一種陣列基板及其制造方法、顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種陣列基板及其制造方法、顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在平板顯示裝置中，薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor LiquidCrystal Display，簡(jiǎn)稱(chēng)TFT-LCD)具有體積小、功耗低、制造成本相對(duì)較低和無(wú)福射等特點(diǎn)，在當(dāng)前的平板顯示器市場(chǎng)占據(jù)了主導(dǎo)地位。
[0003]目前常見(jiàn)的液晶顯示面板，其彩膜基板位于陣列基板遠(yuǎn)離背光模組的一側(cè)。為了實(shí)現(xiàn)顯示裝置的窄邊框甚至無(wú)邊框設(shè)計(jì)，也可以將陣列基板放置在彩膜基板遠(yuǎn)離背光模組的一側(cè)，這樣可以大幅度窄化印刷電路板綁定區(qū)占用的邊框面積。
[0004]然而，當(dāng)陣列基板位于出光側(cè)時(shí)，陣列基板上的柵線、數(shù)據(jù)線等金屬線由于其材質(zhì)特性存在反光現(xiàn)象，尤其當(dāng)外界光線較強(qiáng)時(shí)，由金屬線反射的光線進(jìn)入人眼，會(huì)嚴(yán)重影響顯示裝置的顯示效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明實(shí)施例的目的是提供一種陣列基板及其制造方法、顯示裝置，以改善陣列基板的反光現(xiàn)象，提升顯示裝置的顯示效果。
[0006]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種陣列基板，包括:
[0007]透明基板；
[0008]位于透明基板一側(cè)的薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線；
[0009]位于透明基板另一側(cè)的遮光層，所述遮光層在所述透明基板上的正投影覆蓋所述薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線在所述透明基板上的正投影。
[0010]在本發(fā)明的技術(shù)方案中，當(dāng)陣列基板位于背光模組的出光側(cè)時(shí)，因?yàn)槌龉鈧?cè)具有遮光層，并且遮光層在透明基板上的正投影覆蓋薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線在透明基板上的正投影，所以，當(dāng)外界有光線照射薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線時(shí)，遮光層會(huì)吸收絕大部分的光線，這樣反射到觀看者的人眼的反射光線就大大被減弱，因而有效地改善了陣列基板的反光現(xiàn)象，提高了顯示裝置的顯示效果。
[0011]優(yōu)選的，所述遮光層在所述透明基板上的正投影與所述薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線在所述透明基板上的正投影圖形相同。
[0012]較佳的，所述遮光層為氧化鉬遮光層或者氧化鉬鈮遮光層。采用氧化鉬或者氧化鉬鈮作為遮光層的材料，當(dāng)陣列基板進(jìn)入工藝腔室進(jìn)行遮光層薄膜的沉積工序時(shí)，可以減少對(duì)設(shè)備的污染，進(jìn)而提高產(chǎn)品的整體性能。
[0013]較佳的，所述陣列基板還包括:位于透明基板與遮光層之間的靜電屏蔽層。在該技術(shù)方案中，當(dāng)遮光層為氧化鉬遮光層或者氧化鉬鈮遮光層時(shí)，靜電屏蔽層可以消除透明基板與遮光層之間的靜電，進(jìn)而提高產(chǎn)品品質(zhì)。
[0014]較佳的，所述遮光層為黑矩陣遮光層。
[0015]更優(yōu)的，所述陣列基板還包括:位于遮光層遠(yuǎn)離所述透明基板一側(cè)的保護(hù)層。在該技術(shù)方案中，在遮光層遠(yuǎn)離透明基板的一側(cè)設(shè)置保護(hù)層，不僅可以保護(hù)遮光層，還可以使遮光層的表面較為光滑。
[0016]本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示裝置，包括背光模組和顯示面板，所述顯示面板包括彩膜基板、如上述任一技術(shù)方案所述的陣列基板以及位于所述彩膜基板和陣列基板之間的液晶層，其中，所述陣列基板位于所述彩膜基板遠(yuǎn)離所述背光模組的一側(cè)。該顯示裝置可以實(shí)現(xiàn)窄邊框甚至無(wú)邊框設(shè)計(jì)，并且顯示效果較好。
[0017]本發(fā)明實(shí)施例提供一種陣列基板的制造方法，包括:
[0018]在透明基板的一側(cè)形成薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線；
[0019]在透明基板的另一側(cè)形成遮光層，所述遮光層在所述透明基板上的正投影覆蓋所述薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線在所述透明基板上的正投影。
[0020]采用該方法制造的陣列基板，當(dāng)其位于背光模組的出光側(cè)時(shí)，因?yàn)槌龉鈧?cè)具有遮光層，并且遮光層在透明基板上的正投影覆蓋薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線在透明基板上的正投影，所以，當(dāng)外界有光線照射薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線時(shí)，遮光層會(huì)吸收絕大部分的光線，這樣反射到觀看者的人眼的反射光線就大大被減弱，因而有效地改善了陣列基板的反光現(xiàn)象，提高了顯示裝置的顯示效果。
[0021]優(yōu)選的，所述遮光層在所述透明基板上的正投影與所述薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線在所述透明基板上的正投影圖形相同。
[0022]較佳的，所述遮光層為氧化鉬遮光層或者氧化鉬鈮遮光層。采用氧化鉬或者氧化鉬鈮作為遮光層的材料，當(dāng)陣列基板進(jìn)入工藝腔室進(jìn)行遮光層薄膜的沉積工序時(shí)，可以減少對(duì)設(shè)備的污染，進(jìn)而提高產(chǎn)品的整體性能。
[0023]較佳的，所述方法還包括:
[0024]在透明基板與遮光層之間形成靜電屏蔽層。在該技術(shù)方案中，當(dāng)遮光層為氧化鉬遮光層或者氧化鉬鈮遮光層時(shí)，靜電屏蔽層可以消除透明基板與遮光層之間的靜電，進(jìn)而提尚廣品品質(zhì)。
[0025]較佳的，所述遮光層為黑矩陣遮光層。
[0026]具體的，所述在透明基板的另一側(cè)形成遮光層，所述遮光層在所述透明基板上的正投影覆蓋所述薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線在所述透明基板上的正投影，具體包括:
[0027]在透明基板的另一側(cè)沉積遮光層薄膜；
[0028]在薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線一側(cè)，采取自對(duì)位曝光方式對(duì)基板進(jìn)行曝光；
[0029]對(duì)曝光處理后的遮光層薄膜進(jìn)行顯影，形成遮光層，所述遮光層在所述透明基板上的正投影覆蓋所述薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線在所述透明基板上的正投影。
[0030]優(yōu)選的，所述方法還包括:
[0031]在遮光層的遠(yuǎn)離透明基板的一側(cè)形成保護(hù)層。在該實(shí)施例中，在遮光層遠(yuǎn)離透明基板的一側(cè)設(shè)置保護(hù)層，不僅可以保護(hù)遮光層，還可以使遮光層的表面較為光滑。
【附圖說(shuō)明】
[0032]圖1為本發(fā)明實(shí)施例陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖2為本發(fā)明一實(shí)施例遮光層在透明基板上的正投影示意圖；
[0034]圖3為本發(fā)明實(shí)施例陣列基板的制造方法流程圖；
[0035]圖4為本發(fā)明另一實(shí)施例陣列基板的制造方法流程圖；
[0036]圖5為本發(fā)明又一實(shí)施例陣列基板的制造方法流程圖。
[0037]附圖標(biāo)記:
[0038]10-透明基板
[0039]11-柵極
[0040]12-柵極絕緣層
[0041]13-有源層
[0042]14-源極
[0043]15-漏極
[0044]16-保護(hù)層
[0045]100-薄膜晶體管在透明基板上的正投影所對(duì)應(yīng)的遮光層區(qū)域
[0046]200-數(shù)據(jù)線在透明基板上的正投影所對(duì)應(yīng)的遮光層區(qū)域
[0047]300-柵線在透明基板上的正投影所對(duì)應(yīng)的遮光層區(qū)域
[0048]123-遮光層
【具體實(shí)施方式】
[0049]為了改善陣列基板的反光現(xiàn)象，提升顯示裝置的顯示效果，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種陣列基板及其制造方法、顯示裝置。為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，以下舉實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
[0050]如圖1所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板，包括:
[0051]透明基板10;
[0052]位于透明基板10—側(cè)的薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線；
[0053]位于透明基板10另一側(cè)的遮光層123，遮光層在透明基板上的正投影覆蓋薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線在透明基板上的正投影。
[0054]在本發(fā)明實(shí)施例中，當(dāng)陣列基板位于背光模組的出光側(cè)時(shí)，因?yàn)槌龉鈧?cè)具有遮光層，并且遮光層在透明基板上的正投影覆蓋薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線在透明基板上的正投影，所以，當(dāng)外界有光線照射薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線時(shí)，遮光層會(huì)吸收絕大部分的光線，這樣反射到觀看者的人眼的反射光線就大大被減弱，因而有效地改善了陣列基板的反光現(xiàn)象，提高了顯示裝置的顯示效果。
[0055]具體的，薄膜晶體管包括:位于透明基板10出光側(cè)的柵極11，位于柵極遠(yuǎn)離透明基板一側(cè)的柵極絕緣層12;位于柵極絕緣層遠(yuǎn)離透明基板一側(cè)的有源層13，位于有源層遠(yuǎn)離透明基板一側(cè)的相間隔設(shè)置的源極14和漏極15。
[0056]較優(yōu)的，遮光層在透明基板上的正投影與薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線在透明基板上的正投影圖形相同。
[0057]需要說(shuō)明的是，上述圖形相同，指的是遮光層在透明基板上的正投影在形狀、尺寸大小等方面與薄膜晶體管、柵線和數(shù)據(jù)線在透明基板上的正投影完全重合。
[0058]請(qǐng)參考圖2所示，圖2為遮光層在透明基板上的正投影示意圖，其中，100為薄膜晶體管在透明基板上的正投影所對(duì)應(yīng)的遮光層區(qū)域，200為數(shù)據(jù)線在透明基板上的正投影所對(duì)應(yīng)的遮光層區(qū)域，300為柵線在透明基板上的正投影所對(duì)應(yīng)的遮光層區(qū)域。
[0059]其中，遮光層的具體材質(zhì)不限，光反射率比較低的材質(zhì)均可以用來(lái)形成遮光層，例如遮光層可以為氧化鉬遮光層、氧化鉬鈮遮光層或者黑矩陣遮光層。
[0060]當(dāng)遮光層為氧化鉬遮光層或者氧化鉬鈮遮光層時(shí)，陣列基板還包括位于透明基板與遮光層之間的靜電屏蔽層。靜電屏蔽層可以消除透明基板與遮光層之間的靜電，進(jìn)而提高產(chǎn)品品質(zhì);此外，采用氧化鉬或者氧化鉬鈮作為遮光層的材料，當(dāng)陣列基板進(jìn)入工藝腔室進(jìn)行遮光層薄膜的沉積工序時(shí)，可以減少對(duì)設(shè)備的污染，進(jìn)而提高產(chǎn)品的整體性能。
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