè)量傳感器20的阻隔結(jié)構(gòu)，并且可以利用最終的 強(qiáng)度數(shù)值在測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)中決定，例如，子射束之間的距離、平均子射束至相鄰子射束的拼 接向量（stitch vector)、射束網(wǎng)格的大小、以及射束網(wǎng)格的定向。此校正可以會(huì)在每一次 投射透鏡整合之后或是在初始化位置已經(jīng)不合格時(shí)（例如，在夾盤交換或是干涉儀重新整 合之后）被實(shí)施一次。
[0106] 接著，夾盤13可以在Rz方向中旋轉(zhuǎn)，以使得該夾盤的y軸（先前已在初始化期間 被決定）對(duì)準(zhǔn)射束網(wǎng)格60的已校正的y軸，如圖12B中所示。目前的夾盤13的位置現(xiàn)在 會(huì)等于[X，y, z, Rx, Ry, Rz]init-[0, 0, 0, 0, 0, Rz] BeamGridt ° 這能夠讓夾盤在測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)的y 方向中移動(dòng)，用以沿預(yù)期的機(jī)械掃描方向產(chǎn)生移動(dòng)，舉例來說，以使得相鄰射束所寫入的圖 案彼此正確地拼接。
[0107] 在將靶材23裝載在夾盤13上之后，該夾盤便會(huì)被放置在使得靶材表面（平均或 是中心）會(huì)對(duì)準(zhǔn)圖案化射束18的聚焦平面的定向中，而且靶材布局的 y軸會(huì)對(duì)準(zhǔn)射束網(wǎng)格 的y軸。這些[Rx，Ry，Rz]測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)會(huì)被使用在所有對(duì)準(zhǔn)傳感器測(cè)量及射束位置傳感 器測(cè)量中。
[0108] 在曝光期間從利用對(duì)準(zhǔn)傳感器進(jìn)行第一次測(cè)量的時(shí)刻至最后一次測(cè)量為止，重要 的是，射束網(wǎng)格至對(duì)準(zhǔn)傳感器向量要保持完全相同。這會(huì)要求這些對(duì)準(zhǔn)傳感器至該射束網(wǎng) 格軸線的機(jī)械穩(wěn)定度保持穩(wěn)定。所以，這些對(duì)準(zhǔn)傳感器是被安置在一個(gè)"下膨脹環(huán)"中。
[0109] 全域性對(duì)準(zhǔn)的第一步驟是傾斜測(cè)量。靶材表面相對(duì)于水平傳感器平面的傾斜會(huì)被 測(cè)量，并且接著夾盤被定位成使得位于中心處的靶材表面會(huì)對(duì)準(zhǔn)投射透鏡的聚焦平面。達(dá) 成此目的的一種方法是通過實(shí)施圖25中所示的下面步驟。應(yīng)該了解的是，針對(duì)對(duì)準(zhǔn)程序的 所有部分來說，本文中所述的某些步驟可以不同的順序來實(shí)施而且某些步驟可被結(jié)合成單 一步驟（舉例來說，省略中間的夾盤移動(dòng)），其并不會(huì)改變最終結(jié)果。
[0110] 夾盤13會(huì)在必要時(shí)在X方向與y方向中移動(dòng)，用以將夾盤13的原點(diǎn)29定位在射 束網(wǎng)格60的原點(diǎn)64下方，如圖13A中所示。夾盤13還會(huì)在必要時(shí)在z方向中移動(dòng)，用以 將夾盤的原點(diǎn)29定位在最終投射系統(tǒng)11的聚焦平面中。夾盤的原點(diǎn)29與參考平板對(duì)準(zhǔn) 標(biāo)記27、28及表面26有固定的空間關(guān)系。夾盤初始化過程會(huì)讓干涉儀系統(tǒng)測(cè)量夾盤13相 對(duì)于射束網(wǎng)格60的位置，以使得夾盤的原點(diǎn)29會(huì)對(duì)準(zhǔn)射束網(wǎng)格60的原點(diǎn)64。
[0111] 夾盤13在必要時(shí)在Rx方向與Ry方向中旋轉(zhuǎn)，用以在水平傳感器平面中對(duì)準(zhǔn)該參 考平板表面26,如圖13B中所示，而且該夾盤會(huì)在Rz方向中進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)，以便讓夾盤13的 y軸對(duì)準(zhǔn)射束網(wǎng)格60的y軸。這是與夾盤初始化結(jié)束時(shí)的位置相同的Rx位置、Ry位置、以 及 Rz 位置，例如，[0, 0, 0, Rx，Ry，Rz]init-[0, 0, 0, 0, 0, Rz]yBeamMdt。在此夾盤位置中，靶材表 面12的水平是利用對(duì)準(zhǔn)水平傳感器57、58來測(cè)量。此測(cè)量以該水平傳感器平面為基準(zhǔn)。
[0112] 水平傳感系統(tǒng)19可被校正，使得該水平傳感器平面名義上與圖案化射束18的聚 焦平面一致。然而，在兩個(gè)平面之間可能有小偏差，這在校正期間要謹(jǐn)慎注意。利用校正設(shè) 定值，夾盤13會(huì)于必要時(shí)在Rx方向與Ry方向中旋轉(zhuǎn)，用以讓靶材表面對(duì)準(zhǔn)最終投射系統(tǒng) 11的聚焦平面。
[0113] 下一個(gè)步驟是對(duì)準(zhǔn)夾盤，使得靶材布局對(duì)準(zhǔn)射束網(wǎng)格的y軸，以及決定該靶材的 原點(diǎn)的位置。這涉及在X方向、y方向、以及Rz方向中全域性對(duì)準(zhǔn)。達(dá)成此目的的一種方 法是通過實(shí)施圖14A至圖14E中所示的下面步驟。
[0114] 在此時(shí)，沿著測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)的y軸的移動(dòng)雖然名義上等于沿著機(jī)械掃描方向的移 動(dòng)，但是最終，該靶材布局的y軸必須對(duì)準(zhǔn)該射束網(wǎng)格。此對(duì)準(zhǔn)發(fā)生在靶材被載入工具中以 后的全域性對(duì)準(zhǔn)期間。
[0115] 夾盤13被移動(dòng)距離[X，y] TargetCenterToSecondSensor? 用以將靶材的中心定位在第一對(duì)準(zhǔn) 傳感器（例如，對(duì)準(zhǔn)傳感器61)下方，如圖14A中所示。
[0116] 在裝載該靶材之前，晶圓裝載系統(tǒng)測(cè)量靶材位置相對(duì)于"名義"靶材位置的偏移。 參考靶材的中心雖然為已知，但是，要被圖案化的靶材的中心的位置卻可能與該已知數(shù)值 略微不同。該晶圓裝載系統(tǒng)可以報(bào)告與該參考靶材裝載有多少偏移量。當(dāng)靶材被裝載于該 晶圓裝載系統(tǒng)中的夾盤上時(shí)利用相機(jī)來確定這些靶材位置標(biāo)記便可達(dá)成此目的。
[0117] 此偏移以及該靶材上靶材位置標(biāo)記的靶材坐標(biāo)會(huì)被用來計(jì)算靶材位置標(biāo)記的掃 描參數(shù)。這些掃描參數(shù)通常包含步進(jìn)移動(dòng)的開始位置與結(jié)束位置以及掃描速度。夾盤被移 動(dòng)用以將每一個(gè)X軸靶材位置標(biāo)記76定位在第一對(duì)準(zhǔn)傳感器61下方并且測(cè)量這些X軸靶 材位置標(biāo)記相對(duì)于該射束網(wǎng)格的實(shí)際位置，如圖14B中所示。
[0118] 夾盤13接著移動(dòng)一段距離[x，y] TargetCenterTargetToFirstSensor? 用以將靶材的中心定位在 第二對(duì)準(zhǔn)傳感器（例如，對(duì)準(zhǔn)傳感器62)下方，如圖14C中所示。夾盤被移動(dòng)用以將每一個(gè) y軸靶材位置標(biāo)記77定位在第二對(duì)準(zhǔn)傳感器62下方并且測(cè)量這些y軸靶材位置標(biāo)記相對(duì) 于該射束網(wǎng)格的實(shí)際位置，如圖14D中所示。
[0119] 該靶材布局在Rz方向中的旋轉(zhuǎn)是在測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)中依照該射束網(wǎng)格被算出。將 夾盤13在Rz方向中旋轉(zhuǎn)該計(jì)算量，以便讓這些靶材布局坐標(biāo)對(duì)準(zhǔn)該射束網(wǎng)格的y軸，如圖 14E中所示。
[0120] 該靶材在測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)中的偏移會(huì)連同該靶材在測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)中的旋轉(zhuǎn)一起被 算出。這會(huì)導(dǎo)致靶材與測(cè)量系統(tǒng)坐標(biāo)之間的轉(zhuǎn)換，其可以下面的轉(zhuǎn)換矩陣來表示 [0121]

【權(quán)利要求】
1. 一種操作用于處理夾盤（13)上的靶材（23)的靶材處理系統(tǒng)的方法，該方法包括： 在該夾盤（13)上提供至少第一夾盤位置標(biāo)記（27)和第二夾盤位置標(biāo)記（28); 提供對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)（17)，其被設(shè)置成用于檢測(cè)所述第一和第二夾盤位置標(biāo)記（27， 28)，所述對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)（17)至少包括第一對(duì)準(zhǔn)傳感器（61)和第二對(duì)準(zhǔn)傳感器（62); 基于所述對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)（17)的至少一個(gè)測(cè)量值將所述夾盤（13)移至第一位置；以及 測(cè)量與所述夾盤的所述第一位置有關(guān)的至少一個(gè)值。
2. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述第一夾盤位置標(biāo)記（27)相對(duì)于所述第二夾盤 位置標(biāo)記（28)的相對(duì)位置與所述第一對(duì)準(zhǔn)傳感器（61)相對(duì)于所述第二對(duì)準(zhǔn)傳感器（62) 的相對(duì)位置基本上相同。
3. 如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)（17)設(shè)置成用于在基 本上水平的方向（x，y方向）中測(cè)量所述夾盤位置標(biāo)記。
4. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，進(jìn)一步包括提供最終投射系統(tǒng)（11)，該最終 投射系統(tǒng)設(shè)置成將圖案化射束（18)投射在所述靶材（23)上，且其中，所述第一對(duì)準(zhǔn)傳感器 (61)被設(shè)置在第一方向（y軸）中與所述最終投射系統(tǒng)（11)相隔一距離，所述第二對(duì)準(zhǔn)傳 感器￠2)被設(shè)置在第二方向（X軸）中與所述最終投射系統(tǒng)（11)相隔一距離。
5. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，進(jìn)一步包括將圖案化射束（18)投射在所述 靶材上，以在所述靶材上形成射束網(wǎng)格￠0)，其中，所述第一對(duì)準(zhǔn)傳感器￠1)被設(shè)置成用 于檢測(cè)在第一方向中（y軸）與所述射束網(wǎng)格（60)相隔一距離處的位置標(biāo)記，所述第二對(duì) 準(zhǔn)傳感器￠2)被設(shè)置成用于檢測(cè)在第二方向中（X軸）與所述射束網(wǎng)格￠0)相隔一距離 處的位置標(biāo)記（77)。
6. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，進(jìn)一步包括將圖案化射束（18)投射在所述 靶材上，以在所述靶材上形成射束網(wǎng)格￠0)，其中，所述對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)（17)包括一個(gè)或多 個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器（61，62)，該對(duì)準(zhǔn)傳感器（61，62)被設(shè)置成用于檢測(cè)與所述射束網(wǎng)格（60)相 隔一距離處的位置標(biāo)記，且其中，所述方法進(jìn)一步包括確定所述一個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器與 所述射束網(wǎng)格（60)之間的空間關(guān)系。
7. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)（17)包括至少一個(gè) 對(duì)準(zhǔn)傳感器，用于檢測(cè)所述靶材和/或所述夾盤的表面上的位置標(biāo)記，而且所述對(duì)準(zhǔn)傳感 器包括： 光源，被設(shè)置成用于提供對(duì)準(zhǔn)光射束； 光強(qiáng)度檢測(cè)器，被設(shè)置成用于確定反射對(duì)準(zhǔn)光射束的光強(qiáng)度，其中，所述反射對(duì)準(zhǔn)光射 束由于所述表面反射所述對(duì)準(zhǔn)光射束而被產(chǎn)生；以及 光學(xué)系統(tǒng)，被設(shè)置成用于將所述對(duì)準(zhǔn)光射束聚焦在所述表面上并且將所述反射對(duì)準(zhǔn)光 射束引導(dǎo)至所述光強(qiáng)度檢測(cè)器上。
8. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，測(cè)量與所述夾盤的第一位置有關(guān)的至 少一個(gè)值的步驟包括：移動(dòng)所述夾盤（13)以使所述夾盤位置標(biāo)記（27, 28)與所述對(duì)準(zhǔn)傳感 器（61，62)對(duì)準(zhǔn)，以及測(cè)量與所述夾盤（13)的目前位置有關(guān)的至少一個(gè)值。
9. 如權(quán)利要求8所述的方法，其中，使所述夾盤位置標(biāo)記（27, 28)與所述對(duì)準(zhǔn)傳感器 (61，62)對(duì)準(zhǔn)包括：使所述第一夾盤位置標(biāo)記（27)與所述第一對(duì)準(zhǔn)傳感器（61)對(duì)準(zhǔn)以及 使所述第二夾盤位置標(biāo)記（28)與所述第二對(duì)準(zhǔn)傳感器（62)對(duì)準(zhǔn)。
10. 如權(quán)利要求9所述的方法，其中，使所述夾盤位置標(biāo)記（27,28)與所述對(duì)準(zhǔn)傳感器 (61，62)對(duì)準(zhǔn)包括：實(shí)施第一夾盤位置標(biāo)記與第一對(duì)準(zhǔn)傳感器的對(duì)準(zhǔn)以及第二夾盤位置標(biāo) 記與第二對(duì)準(zhǔn)傳感器的對(duì)準(zhǔn)的極小的最小平方擬合。
11. 如權(quán)利要求9或10所述的方法，其中，移動(dòng)所述夾盤（13)以使所述夾盤位置標(biāo)記 (27,28)與所述對(duì)準(zhǔn)傳感器（61，62)對(duì)準(zhǔn)的步驟包括：在兩條水平軸（X軸，y軸）中移動(dòng)所 述夾盤并且在必要時(shí)繞著垂直軸（Rz方向）旋轉(zhuǎn)所述夾盤，以實(shí)現(xiàn)所述對(duì)準(zhǔn)。
12. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，進(jìn)一步包括提供一種包括至少兩個(gè)干涉儀 (15)的夾盤位置測(cè)量系統(tǒng)，且其中，測(cè)量與所述夾盤的第一位置有關(guān)的至少一個(gè)值包括測(cè) 量所述干涉儀的輸出。
13. 如權(quán)利要求12所述的方法，進(jìn)一步包括利用位于所述第一位置處的夾盤（13)來初 始化所述干涉儀（15)。
14. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，進(jìn)一步包括提供一種包括多個(gè)水平傳感器 (57、58、59)的水平傳感系統(tǒng)（19)，以及在所述夾盤（13)上提供參考表面（26)，測(cè)量與所述 參考表面（26)相對(duì)于所述水平傳感器的定向有關(guān)的至少一個(gè)值。
15. 如權(quán)利要求14所述的方法，進(jìn)一步包括在測(cè)量與所述射束網(wǎng)格￠0)的定向有關(guān) 的至少一個(gè)值之前，先移動(dòng)所述夾盤（13)以使所述參考表面（26)與所述水平傳感器（57、 58、59)的水平傳感器平面對(duì)準(zhǔn)。
16. 如權(quán)利要求15所述的方法，其中，移動(dòng)所述夾盤（13)以使所述參考表面（26)與所 述水平傳感器（57、58、59)的水平傳感器平面對(duì)準(zhǔn)的步驟包括： 測(cè)量從所述第一水平傳感器（57)到所述參考表面（26)的距離以及測(cè)量從所述第二水 平傳感器（58)到所述參考表面（26)的距離；以及 在必要時(shí)移動(dòng)所述夾盤，使得所述參考表面（26)與所述水平傳感器平面重合。
17. 如權(quán)利要求14-16中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述水平傳感系統(tǒng)（19)至少包括： 第一水平傳感器（57)，其被設(shè)置在第一方向中（y軸）與所述最終投射系統(tǒng)（11)相隔一距 離；以及第二水平傳感器（58)，其被設(shè)置在第二方向中（X軸）與所述最終投射系統(tǒng)（11)相 隔一距離。
18. 如權(quán)利要求14-17中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述對(duì)準(zhǔn)傳感器中的至少一個(gè)被設(shè) 置成在第一點(diǎn)處檢測(cè)在所述表面（12)上的位置標(biāo)記，所述水平傳感器中的至少一個(gè)被設(shè) 置成用于在所述第一點(diǎn)處或是鄰近所述第一點(diǎn)處測(cè)量與所述表面（12)相隔的距離。
19. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，進(jìn)一步包括測(cè)量直接或間接裝載在所述夾 盤（13)上的靶材的名義靶材中心相對(duì)于所述對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)（17)的位置。
20. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，進(jìn)一步包括至少部分地基于與所述夾盤的 第一位置有關(guān)的測(cè)量值將所述夾盤（13)移至第二位置，以及測(cè)量與所述夾盤的第二位置 有關(guān)的至少一個(gè)值。
21. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，進(jìn)一步包括： 提供參考靶材（80)，在該參考靶材的中心位置處具有靶材位置標(biāo)記（81); 移動(dòng)所述夾盤（13)，以使所述中心位置與所述對(duì)準(zhǔn)傳感器（61，62)中的至少一個(gè)對(duì) 準(zhǔn)；以及 測(cè)量所述夾盤（13)的目前位置。
22. 如權(quán)利要求21所述的方法，進(jìn)一步包括確定所述參考靶材的中心位置相對(duì)于所述 對(duì)準(zhǔn)傳感器（61，62)中的每一個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器的相對(duì)位置。
23. -種用于處理夾盤（13)上的靶材（23)的靶材處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括： 可移動(dòng)的夾盤（13)，其至少包括第一夾盤位置標(biāo)記（27)和第二夾盤位置標(biāo)記（28); 對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)（17)，其被設(shè)置成用于檢測(cè)所述第一和第二夾盤位置標(biāo)記（27, 28)，該 對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)（17)至少包括第一對(duì)準(zhǔn)傳感器￠1)和第二對(duì)準(zhǔn)傳感器（62); 致動(dòng)器系統(tǒng)，其被設(shè)置成用于基于所述對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)（17)的至少一個(gè)測(cè)量值將所述 夾盤（13)移至第一位置；以及 測(cè)量系統(tǒng)（10)，其被設(shè)置成用于測(cè)量與所述夾盤（13)的第一位置有關(guān)的至少一個(gè)值。
24. 如權(quán)利要求23所述的系統(tǒng)，其中，所述第一夾盤位置標(biāo)記（27)相對(duì)于所述第二夾 盤位置標(biāo)記（28)的相對(duì)位置與所述第一對(duì)準(zhǔn)傳感器（61)相對(duì)于所述第二對(duì)準(zhǔn)傳感器（62) 的相對(duì)位置基本上相同。
25. 如權(quán)利要求23或24所述的系統(tǒng)，其中，所述對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)（17)被設(shè)置成用于在基本上 水平的方向（x，y方向）中測(cè)量所述夾盤位置標(biāo)記。
26. 如權(quán)利要求23-25中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括最終投射系統(tǒng)（11)，其被設(shè)置 成將圖案化射束（18)投射在所述靶材（23)上，且其中，所述第一對(duì)準(zhǔn)傳感器￠1)被設(shè)置 在第一方向（y軸）中與所述最終投射系統(tǒng)（11)相隔一距離，所述第二對(duì)準(zhǔn)傳感器（62)被 設(shè)置在第二方向（X軸）中與所述最終投射系統(tǒng)（11)相隔一距離。
27. 如權(quán)利要求23-26中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括最終投射系統(tǒng)（11)，該最終 投射系統(tǒng)用于將圖案化射束（18)投射在所述靶材上，以在所述靶材上形成射束網(wǎng)格（60)， 其中，所述第一對(duì)準(zhǔn)傳感器￠1)被設(shè)置成用于檢測(cè)在第一方向（y軸）中與所述射束網(wǎng)格 (60)相隔一距離的位置標(biāo)記，所述第二對(duì)準(zhǔn)傳感器（62)被設(shè)置成用于檢測(cè)在第二方向（X 軸）中與所述射束網(wǎng)格（60)相隔一距離的位置標(biāo)記（77)。
28. 如權(quán)利要求23-27中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括最終投射系統(tǒng)（11)，該最終投 射系統(tǒng)用于將圖案化射束（18)投射在所述靶材上，以在所述靶材上形成射束網(wǎng)格（60)，其 中，所述對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)（17)包括一個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器￠1,62)，該對(duì)準(zhǔn)傳感器被設(shè)置成 用于檢測(cè)與所述射束網(wǎng)格（60)相隔一距離處的位置標(biāo)記，且其中，所述系統(tǒng)進(jìn)一步包括測(cè) 量系統(tǒng)（10)，該測(cè)量系統(tǒng)用于確定所述一個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器與所述射束網(wǎng)格￠0)之間 的空間關(guān)系。
29. 如權(quán)利要求28所述的系統(tǒng)，其中，所述測(cè)量系統(tǒng)（10)被設(shè)置成通過確定每一個(gè) 對(duì)準(zhǔn)傳感器的向量來確定所述一個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器與所述射束網(wǎng)格（60)之間的空間關(guān) 系，該向量描述在基本上水平的方向（X，y方向）中所述對(duì)準(zhǔn)傳感器相對(duì)于所述射束網(wǎng)格 (60)的位置。
30. 如權(quán)利要求23-29中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其中，所述對(duì)準(zhǔn)感測(cè)系統(tǒng)（17)包括至少一 個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器，該對(duì)準(zhǔn)傳感器用于檢測(cè)所述靶材和/或所述夾盤的表面上的位置標(biāo)記，所 述對(duì)準(zhǔn)傳感器包括： 光源，被設(shè)置成用于提供對(duì)準(zhǔn)光射束； 光強(qiáng)度檢測(cè)器，被設(shè)置成用于確定反射對(duì)準(zhǔn)光射束的光強(qiáng)度，其中，所述反射對(duì)準(zhǔn)光射 束由于所述表面反射所述對(duì)準(zhǔn)光射束而被產(chǎn)生；以及 光學(xué)系統(tǒng)，被設(shè)置成用于將所述對(duì)準(zhǔn)光射束聚焦在所述表面上，并且將所述反射對(duì)準(zhǔn) 光射束引導(dǎo)至所述光強(qiáng)度檢測(cè)器上。
31. 如權(quán)利要求23-30中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其中，為了測(cè)量與所述夾盤的第一位置有 關(guān)的至少一個(gè)值，所述致動(dòng)器系統(tǒng)設(shè)置成用于移動(dòng)所述夾盤（13)以使所述夾盤位置標(biāo)記 (27.28) 與所述對(duì)準(zhǔn)傳感器（61，62)對(duì)準(zhǔn)，并且所述測(cè)量系統(tǒng)（10)設(shè)置成用于測(cè)量與所述 夾盤（13)的當(dāng)前位置有關(guān)的至少一個(gè)值。
32. 如權(quán)利要求31所述的系統(tǒng)，其中，為了移動(dòng)所述夾盤（13)以使所述夾盤位置標(biāo)記 (27.28) 與所述對(duì)準(zhǔn)傳感器（61，62)對(duì)準(zhǔn)，所述致動(dòng)器系統(tǒng)設(shè)置成用于在兩條水平軸（X軸， y軸）中移動(dòng)所述夾盤并且在必要時(shí)繞著垂直軸（Rz方向）旋轉(zhuǎn)所述夾盤，以實(shí)現(xiàn)所述對(duì) 準(zhǔn)。
33. 如權(quán)利要求32所述的系統(tǒng)，其中，為了使所述夾盤位置標(biāo)記（27,28)與所述對(duì)準(zhǔn)傳 感器（61，62)對(duì)準(zhǔn)，所述測(cè)量系統(tǒng)（10)設(shè)置成用于實(shí)施所述第一夾盤位置標(biāo)記和第一對(duì)準(zhǔn) 傳感器的對(duì)準(zhǔn)以及第二夾盤位置標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)傳感器的對(duì)準(zhǔn)的極小的最小平方擬合。
34. 如權(quán)利要求23-33中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括夾盤位置測(cè)量系統(tǒng)，其包括至 少兩個(gè)干涉儀（15)，且其中，測(cè)量與所述夾盤的第一位置有關(guān)的至少一個(gè)值包括測(cè)量所述 干涉儀的輸出。
35. 如權(quán)利要求23-34中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括水平傳感系統(tǒng)（19)以及位于 所述夾盤（13)上的參考表面（26)，所述水平傳感系統(tǒng)包括多個(gè)水平傳感器（57, 58, 59)，測(cè) 量與所述參考表面（26)相對(duì)于所述水平傳感器的定向有關(guān)的至少一個(gè)值。
【文檔編號(hào)】H01J37/304GK104272194SQ201380024169
【公開日】2015年1月7日 申請(qǐng)日期:2013年3月8日 優(yōu)先權(quán)日:2012年3月8日
【發(fā)明者】N.弗奇爾 申請(qǐng)人:邁普爾平版印刷Ip有限公司