專利名稱：巧妙的照相平版制版法的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及照相平版制版法，更具體說來涉及用于形成膜狀圖形的新型照相平版制版法，該方法不需要掩模(由本發(fā)明人命名為“巧妙照相平版制版法”)。
技術(shù)背量形成膜狀圖形的常規(guī)方法包括印刷，例如絲網(wǎng)印刷、照相平版印刷等。
所述印刷法主要用在等離子體顯示板(PDP)，或場(chǎng)發(fā)射顯示器(FED)，二者均為平板顯示裝置。但按照該方法，所形成圖形的厚度不均勻，同時(shí)也難以形成精細(xì)圖形。
根據(jù)常規(guī)照相平版制版法，所需形成厚膜的材料分散于光刻膠和表面活性劑中，并加入分散劑和照相共增感劑于其中，形成光刻膠組合物。將光刻膠涂布于基體上，并使之干燥。然后使用光掩模，僅將基體預(yù)定部分曝光并顯影，由此完成所需的膜狀圖形。這樣的照相平版制版法與上述印刷法相比有能形成精細(xì)圖形的優(yōu)點(diǎn)，但卻有下面的缺點(diǎn)。
首先，該制造過程冗長而復(fù)雜。
第二，曝光和顯影過程中很難適當(dāng)控制加工條件。更具體來說，很難適當(dāng)控制曝光工藝條件，比如曝光時(shí)間、曝光照度、或曝光溫度；并且很難控制顯工藝條件，比如顯影溶液壓力。因?yàn)殡y于將工藝條件控制到所需范圍，這樣根據(jù)曝光和顯影工藝條件的不同，圖形質(zhì)量便不穩(wěn)定。
第三，常規(guī)曝光法中，因是使用間歇式曝光設(shè)備進(jìn)行個(gè)體基體曝光，該曝光法全面妨礙照相平版制版法生產(chǎn)，降低了生產(chǎn)效率。
第四，因?yàn)槠毓夥较虮还潭ㄔ谝粋€(gè)方向，即必需從前面曝光基體，產(chǎn)生的膜總會(huì)有不均勻硬度。因此在顯影過程中，顯影溶液的壓力要小心控制。
第五，對(duì)于形成精細(xì)圖形來說，掩模圖形的缺陷，例如變形或孔阻塞等會(huì)經(jīng)常出現(xiàn)。
本發(fā)明介紹為解決上述問題，本發(fā)明的目的是提供一種照相平版制版法，采用該方法，可以很容易而有效地制造膜特性得到改善的膜狀圖形。
因此，為達(dá)到上述目的，提出一種巧妙的照相平版制版法，包括下述步驟(a)在基體上涂布含有粘結(jié)樹脂及成膜材料的成膜組合物，由此形成膜并干燥之；(b)按照所需的膜圖形，只在膜的預(yù)定部分選擇性地涂布含感光劑的感光組合物；(c)將步驟(b)的產(chǎn)品曝光；(d)將已曝光的產(chǎn)品構(gòu)件顯影，形成所需的膜狀圖形。
步驟(b)中，感光組合物的涂布方法不特別加以限制，優(yōu)選根據(jù)所需膜圖形通過噴嘴噴涂所述感光組合物。
步驟(c)中，光反應(yīng)發(fā)生在沒有光掩模而涂布有感光組合物的部分。
實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的最佳模式下面將詳細(xì)描述本發(fā)明的巧妙照相平版制版法。
首先制備包含粘結(jié)樹脂和成膜材料的成膜組合物。此處，成膜組合物以聚乙烯醇為主要成分，進(jìn)一步還包括分散劑和表面活性劑之類的添加劑。
公開制備含感光劑的感光組合物，優(yōu)選于液相中制備。此種光刻膠組合物主要包括感光劑或光刻膠，還可含調(diào)節(jié)粘度的有機(jī)溶劑、調(diào)節(jié)粘度的聚合物或表面活性劑。
對(duì)感光劑并無特別限制，但一般使用重鉻酸鈉水溶液、重鉻酸銨水溶液、4，4′-二疊氮基芪-2，2′二磺酸鈉(DAS)水溶液、2，5-二(4′-疊氮基-2′-磺基亞芐基)環(huán)戊酮二鈉鹽(DAP)水溶液，或茋偶氮鎓聚乙烯醇水溶液。感光劑或光刻膠水溶液的濃度優(yōu)選0．01-5．0％重量。
將成膜組合物涂布于基體上，并干燥形成膜。此處，涂布方法沒有具體限制，但優(yōu)選旋涂法、或沉積涂布法。
就基體而言，可采用用于真空熒光顯示器(VFD)、陰極射線管(CRT)、場(chǎng)發(fā)射顯示器(FED)或等離子體顯示器平板(PDP)的基體，但所述基體并不只限于這些顯示器件所用的基體。
將感光組合物按照所需膜圖形，選擇性地涂布在干燥膜的預(yù)定部位。優(yōu)選所需膜圖形是預(yù)先確定的，而通過噴墨噴嘴，將感光組合物選擇性地只噴涂于基體的預(yù)定部位。
將已選擇性地涂布有感光組合物的基體，從其內(nèi)表面、外表面、或兩面，也就是說從任何方向進(jìn)行曝光。曝光期間并不需要光掩模，這與常規(guī)照相平版制版法不同。同時(shí)，不用常規(guī)間歇式曝光臺(tái)，而用隧道式曝光臺(tái)作為曝光器件，以便可以連續(xù)曝光。
本發(fā)明的曝光過程中，和常規(guī)照相平版制版法不一樣，因?yàn)楦泄饨M合物只是按照所需圖形，在膜上預(yù)定區(qū)域選擇性地涂布，因此由曝光溫度、持續(xù)時(shí)間及照度不同引起的質(zhì)量偏差便大大減小。換言之，長時(shí)間曝光或高曝光照度均對(duì)膜圖形尺寸不產(chǎn)生不良影響。因此，采用充分的曝光時(shí)間和照度，膜與基體的粘合性得到改善。
曝光過程之后，以適當(dāng)?shù)膲毫@影溶液噴涂到基體上進(jìn)行顯影，由此制成所需的膜圖形。顯影期間，因?yàn)槠毓饽さ恼辰Y(jié)力很強(qiáng)，與常規(guī)工藝相比可以大大提高顯影壓力。因此容易除去遺留在不需要保留部分上的材料。
如上述，根據(jù)本發(fā)明的照相平版制版法，在曝光或顯影期間，對(duì)加工條件的耐受性可以大幅提高。
同時(shí)，如果本發(fā)明的照相平版制版法應(yīng)用于CRT制造，便不一定需要曝光工藝中的基本元件，曝光透鏡。一般來說該曝光透鏡難于制造且價(jià)格昂貴。因此若不用曝光透鏡便降低了制造成本，而新產(chǎn)品開發(fā)的時(shí)間也縮短了。
本發(fā)明有下述優(yōu)點(diǎn)。
第一，在噴墨噴嘴和驅(qū)動(dòng)打印頭的馬達(dá)所決定的精細(xì)圖形分辨率范圍內(nèi)，能實(shí)現(xiàn)精細(xì)作圖。
第二，因?yàn)橹辉诨w預(yù)定部位選擇性地涂布含感光劑的感光組合物，由曝光溫度、持續(xù)時(shí)間和照度所引起的質(zhì)量不穩(wěn)定性得到抑制。同時(shí)通過采用足夠曝光時(shí)間和照度，使膜質(zhì)量得到改進(jìn)。
第三，曝光期間，基體可以從任何方向照射，并可使用隧道式曝光器件，因此可以連續(xù)曝光、適宜于大量生產(chǎn)。
第四，因?yàn)樾纬傻哪ふ澈闲院軓?qiáng)，可以提高顯影壓力。因此在形成熒光膜的條件下，按常規(guī)技術(shù)經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)的殘留色彩現(xiàn)象便可避免。
第五，因?yàn)闊o需光掩模和曝光透鏡，而曝光臺(tái)也不需專門設(shè)計(jì)，開發(fā)新產(chǎn)品所用時(shí)間可明顯縮短，而生產(chǎn)成本可大幅度降低。
工業(yè)實(shí)用性本發(fā)明的巧妙照相平版制版法可用于需要形成膜圖形的任何產(chǎn)品，例如VFD、CRT、FED或PDP。
權(quán)利要求
1．一種巧妙的照相平版制版法，包括下述步驟(a)將含有粘結(jié)樹脂和成膜材料的成膜組合物涂布于基體上形成膜，并將其干燥；(b)按照所需圖形，將含感光劑的感光組合物選擇性地只涂布于所述膜的預(yù)定部分；(c)將步驟(b)所得產(chǎn)品曝光；以及(d)將曝光產(chǎn)品顯影，形成所需膜圖形。
2．根據(jù)權(quán)利要求1的巧妙照相平版制版法，其中步驟(b)是將感光組合物按照所需圖形，通過噴嘴噴涂。
3．根據(jù)權(quán)利要求1的巧妙照相平版制版法，其中步驟(c)中，通過無光掩模條件下以光照射，在涂有感光組合物的部分引起光反應(yīng)。
4．根據(jù)權(quán)利要求1的巧妙照相平版制版法，其中步驟(c)中，光照射于基體的內(nèi)表面、外表面、或其兩面。
5．根據(jù)權(quán)利要求1的巧妙照相平版制版法，其中步驟(c)中，曝光通過發(fā)出多方向輻射光的曝光裝置進(jìn)行的。
全文摘要
一種照相平版制版法,包括下述步驟:(a)將含有粘結(jié)樹脂和成膜材料的成膜組合物涂布于基體上形成膜,并將其干燥;(b)按照所需圖形,只將含感光劑的感光組合物選擇性地涂布于所述膜的預(yù)定部分;(c)將步驟(b)所得產(chǎn)品曝光;以及(d)將曝光產(chǎn)品顯影,形成所需膜圖形。因此具有極好性能的膜狀圖形可以容易而有效地制造。該方法可應(yīng)用于任何需要形成膜狀圖形的產(chǎn)品,例如VFD、CRT、FED或PDP。
文檔編號(hào)G03F7/26GK1279776SQ98811248
公開日2001年1月10日 申請(qǐng)日期1998年5月14日 優(yōu)先權(quán)日1997年9月18日
發(fā)明者韓勇, 都永洛, 李準(zhǔn)培 申請(qǐng)人:三星Sdi株式會(huì)社