陣列基板和陣列基板的制作方法以及液晶顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種陣列基板和陣列基板的制作方法以及采 用該陣列基板的液晶顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display，LCD)具有畫質(zhì)好、體積小、重量輕、低驅(qū) 動電壓、低功耗、無輻射和制造成本相對較低的有點，目前在平板顯示領(lǐng)域占主導(dǎo)地位。
[0003] 圖1示出了現(xiàn)有的一種液晶顯示裝置的剖視圖，如圖所示，包括陣列基板10'、與陣 列基板10 '相對設(shè)置的彩色濾光基板20 '以及夾置在陣列基板10 '和彩色濾光基板20 '之間 的液晶層30'。彩色濾光基板20'包括面向陣列基板表面的第二透明基板201'、彩色濾光膜 202'、第二公共電極203'和第二平坦層204'。陣列基板10'包括第一透明基板101'，位于第 一透明基板101'上的柵極102'，覆蓋柵極102'以及整個第一透明基板101'的柵極絕緣層 103'，形成于柵極絕緣層103'上的有源層104'，位于有源層104'上的源極105'和漏極106'， 覆蓋柵極絕緣層103'、有源層104'、源極105'和漏極106'的第一鈍化層1091'，覆蓋第一鈍 化層1091'的第一平坦層107'，形成于第一平坦層107'上的第一公共電極110'，覆蓋第一公 共電極110'和第一平坦層107'的第二鈍化層1092'以及形成于第二鈍化層1092'上的像素 電極108'，還設(shè)置有導(dǎo)通孔111'，導(dǎo)通孔111'依次穿過第二鈍化層1092'、第一平坦層107' 和第一鈍化層1091'，像素電極108'穿過導(dǎo)通孔111'與源/漏極連接。此種結(jié)構(gòu)的液晶顯示 裝置由于導(dǎo)通孔111'的存在占據(jù)了大部分開口區(qū)面積，降低開口率，影響穿透率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 有鑒于此，本發(fā)明提供一種功耗低、開口率高的陣列基板。
[0005] 為達此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：
[0006] -種陣列基板，包括：
[0007] 第一透明基板；
[0008] 位于所述第一透明基板上的柵極；
[0009] 覆蓋所述柵極以及整個第一透明基板的第一絕緣層；
[0010] 形成于所述第一絕緣層上的有源層，所述有源層與所述柵極位置對應(yīng)；
[0011] 位于有源層上的源極和漏極；
[0012] 位于所述第一絕緣層、源極、漏極以及有源層之上的第二絕緣層；
[0013] 形成在所述第二絕緣層上的像素電極，所述像素電極與所述源極相連，所述第二 絕緣層上設(shè)置有開口，在所述第二絕緣層中至少所述像素電極與所述源極的連接處以及所 述源極與漏極之間的溝道位置經(jīng)所述開口露出；
[0014] 覆蓋在所述像素電極、源極、漏極、有源層以及第二絕緣層上的鈍化層；
[0015] 形成在鈍化層上的公共電極。
[0016] 優(yōu)選地，在所述第二絕緣層中，所述源極、漏極以及有源層均經(jīng)所述開口露出。
[0017] 優(yōu)選地，所述鈍化層與所述溝道相接觸且將所述溝道覆蓋。
[0018] 優(yōu)選地，所述像素電極的端部搭接于所述源極的端部之上。
[0019] 優(yōu)選地，所述第二絕緣層的厚度為ιοοοΑ至300:0i。
[0020] 另一方面，本發(fā)明還提供了一種陣列基板的制作方法，制成的陣列基板功耗低、開 口率高。
[0021 ]為達此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：
[0022] 一種陣列基板的制作方法，包括：
[0023] 提供第一透明基板，在所述第一透明基板上形成柵極金屬層，并刻蝕形成柵極和 掃描線；
[0024] 形成覆蓋在所述柵極金屬層和所述第一透明基板上的第一絕緣層；
[0025] 在所述第一絕緣層表面形成有源層，所述有源層與所述柵極相對應(yīng)；
[0026] 形成覆蓋所述有源層的數(shù)據(jù)線金屬層，刻蝕所述數(shù)據(jù)線金屬層，形成源極、漏極和 數(shù)據(jù)線；
[0027] 形成覆蓋在第一絕緣層、源極、漏極以及有源層之上的第二絕緣層，在第二絕緣層 上形成開口，使得所述第二絕緣層中至少所述源極的部分結(jié)構(gòu)以及所述源極與漏極之間的 溝道位置經(jīng)所述開口露出；
[0028] 在所述第二絕緣層表面形成像素電極，并使得所述像素電極與所述源極的露出部 分連接；
[0029] 形成覆蓋所述數(shù)據(jù)線金屬層、所述像素電極、所述有源層以及所述第二絕緣層的 鈍化層；
[0030] 在所述鈍化層上形成公共電極。
[0031] 優(yōu)選地，形成于所述第二絕緣層上的所述開口使得所述源極、漏極以及有源層露 出。
[0032] 優(yōu)選地，所述第二絕緣層為平坦層，采用有機絕緣材料。
[0033]再一方面，本發(fā)明還提供了功耗低、開口率高的液晶顯示裝置。
[0034]為達此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：
[0035] 一種液晶顯示裝置，包括彩色濾光基板以及液晶層，其特征在于，該液晶顯示裝置 還包括如上所述的陣列基板，所述液晶層夾置在所述陣列基板和所述彩色濾光基板之間。 [0036]優(yōu)選地，所述彩色濾光基板包括面向所述陣列基板表面設(shè)置的第二透明基板、彩 色濾光膜、公共電極和平坦層。
[0037]本發(fā)明的有益效果是：
[0038] 本發(fā)明提供的陣列基板中，像素電極與源極直接相連，省去了暴露的導(dǎo)通孔結(jié)構(gòu)， 一方面簡化了工藝，另一方面也優(yōu)化了結(jié)構(gòu)，使得開口率得以提升，而第二絕緣層的設(shè)置使 得絕緣層變厚，減小了數(shù)據(jù)線與公共電極之間的電容，從而降低了功耗，且相比其他使用平 坦層結(jié)構(gòu)的陣列基板具有制程簡單的優(yōu)點。
[0039] 本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法制成的陣列基板具有功耗低、開口率高的優(yōu) 點。
[0040] 本發(fā)明提供的液晶顯示裝置由于采用了如上所述的陣列基板達到功耗低、開口率 尚的效果，提尚了液晶顯不裝置的性能。
【附圖說明】
[0041] 通過以下參照附圖對本發(fā)明實施例的描述，本發(fā)明的上述以及其它目的、特征和 優(yōu)點將更為清楚，在附圖中：
[0042] 圖1是現(xiàn)有的液晶顯示裝置的剖視圖；
[0043]圖2是本發(fā)明具體實施例提供的液晶顯示裝置的剖視圖；
[0044] 圖3是本發(fā)明具體實施例提供的陣列基板制作方法示意圖之一；
[0045] 圖4是本發(fā)明具體實施例提供的陣列基板制作方法示意圖之二；
[0046] 圖5是本發(fā)明具體實施例提供的陣列基板制作方法示意圖之三；
[0047] 圖6是本發(fā)明具體實施例提供的陣列基板制作方法示意圖之四；
[0048] 圖7是本發(fā)明具體實施例提供的陣列基板制作方法示意圖之五；
[0049] 圖8是本發(fā)明具體實施例提供的陣列基板制作方法示意圖之六；
[0050] 圖9是本發(fā)明具體實施例提供的陣列基板制作方法示意圖之七；
[0051] 圖10是本發(fā)明具體實施例提供的陣列基板制作方法示意圖之八；
[0052] 圖11是本發(fā)明具體實施例提供的陣列基板的制作流程圖。
[0053]圖中，10'、陣列基板；101'、第一透明基板；102'、柵極；103'、柵極絕緣層；104'、有 源層；105'、源極；106'、漏極；107'、第一平坦層；108'、像素電極；1091'、第一鈍化層； 1092'、第二鈍化層；110'、第一公共電極；111'、導(dǎo)通孔;20'、彩色濾光基板;201'、第二透明 基板;202'、彩色濾光膜;203'、第二公共電極;204'、第二平坦層;30'、液晶層；
[0054] 10、陣列基板；