專利名稱：改進(jìn)的染料吸液法印相坯料以及浮雕片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及攝影吸液染料轉(zhuǎn)印方法以及吸液法的材料。具體地說，它涉及改進(jìn)的染料吸液法印相坯料(它具有改進(jìn)的抗靜電性和降低的薄霧)、改進(jìn)的吸液法浮雕片、以及此類材料在形成吸液法拷貝中的應(yīng)用。
吸液染料轉(zhuǎn)印方法是已知的。按照普通的方法，堅(jiān)膜膠體浮雕影像通過下列步驟形成支撐物上的適當(dāng)光敏層的成影象曝光(imagewise exposure)，根據(jù)成影像曝光情況，使膠體層進(jìn)行不同的硬化，按照與成影像曝光量成反比的量從支撐物上除去膠體。通常用連苯三酚硬化顯影劑(如專利號為2,837,430的美國專利所述)進(jìn)行膠體的不同硬化和除去。對于彩色拷貝，與再生影像的蘭、綠和紅色記錄相應(yīng)的三個(gè)獨(dú)立的浮雕片可以通過三次獨(dú)立的曝光在獨(dú)立的蘭、綠和紅光敏浮雕片上形成，而不是通過彩色的底片。所得到的膠體浮雕影像再用黃色、洋紅色和深蘭色染料染色，然后把染色的影像轉(zhuǎn)印到吸液法印相坯料接收劑膜上。按照這種方法，可以得到吸液法的彩色染色影像，它如實(shí)地再現(xiàn)了彩色的對象。吸液法印相坯料一般包括支撐物上的接收染料層。這里所得到的影像是用來通過光發(fā)射觀看的，例如在電影膠片上，通常使用透明膜支撐物。
攝影工業(yè)長久以來已意識到需改進(jìn)照相軟片和相紙，使其具備抗靜電防護(hù)性，以阻止在制備和使用中靜電荷的聚集。這種防護(hù)性在照相材料方面是有利的，因?yàn)殪o電荷可以在攝影的鹵化銀感光乳劑中引起不均勻的霧狀圖案。為了防止由于靜電荷的聚集而產(chǎn)生的問題，通常的做法是在照相材料中提供抗靜電層(即，導(dǎo)電層)。
用于照相材料的多種抗靜電層都是已知的，但是，此類層以前都沒有與染料吸液法印相坯一起使用過。由于可見的染色影象是被轉(zhuǎn)印到吸液法材料坯上，而不是直接形成在材料的鹵化銀乳劑的影象層上，而且，由于吸液法材料支撐物(支承著接收染料層)的背面在材料卷起時(shí)將與此類接收染料層接觸，因此，此類印相材料應(yīng)具有不同的設(shè)備，以滿足抗靜電保護(hù)的需要。而由于靜電荷聚集而引起的影象灰霧問題通常不是吸液法材料的問題，在高速制備和加工的情況下，此類電荷可以將污物和灰塵吸到印相材料的表面，從而可能在加工的吸液法坯料上形成″氣泡″，并且可能產(chǎn)生各種處理和運(yùn)輸問題。
專利號為3,625,694；3,958,995和3,898,088的美國專利公開了一種陽離子(堿性的)媒染劑(merdant)，該媒染劑可用于染料吸液法印相坯料，此類媒染劑適合與陰離子(酸性的)印相染料一起使用。當(dāng)使用含接收染料層(包括陽離子毀染劑和親水性膠體如明膠作為粘合劑)的坯料時(shí)，存在坯料易碎的傾向，從而導(dǎo)致被轉(zhuǎn)印的染色影象破裂和變壞。
從在制備和使用中需要使其經(jīng)過處理的觀點(diǎn)看，保持膜柔性的必要是很顯然的。例如，在用于照相機(jī)、印相機(jī)、放映機(jī)、和加工設(shè)備的過程中，要將膠片固定和彎曲。膠片的脆性受溫度和相對濕度的影響，而后者通常更重要。在低于約25％相對濕度下，相對濕度的較小變化就可能使膠片的脆性產(chǎn)生顯著的變化。根據(jù)應(yīng)力的性質(zhì)，由于缺乏柔性而產(chǎn)生的膠片破裂可以是不同的類型。
有人建議在在吸液法坯料和攝影材料中加入增塑劑以降低脆性。專利號為2,882,156和3,709,690的美國專利公開了含媒染劑和作為增塑劑的聚合物膠乳的坯料。專利號為5,135,835的美國專利涉及了熱可顯影的攝影材料，該攝影材料含有媒染劑、油滴和用于改進(jìn)脆性的聚合物膠乳(它的玻璃轉(zhuǎn)化溫度(Tg)為40℃或更低)。
吸液法通常使曝光度密度對曝光量對數(shù)曲線的形狀具有相對尖(高對比度)的″尖頭″，或較低的比例、范圍用于被顯影的浮雕片和產(chǎn)生吸液法拷貝。足尖范圍通常被視為是直線下的彎曲范圍或密度-曝光量對數(shù)曲線(D-LogE)的中間范圍，減小尖頭區(qū)域的對比度、或″軟化″尖頭通?？梢栽龃蟾〉衿钠毓夥秶?。用于控制尖頭對比度的一種方法是″閃光″。閃光是企圖軟化曝光度曲線的尖頭區(qū)的攝影材料的非選擇性的低級曝光。為控制對比度而進(jìn)行攝影材料的閃光是已知的方法，吸液法浮雕片是獨(dú)特的，其中浮雕片的光敏層含有大部分吸收可見光的非光敏材料，如碳顆粒、鹵化銀涂層和膠體材料。當(dāng)光通過浮雕片時(shí)，碳吸收光，因此，朝著基底使曝光集中(在該方法中，通常通過基底進(jìn)行曝光)。從而，此類材料的普通閃光曝光將不能接所需要的方式控制曲線形狀以達(dá)到所需程度。
近年來，為了控制低比例曝光度，已用蘭光閃光具有足夠的天然蘭光敏性的綠和紅色浮雕片。把黃色染料加到浮雕片中，具有降低閃光曝光對比度的作用。這樣可以很好地控制綠和紅色浮雕片的曲線形狀。然而，蘭色浮雕片不能用黃色染料控制閃光曝光，因?yàn)檫M(jìn)行主要的影象曝光所用的蘭光將被黃色染料吸收。然而，近年來，使用較粗的(較大的顆度)乳劑，它固有較低的尖頭對比度。蘭色浮雕片(非常粗顆粒的乳劑)的對比度足夠的低，以致需要最小的蘭色閃光來控制尖頭對比度。因此在無黃色染料存在下，用蘭光閃光蘭色浮雕片。
然而，對于由現(xiàn)代的細(xì)粒乳劑制作的蘭色浮雕片，它固有較高的對比度，因此蘭色閃光尖頭對比度控制是無效的。另外，當(dāng)使用含過量黃色吸收劑染料的綠和紅色浮雕片時(shí)，存在膠片變得很脆的傾向，以致使染色影象破裂和變壞，以及在膠片的制造和使用中產(chǎn)生污垢。然而，以前用的較粗乳劑的較低固有對比度只需綠和紅色浮雕片中含相對少量的黃色吸收劑染料用以滿足尖頭對比度控制，用于綠和紅色浮雕片的現(xiàn)代細(xì)粒乳劑也具有較高固有對比度，因此需要大量的黃色吸收劑染料控制尖頭對比度。這可能產(chǎn)生物理問題如厚度、脆性以及在膠片制造中膠片破裂。
最好能改進(jìn)染料吸液法材料的可制造性和吸液法拷貝的影像質(zhì)量。
因此，最好能提供陽離子媒染的吸液法材料坯，該材料坯具有足夠的抗靜電性質(zhì)，因此能夠高速制備和加工，而不會(huì)反過來影響所印影像的質(zhì)量。
另外，通常當(dāng)聚合物膠乳加到含阻離子媒染劑的媒染層中時(shí)，由于膠乳與媒染劑間不相容，該層變得有薄霧。因此，最好能提供與陽離子媒染劑一起使用的聚合物增朔劑，它不使薄霧增加。
最好也能對蘭、綠和紅色吸液法浮雕片中的每一種進(jìn)行有效地尖頭對比度控制，而無物理問題如厚度、脆性以及膠片制造中膠片的破裂，特別是能按一致的方式進(jìn)行此類控制。
在一個(gè)實(shí)施方案中，本發(fā)明提供一種改進(jìn)的染料吸液法印相坯料，該坯料包括支撐物，支撐物靠它的一面支撐包括陽離子媒染劑的染料接收層，該坯料還包括基本上無陽離子聚合物的抗靜電層。在本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方案中，抗靜電層處于與染料接收層相反的支撐物的那面上。此類抗靜電層可提供改進(jìn)的抗靜電性，因此能確保高速制造和加工，而不會(huì)反過來影響所印影響的質(zhì)量。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案中，提供了印相坯料，其中，染料接收層包括陽離子媒染劑、親水膠體和增塑劑聚合物，其中增塑劑聚合物是玻璃轉(zhuǎn)化溫度低于約30℃的膠乳聚合物，它包括約2-20％帶季銨基的單體。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，膠乳聚合物包括由約50-98％重量的丙烯酸或甲基丙烯酸酯單元、0-48％重量的乙烯基苯單元和2-20％重量的含季銨基的單元形成的乙烯基共聚物添加劑。此類膠乳的使用提供了基本上無薄霧和脆性的染料吸液法印相坯料。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案中，UV(紫外)吸收劑染料被混入染料吸液法浮雕片中，優(yōu)選混入蘭、綠和紅色浮雕片中的一種之中，以便減弱UV區(qū)的光(對本發(fā)明來說，它被定義為小于400nm的光)。優(yōu)選的是，UV吸收劑的光譜性質(zhì)不影響浮雕片主要的成影像曝光。在本發(fā)明的此實(shí)施方案，公開了曝光染料吸液法浮雕片的方法，該方法包括將浮雕片(包括在支撐物上的含可見光敏鹵化銀乳劑的膠體層)成影像地曝露在蘭、綠或紅光中，其中可見光敏乳劑對UV光也敏感，成像的浮雕片的尖頭對比度通過下列方法控制(I)把UV吸收劑混入浮雕片的膠體層中，(II)在基本上無波長大于410nm的光存在下，用UV光閃光曝光浮雕片，其中UV吸收劑對410nm以上的光有足夠低的吸收作用，以便使它在成影像曝光過程中或成像的浮雕片為中等對比度時(shí)，基本上不會(huì)改變浮雕片的有效攝影速度，并且該吸收劑對UV光有足夠高的吸收以降低所得到的成像的浮雕片的尖頭對比度。按照本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方案，可以進(jìn)行上述對比度控制方法，該方法可用于蘭、綠和紅色中的每一種浮雕片，該浮雕片用于吸液法，其中每個(gè)浮雕片都含有蘭、綠或紅光敏的鹵化銀乳劑，此外，該乳劑對UV光也是敏感的。
在據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案中，公開了用于吸液法的浮雕片，該浮雕片包括支撐膠體層的支撐物，膠體包括(I)可見光敏鹵化銀乳劑，它對UV光也是敏感的，(II)吸收可見光的非光敏顆粒，(III)親水膠體，和(IV)峰吸收值介于360與410nm之間的UV吸收劑。按照本發(fā)明浮雕片的使用以相同的方法實(shí)現(xiàn)了所有三種浮雕片所要求的尖頭對比度控制。蘭色浮雕片不再需要進(jìn)行不同的處理。在形成獨(dú)立的蘭、綠和紅光曝光的浮雕影象時(shí)(如果需要)它允許使用具有蘭、綠和紅光敏性的相同浮雕片(如，全色光敏膠片)。與三種浮雕片的曝光度對比曲線相比，本發(fā)明可以進(jìn)行更大的控制。此外，優(yōu)選的UV吸收劑染料對UV光的吸收比以前用于綠和紅色浮雕片中的黃色染料對蘭光的吸收更有效，以致需要很少的染料，從而可獲得使浮雕片具有良好物理特性的比重。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案中，吸液法拷貝通過將在上述曝光的浮雕片中形成的黃、洋紅和深蘭色的染色影象重合印到上述的印相坯上而形成。


圖1描繪了優(yōu)選的UV吸收染料的吸收光譜。
圖2描繪了HOYA U-340濾光器的光譜特性。
圖3是描繪用于具有各種UV染料光密度的浮雕片的基質(zhì)曝光軟片外形的圖。
圖4描繪了由實(shí)施例4得出的含不同量UV吸收劑染料的浮雕片曝露在UV光中的曝光度曲線。
圖5是描繪圖4對UV染料濃度的曲線的最適合的對比度圖形。
圖6描繪了用于實(shí)施例5的吸收UV的染料的吸收光譜。
圖7描繪了由實(shí)施例5得出的浮雕片曝露在UV光中的曝光度曲線。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案的范圍內(nèi)，染料吸液法坯料包括支撐物，支撐物靠它的一面支撐含有陽離子媒染劑的接收染料層，該坯料還包括抗靜電層。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，除了陽離子媒染劑外，該染色影象接收層也包括親水膠體，和增塑劑聚合物。
任何抗靜電導(dǎo)電材料(不包括陽離子聚合物的)如以前認(rèn)為可以與攝影材料一起使用的那些物質(zhì)，都可以用于本發(fā)明的印相材料的抗靜電層中。此類材料包括，如陰離子聚合物、導(dǎo)電的非離子聚合物，和導(dǎo)電的含金屬顆粒如在聚合物粘合劑中的金屬鹵化物或金屬氧化物。而含有陽離子聚合物的抗靜電組合物也適合與常規(guī)的攝影材料一起使用時(shí)，例如專利號為4,070,189的美國專利所公開的高交聯(lián)乙烯基芐基季銨聚合物，此類抗靜電材料不包括在本發(fā)明的范圍內(nèi)。供在本發(fā)明的含印相坯陽離子媒染劑上印相用的染料是陰離子的，并且如果膠片的背面含陽離聚合物如季銨聚合物，當(dāng)它們兩面接觸時(shí)(如將膠片卷起時(shí))染料將從膠片的前面接收染料的那面轉(zhuǎn)印到抗靜電的背面。對本發(fā)明來說，″基本上無陽離子聚合物″指的是在痕量或雜質(zhì)水平以上不存在陽離子聚合物。
適合的抗靜電材料和層的例子包括下列各種專利號為3,003,679的美國專利公開了由苯乙烯和苯乙烯基十一烷酸共聚物的堿金屬鹽組成的抗靜層。專利號為3,437,484的美國專利描述了含有金屬鹵化物如氯化鈉或氯化鉀的膠片，它在硬化的聚乙烯醇粘合劑中作導(dǎo)電材料。在專利號為3,525,621的美國專利中，抗靜電層包括二氧化硅膠體和有機(jī)抗靜電劑(如烷基芳基多醚磺酸酯的堿金屬鹽、芳基磺酸的堿金屬鹽或多元羧酸的堿金屬鹽)。專利號為3,630,740的美國專利公開了包括形成陰離子膜的聚電介質(zhì)、膠體二氧化硅、和聚環(huán)氧烷的抗靜電層。而專利號為3,681,070的美國專利描述了作為抗靜電劑的苯乙稀和苯乙烯磺酸的共聚物。專利號為4,542,095的美國專利公開了一種抗靜電組合物，該組合物包括粘合劑、非離子表面活性聚合物(含有聚合的烯化氧單體)，和堿金屬鹽。在專利號為4,916,011的美國專利中公開了一種抗靜電層，該抗靜層包括苯乙烯磺酸酯-馬來酸共聚物、膠乳粘合劑，和烷基取代的三官能氮丙啶交聯(lián)劑。在EP554,558；EP553,502；EP564,911；DE4,138,628中，描述了一種抗靜電層，該抗靜電層包括在聚合的聚陰離子化合物存在下的帶共軛聚合物骨架的聚噻吩(polythiophene)。
迄今被認(rèn)為可用于顯影材料的各種不同的含導(dǎo)電金屬的顆粒都可用于本發(fā)明的導(dǎo)電抗靜電層。有用的含導(dǎo)電金屬的顆粒的例子包括施主雜質(zhì)金屬氧化物、缺氧金屬氧化物，導(dǎo)電的硝酸鹽、碳化物、或硼化物。特別有用的顆粒的具體例子包括導(dǎo)電的TiO2、SnO2、Al2O3、ZrO2、In2O3、ZnO、TiB2、ZrB2、NbB3、CrB2、MoB、Wb、LaB6、ZrN、TiN、TiC、WC、HfN，和ZrC。
金屬氧化物，具體地說如US4,203,769中所述的五氧化釩特別適合用于本發(fā)明的染料吸液法材料中。含五氧化釩的抗靜電層可以提供極好的抗靜電作用，并且它最大的優(yōu)點(diǎn)在于，它具有極好的透明度，隨著濕度的變化，它的性質(zhì)不會(huì)受到明顯的影響。使用金屬氧化物另外的優(yōu)點(diǎn)是，它的抗靜電性允許使用防護(hù)外層如纖維素材料層以提供擦傷保護(hù)和/或提高磨擦性，而其仍然能夠提供適當(dāng)?shù)目轨o電性。
用聚合物粘合劑分散的晶體金屬氧化物的導(dǎo)電精細(xì)顆粒一直被用來制備光學(xué)上透明的、對濕度不敏感的、抗靜電層(用于各種影象應(yīng)用)。在專利號為4,275,103；4,394,441；4,416,963；4,418,141；4,431,764；4,495,276；4,571,361；4,999,276；和5,122,445的美國專利中公開了許多不同的金屬化物如AnO、TiO2、ZrO2、Al2O3、SiO2、MgO、BaO、MoO3、和V2O5，它們可以用作攝影材料中的抗靜電劑或靜電攝影材料中的導(dǎo)電劑，特此結(jié)合參考。優(yōu)選的金屬氧化物是銻摻雜的氧化錫、鋁滲雜的氧化物鋅、和鈮摻雜的氧鈦，因?yàn)橐寻l(fā)現(xiàn)這些氧化物在所要求的環(huán)境下可以提供適當(dāng)?shù)男阅芴匦浴?br> 特別優(yōu)選的金屬氧化物是銻摻雜的氧化錫和五氧化釩，它們具有良好的抗靜電荷性，而且無染漬(染料由膠片的前面轉(zhuǎn)印到背面而引起的)。為了高速制造和加工染料吸液法坯料(如，傳遞速度大于約60m/s)，要求表面電阻率低于109歐姆/100平方呎。以便印相坯料可以阻止膠片展開過程中的靜電放電和處理膠片過程中的靜電污物聚集。
優(yōu)選的粘合劑(可以包括在本發(fā)明印相坯的抗靜電層中的)包括含二氯乙烯的膠乳和聚酯離聚物(polyesterionomer)分散體，它可以改善層的完整性以及層與支撐物的粘著性。聚酯離聚物指的是含有至少一個(gè)離子部分的聚酯，這些離子部分的作用是制得水可分散的聚合物。這些聚合物可以通過在熔相縮聚反應(yīng)(現(xiàn)有技術(shù)中已知的)中，一個(gè)或多個(gè)二羧酸或它的功能等價(jià)物如酸酐、二酯或鹵代二酸與一個(gè)或多個(gè)二醇反應(yīng)而制得。如同專利號為3,018,272；3,929,489；4,307,174和4,419,437的美國專利所述。此類聚酯離聚物的例子包括，例如，Eastman化學(xué)公司制造的Eastman AQ聚酯離聚物。
為了保護(hù)抗靜電層，可以在它的上面涂上保護(hù)外層。保護(hù)層可以從化學(xué)上隔離抗靜電層，也可以抵抗刮傷和擦傷。保護(hù)外層可以是，例如，纖維素酯、硝酸纖維素、聚酯、丙烯酸和甲基丙烯酸共聚物和均聚物，聚碳酸酯，聚乙烯醇縮甲醛、聚甲基丙烯酸甲酯、聚硅酸，聚乙烯醇、和聚氨酯。這些層可以是含水涂層或含有機(jī)溶劑涂層，都是合適的。
抗靜電層或外層的化學(xué)抵抗性可以通過下列方法改進(jìn)把聚合物交聯(lián)劑摻入抗靜電層或那些外層，使其在功能上具有可交聯(lián)基。例如氮丙啶、碳化二亞胺、環(huán)氧等交聯(lián)劑適合此目的。
為了提供所期望的磨擦性以保證在制造和處理本發(fā)明的材料時(shí)具有良好的傳遞特性，可以把適當(dāng)?shù)臐櫥瑒┘尤氲娇轨o電層或保護(hù)外層中。許多潤滑劑都可以使用，包括脂肪酸的高級醇酯、高級脂肪酸的鈣鹽、金屬的硬脂酸鹽、聚硅氧烷化合物、石蠟等。水分散的潤滑劑是優(yōu)選的，因?yàn)樗鼈兛梢灾苯訐皆诤目轨o電層或外層中，因此不需要分別涂敷潤滑劑層。巴西棕櫚蠟和硬脂酸酯的水分散潤滑劑是優(yōu)選的，因?yàn)樯倭康拇祟悵櫥瑒┚涂梢杂行У乜刂颇ゲ列?，而且它們與含水的外層聚合物溶液有極好的相溶性。
為了改善本發(fā)明的材料在制造、印相、加工和投影(projecting)設(shè)備時(shí)的傳遞性，也可以在抗靜電層或其上的外層中加入粗糙劑。此粗糙劑也有助于阻止在材料卷緊時(shí)，其反正面間的粘附。粗糙劑可以是氧化硅、碳酸鈣、其它無機(jī)氧化物、玻璃球、磨碎的聚合物和高熔點(diǎn)蠟，和聚合物無光澤小球。
抗靜電層中也可以含有涂布助劑，以改善可涂布性，該涂布助劑包括陰離子或非離子涂布助劑如對-異壬基苯氧基縮水甘油醚、辛基苯氧基多乙氧基乙醇、烷基芳基多醚磺酸的鈉鹽、和磺基琥珀酸鈉的二辛基酯，涂布助劑一般用涂料溶液總重量的0.01-0.30％重量。
用于本發(fā)明的印相坯料的染料接收層中的陽離媒染劑優(yōu)選US3,898,088和US 3,958,995中所描述的鏻和季銨媒染劑。US3,958,995中的交聯(lián)的媒染劑是特別優(yōu)選的。此類媒染劑的通式為
式中A′代表含至少兩個(gè)烯鍵(ethylenically)不飽和基的可加聚的單體單元；B′代表可共聚的α、β-烯鍵ethylenically不飽和單體單元；Q是N或P；R′，R″和R獨(dú)立地是碳環(huán)或烷基；M-是陰離子，對于有效的染料媒染劑α是約0.25-5％摩爾，優(yōu)選約1-10％摩爾；b是約0-90％摩爾，優(yōu)選約0-60％摩爾；C是約10-99％摩爾，優(yōu)選約40-99％摩爾。
通過本說明書應(yīng)理解到所涉及的由含可取代氫的基團(tuán)(如，烷基、氨基、烷氧基、雜環(huán)等)標(biāo)志的任何取代基，除非有特別說明，它應(yīng)不僅包括取代基的未取代形式，而且包括其被任何其它攝影上有用的取代基取代的形式。攝影的取代基典型的例子包括烷基、芳基、苯胺基、碳酰氨基、亞磺酸酰氨基、烷基硫代、芳基硫代、鏈烯基、環(huán)烷基、和另外的例子是鹵素、環(huán)烯基、鏈炔基、雜環(huán)基、磺?；?、亞磺?；㈧Ⅴ；Ⅴ；被柞；?、氨磺酰、氰基、烷氧基、芳氧基、雜環(huán)氧基、甲硅烷氧基、羧基、氨基甲酰氧基、氨基、烷基氨基、亞氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷氧基碳酰氨基、芳氧基碳酰氨基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜環(huán)基硫代、螺化合物殘基和橋烴化合物殘基。通常取代基小于30個(gè)碳原子，典型的是小于20個(gè)碳原子的。
親水膠體可以是通常用于攝影領(lǐng)域的任何膠體，包括例如明膠、膠體清蛋白、多糖、纖維素衍生物、包括水可溶的聚合物或共聚物，但不限于聚乙烯基化合物，包括聚乙烯醇和它的衍生物，部分水解的乙酸乙烯酯和乙烯醇共聚物、羥乙基纖維素、聚丙烯酸、聚(1-乙烯基吡咯烷酮)、聚(苯乙烯磺酸鈉)、聚(2-丙烯酰氨基-2-甲磺酸)、聚丙烯酰胺。也可以使用這些聚合物與疏水單體的共聚物。明膠是優(yōu)選的親水膠體，它可以是明膠本身或改性明膠如乙?；髂z、鄰苯二甲酸化明膠、氧化明膠等。明膠可以是堿處理的，如石灰處理的明膠，或可以是酸處理的，如酸處理的骨膠原明膠。
在本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方案中，印相坯的接收染料層用交聯(lián)劑硬化。各種類型的硬化劑都可以與本發(fā)明的材料一起使用。具體地說，二(乙烯基磺?；?甲烷，二(乙烯基磺酰基)甲基乙醚，1，2-二(乙烯基磺?；阴０被?乙烷，2，4-二氯-6-羧基-順-三嗪，三丙烯酰三嗪、和吡啶嗡，1-(4-嗎啉羰基)-4-(2-磺乙基)-、內(nèi)鹽都特別有用。專利號為4,418,142；4,618,573；4,673,632；4,863,841；4,877,724；5,009,990；5,236,822的美國專利所公開的稱為快作用硬化劑的也是有用的。
在優(yōu)選的實(shí)施方案中，本發(fā)明吸液法坯料的接收染料層包括增塑劑聚合物膠乳。此類膠乳聚合物優(yōu)選由任何可共聚的單體衍生來的水不溶的乙烯基共聚物。如α、β烯基(α、β-ethylenically)不飽和單體(包括二、三或多個(gè)重復(fù)單元)如乙烯、丙烯、1-丁烯、異丁烯、2-甲基戊烯、2-甲基丁烯、1，1，4，4-四甲基丁二烯，苯乙烯、α-甲基苯乙烯；脂族酸的單烯基(monoethyleneically)不飽和酯如乙酸乙烯酯、乙酸異丙烯酯、乙酸烯丙基酯等；烯基(ethyleneically)不飽和單或二羧酸的酯，如甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、亞甲基丙二酸二乙酯等；單烯基(monoethyleneically)不飽和化合物，如丙烯腈、烯丙基氰和二烯類如丁二烯和異戊二烯?？梢赃x擇特殊的單休以及它們的比例以能達(dá)到所得聚合物所要求的玻璃轉(zhuǎn)化溫度，此為已知的技術(shù)。
為了有效地增塑，作為與陽離子染料媒染劑的區(qū)別因素，本發(fā)明的增塑劑聚合物的玻璃轉(zhuǎn)化溫度為約30℃或更低，更優(yōu)選約20℃或更低。膠乳聚合物合包括約2％至20％重量，更優(yōu)選2％至10％重量具有季銨基的單元。此類單元優(yōu)選丙烯酸或甲基丙酸酯或酰胺。(它的上面連有季胺基)。優(yōu)選的烯基(ethylenically)不飽和單體(它可以用于形成本發(fā)明優(yōu)選的乙烯基聚合物的80-98％重量)包括丙烯酸或甲基丙烯酸的酯和乙烯基苯。
在本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方案中，帶有季銨基的增塑劑膠乳聚合物的單元如下面I式的定義，在本發(fā)明特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，增塑劑膠乳具有結(jié)構(gòu)式I。
其中A代表由丙烯酸或甲基丙烯酸酯單體得到的單元；B代表乙稀基苯單體得到的單元；R1是H或甲基；L是-C(O)O-，-C(O)NH-，或芳族連接基如苯基；M是C1至C12的鏈烯基連接基團(tuán)，它可以是直鏈，支鏈或環(huán)的；R2、R3、R4是C1至C6的烷基；X-是陰離子的抗衡離子如CH3SO4-、Cl-、Br-或I-；W為50％-98％重量；Y是0-48％重量，而Z為2％-20％重量。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案，有代表性的增塑劑聚合物包括如下PP-1聚(丙烯酸乙酯-苯乙烯-甲基丙烯酸2-(N，N，N-三甲基銨)乙酯的N-甲硫酸酯)71/19/10重量PP-2聚(丙烯酸乙酯-甲基丙烯酸2-(N，N，N-三甲基銨)乙酯的N-甲硫酸酯)90/10PP-3聚(丙烯酸丁酯-苯乙烯-甲基丙烯酸2-(N，N，N-三甲基銨)乙酯的N-甲硫酸酯)71/19/10重量PP-4聚(丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸2-(N，N，N-三甲基銨)乙酯的N-甲硫酸酯)95/5重量PP-5聚(丙烯酸乙酯-苯乙烯-甲基丙烯酸2-(N，N，N-三甲基銨)乙酯的N-甲硫酸酯)75/20/5重量PP-6聚(丙烯酸丁酯-3-(N，N，N-三甲基銨)丙基甲基丙烯酰胺N-甲硫酸酯)90/10重量PP-7聚(丙烯酸丁酯-4-乙烯基-N-甲基吡啶甲基硫酸酯)90/10重量PP-8聚(丙烯酸丁酯-對-N-(乙烯基芐基)-N，N，N-三甲基氯化銨)90/10重量增塑劑聚合物可以按照下面描述的具有代表性的合成實(shí)施例中所述的方法進(jìn)行合成，或用其它已知的乙烯基聚合物合成方法合成。
按照本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方案，增塑劑聚合物必須含季銨基，以給出適當(dāng)?shù)谋§F和涂料溶液的穩(wěn)定性，不能涂敷含陰離子基的增塑劑膠乳，因?yàn)槊饺緦油苛辖M合物將凝聚在含陰離子基的膠乳添加劑上。
與本發(fā)明吸液染料轉(zhuǎn)印法中的印相坯一起使用的浮雕片典型的包括支撐物(支撐含親水膠體(典型的為明膠)的光敏層)、吸收可見光的顆粒(典型的為碳)、鹵化銀光敏乳劑、加上各種攝影附加物以提供令人滿意的穩(wěn)定性、以及適當(dāng)制造所必須的涂布助劑?？梢詫⒏泄馊玖嫌糜诟〉衿?；以提供蘭、綠和紅光感光性，用以記錄蘭、綠和紅色記錄的成影象曝光?？梢允褂迷O(shè)計(jì)成對特殊的顏色記錄曝光具有最佳感光性的獨(dú)立的浮雕片，或另一方面，可以使用同樣的全色感光的浮雕片，用于蘭、綠和紅色中的每一種曝光。
在下面關(guān)于用于本發(fā)明的印相坯和浮雕片中的適當(dāng)物質(zhì)的討論中，將參考(Research Disclosure 1994年9月、36544條所述，下文將其用″Research Disclosure″標(biāo)志，下文所指的Section是Section of Research Disclosure，Item 36544。
Sections I和III-IV中描述了適當(dāng)?shù)柠u化銀乳劑和它們的制備以及化學(xué)和光譜感光方法。優(yōu)選的浮雕片鹵化銀乳劑是AgBrI立方晶系的乳劑(如1-6％摩爾的碘)，其平均立方邊長小于0.5微米，更優(yōu)選小于0.3微米，最優(yōu)選小于0.25微米。所有類型的鹵化劑銀乳劑一般都顯示出其內(nèi)在的對UV光的敏感性。鹵化銀乳劑的內(nèi)在的UV敏感性優(yōu)選用來記錄控制UV閃光的尖頭對比度。另一方面或此外，感光染料和/或其它組分也有助于乳劑在UV區(qū)域的感光作用。
根據(jù)本發(fā)明，浮雕片包括親水性膠體或如上所述的通常用于攝影領(lǐng)域的此類膠體的混合物、優(yōu)選明膠。SectionII中描述了載體和載體涉及的附加物。各種其它添加劑如UV染料、光亮劑、發(fā)光的染料、防霧劑、穩(wěn)定劑、吸收和散射光的物質(zhì)、涂布助劑、增塑劑、潤滑劑、抗靜電劑和褪光劑都可以被包括，例如，如SectionsVI-IX中所述的。Section X中描述了染料成象劑和改性劑。section XI-XX中描述了層與層的排列、彩色底片和彩色正片、便于掃描的軟片(Scan facilitating features)、支撐物、曝光和處理。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案，UV(紫外)吸收劑可以用于蘭色浮雕片，更優(yōu)選用于紅、綠和蘭色浮雕片中的每一種(用于染料吸液法)以減少UV區(qū)域的光。在大于410nm的光基本上不存在的情況下，用UV光在浮雕片上進(jìn)行閃光曝光。按常規(guī)的攝影閃光技術(shù)，閃光曝光可以在成影象的曝光之前或之后進(jìn)行?？梢杂糜诒景l(fā)明的浮雕片中且具有所要求的吸收性的吸收UV的染料可以選自下列專利所述描述的UV吸收染料Besio等的US,4,849,326(氰基取代的丁胺butamines)，Logan的US4,839,274(炔屬化合物)，Pruett等的US5,215,876(取代的苯乙烯)，Nishijima等的EP451,813，Schofield等的EP0,190,003，和Umemoto的US5,084,375(羥基苯基苯并三唑)，Leppard等的EP0,531,258(三嗪)，Oliver的US3,723,154(氰基甲基砜衍生的部花青)，Sawdey的US2,739,888，US3,253,921和US3,250,617(噻唑烷酮、苯并三唑和噻唑并噻唑)，Sawdey等的US2,739,971，Hirose等的US4,783,394，Takahashi的US5,200,307，Tanji等的US5,112,728，Leppard等的EP0,323,408，Liebe等的EP0 363 820，Roth西德人的DD 288 249，Heller等的US3,004,896(三唑)，Wahl等的US3,125,597和Weber等的US4,045,229(hemioxonols)，Diehl等的EP 0246553(酸取代的次甲基oxonols)Leppad等的EP0 520 938和EP0 530 135(三嗪)、和Liebe等的EP0 345 514。UV吸收劑的具體例子為下面所示的
UV吸收劑可以根據(jù)它的光譜特性進(jìn)行選擇，以便使它對UV光閃光曝光有足夠高的吸收作用以降低所得到的浮雕片的對比度，同時(shí)使它對410nm以上的光具有足夠低的吸收，以使它不會(huì)明顯地影響浮雕片的成影象曝光。圖1描繪了優(yōu)選的UV吸收劑的吸收光譜，它是上述UV吸收劑染料UV-1的吸收光譜。
根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方案，UV閃光曝光可以用常規(guī)的裝有濾光器(它可以透過UV光，吸收基本上所有的大于410nm的可見光)的鎢或鎢-鹵燈印相機(jī)很方便地進(jìn)行。此類濾光器的例子是HOYA U-340濾光器，它的光譜特性示于圖2。這種常規(guī)的印相燈不能提供低于約360nm的高能量，UV吸收劑吸收光譜的峰吸收優(yōu)選為360-410nm，更優(yōu)選的為360-390nm％當(dāng)然，峰吸收也可以小于360nm，只要在360-410nm有足夠的吸收，但這通常需要使用大量UV吸收劑(這不是優(yōu)選的)。然而，對于在360nm以下具有效的能量的印相燈，最好選擇在360nm以下具有相應(yīng)峰吸收的UV吸收劑。
在浮雕片光敏膠體層中，存在著有效的吸收光的顆粒(被分散在整個(gè)層中)，典型的為碳顆粒。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案，UV染料也可分布在膠體層中，對比度控制在大小取決于浮雕片中UV染料的濃度。當(dāng)濃度增加時(shí)、閃光的軟片外形偏向浮雕片的底部，致使曝光容易出錯(cuò)，所用的鹵化銀總量(適合曝光度的)在相對曝光度與距軟片底的相對距離的圖中，可以表示為一條直線，如圖3中最上面的線。當(dāng)距底的距離增加時(shí)，更多的曝光被吸收，因此，浮雕片層頂部的大部分鹵化銀并未接受曝光。
圖3的水平軸是距基質(zhì)底的相對距離，0.0表示底部，1.0是軟片的頂部，縱軸是通過底的相對曝光強(qiáng)度。圖3示出了五個(gè)不同量的UV染料。該量使UV染料的比濃度在曝光所用的光譜區(qū)內(nèi)的光密度與1.0，2.0，3.0，4.0和5.0值相應(yīng)。很容易看到，當(dāng)染料密度增加時(shí)，曝光的體積將接近底部。在理想的體系中，由濾光得到的實(shí)際曝光度的對比度將是原始對比度，而無任何濾光(由圖3染色曲線的積分與未染色曲線的積分之比換算而來的)。該技術(shù)允許通過適當(dāng)?shù)剡x擇UV染料的濃度、濾光器和光源來控制吸液法浮雕片中任何鹵化銀粒度的對比度。
上述吸液法坯料和浮雕片可以還含有現(xiàn)有技術(shù)中已知的軟片和層。用于此類坯料和浮雕片的優(yōu)選支撐物包括透明的聚合物膜，如硝酸纖維素和纖維素酯(如二乙酸和三乙酸纖維素)、聚碳酸酯、和二元芳香羧酸與二元醇的聚酯如聚(對苯二酸-乙二醇酯)。
本發(fā)明的印相坯也可以包括攝影的鹵化銀乳劑層。在電影膠片中，此層可以包括在支撐物和接收染料層之間(為已知的技術(shù))，以便能夠按常規(guī)的電影聲跡記錄、曝光和加工的方法記錄該膠片的聲跡。另一方面，聲跡可以印在作為吸液法的一部分的坯料接收器上。
如果需要，本發(fā)明的印相坯料和浮雕片可以與所施加的磁性層一起使用，如Research Disclosure，1992年、11月，Item34390Published by Kenneth Mason Publications，Ltd。，DudleyHouse，12.North Street，Emsworth，Hampshire P0107DQ，ENGLAND中所述。
如上所述，成影象曝光后，該浮雕片的膠體層進(jìn)行不同程度的硬化，然后用連苯三酚硬化顯影劑將其除去(如US2,837,430所述)。在蘭、綠和紅色的浮雕片上形成膠體浮雕影像后，將浮雕片用黃、洋紅和深蘭色染料染色，然后將染色的影像轉(zhuǎn)印到含媒染劑的接收膜上?？梢杂糜谖悍ǖ牡湫忘S、洋紅和深蘭色染料包括下述Y-1、Y-2、M-1和C-1
雖然關(guān)于增塑劑聚合物在吸液法坯料接收劑中的使用方法，我們已詳細(xì)地描述了本發(fā)明一個(gè)實(shí)施方案中的增塑劑聚合物，但應(yīng)理解為此類增塑劑也可以用于使用于陽離子媒染劑的其它材料中，如攝影的熱染料轉(zhuǎn)印接收層或消暈層，(此處需要使用與此媒染劑結(jié)合不產(chǎn)生薄霧的增塑劑)。然而本發(fā)明的增塑劑的最大優(yōu)點(diǎn)在于通過光照射觀看含有被印的染色影象的材料。如通過染料吸液法印的電影膠片，因?yàn)樵诖藢?shí)施中最需要將薄霧降至最低程度。增塑劑聚合物合成實(shí)施例制備含有75％重量的丙烯酸乙酯、20％重量苯乙烯和5％重量2-(N，N，N-三甲基銨)乙基甲基丙烯酸酯N甲硫酸鹽的組合物的膠乳共聚物如下向500毫升附加燒瓶中加入100毫升去氣蒸餾水、1毫升Igepal CO730、1毫升Ethoquad 0/12、75克丙烯酸乙酯、20克苯乙烯、6.3克80％的2-(N，N，N-三甲基銨)乙基甲基丙烯酸酯、和0.5克2，2-偶氮二(2-甲基丙脒)二鹽酸化物。將該混合物在氮?dú)庀聰嚢?。?升的反應(yīng)燒瓶中加入去氣蒸餾水300毫升、1毫升IgepalCO730、1毫升Ethoquad 0/12和0.5克2，2′-偶氮二(2-甲基丙脒)二鹽酸化物。將反應(yīng)燒瓶放在80℃的浴中并攪拌，將附加燒瓶里的組份在30分鐘內(nèi)加入進(jìn)去。將該內(nèi)容物在80℃、氮?dú)庀聰嚢?小時(shí)。然后除去冷凝器并用氮?dú)馀艢鈱考訜岬?0℃并保持1小時(shí)，以除去殘余的單體。然后將燒瓶冷卻得到含24％固體的半透明膠乳。實(shí)施例1被涂敷的染料吸液法坯料支撐物按下述方法制備支撐物1將4.7密耳聚對苯二甲酸乙二醇酯的膜支持物的背面用含苯乙烯磺酸鈉鹽和甲基丙烯酸2-羥基乙酯共聚物(70/30重量)(182毫克/米2)；丙烯酸甲酯、1，1-二氯乙烯、和衣康酸(15/83/02％重量)的聚合物膠乳(60毫克/米2)；和Cymel300(由American CyanamideCo.產(chǎn)的三聚氰胺—甲醛樹脂交聯(lián)劑)的層涂覆，并用含聚(丙烯腈-二氯乙烯-丙烯酸)(14/80/6重量百分?jǐn)?shù))的凝膠底層涂覆前面。支撐物2將4.7密耳聚對苯二甲酸乙二醇酯膜支撐物的背面用含Nalco1115(由Nalco Chemical產(chǎn)的膠體二氧化硅)(404毫克/米2)；甲基丙烯酸酯、二氯乙烯和衣康酸(15/83/02重量)的聚合物膠乳(135毫克/米2)的層涂覆，并用凝膠底層涂覆前面。支撐物3將4.7密耳聚對苯二甲酸乙二醇酯膜支撐物的背面用含銻摻雜的氧化錫(370毫克/米2)和Witcobond 232(由Witco Corp生產(chǎn)的聚氨酯)(125毫克/米2)的層涂覆，并用凝膠底層涂覆前面。支撐物4將4.7密耳聚對苯二甲酸乙二醇酯膜支撐物背面用含有銻摻雜的氧化錫(226毫克/米2)和丙烯酸甲酯、二氯乙烯和表康酸(15/83/02重量)的聚合物膠乳(75毫克/米2)的層涂覆，然后再涂上一層含Witcobond 232(899毫克/米2)的層，并用凝膠底層涂覆前面。支撐物5將4.7密耳聚對苯二甲酸-乙二醇酯的膜支持物的背面用含Witcobond 232(899毫克/米2)的層涂覆，并用凝膠底層涂覆前面，然后再涂一層含銻摻雜的化錫(296毫克/米2)和明膠(52毫克/米2)的層。支撐物6將4.7密耳聚對苯二甲酸乙二醇酯膜支撐物背面用含Witcobond 232聚苯胺-亞胺(1∶1比例)(108毫克/米2)的層涂覆，然后再涂一層斜含Elvacite 2041(由Dupout公司生產(chǎn)聚甲基丙烯酸甲酯)(1076毫克/米2)的層，并用凝膠底層涂前面。支撐物7將4.7密耳聚對苯二甲酸乙二醇酯膜支撐物背面用含N-乙烯基芐基-N，N，N-三甲基氯化銨、和二甲基丙烯酸乙二醇酯(93/7重量)的聚合物(129毫克/米2)以及丙烯腈、二氯乙烯和甲基丙烯酸，N-二甲基氨基乙基酯的N甲硫酸酯(25.1/73.4/1.5重量)的聚合物(194/毫克/米2)的層涂覆，并用凝膠底層涂覆前面。支撐物8將4.7密耳聚對苯二甲酸乙二醇酯膜支撐物背面用含N-乙烯基芐基-N，N，N-三甲基氯化銨和二甲基丙烯酸乙二醇酯(93/7重量)的聚合物(129毫克/米2)以及丙烯腈、二氯乙烯和甲基丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯的N甲硫酸酯(25.1/73.4/1.5重量)的聚合物(194毫克/米2)的層涂覆，然后再涂一層含二乙酸纖維素(2690/毫克/米2)的層，用凝膠底層涂覆前面。支撐物9將4.7密耳聚對苯二甲酸乙二醇酯膜支撐物的背面用含五氧化釩(3.2毫克/米2)和Eastman AQ55D(由Eastman Chemical Co.生產(chǎn)的聚酯離聚物)(32毫克/米2)的層涂覆，支撐物的前面用凝膠底層涂覆。支撐物10將4.7密耳聚對苯二甲酸乙二醇酯膜支撐物的背面用含五氧化釩(296毫克/米2)和Eastman AQ 291)(由Eastman Chemical Co生產(chǎn)的聚酯離聚物)(3.2毫克/米2)的層涂覆，然后再涂上一層含Witcobond 232(899毫克/米2)的層，前面用含現(xiàn)有技術(shù)中已知的凝膠的層涂覆。支撐物11將4.7密耳聚對苯二甲酸乙二醇酯膜支撐物的背面用含Elvanol 71-30(由Dupont產(chǎn)的聚乙烯醇)(54毫克/米2)、Volan(由Dupont產(chǎn)的methacrylato Chromic Chloride)(1.9毫克/米2)和硝酸鉀(5.4毫克/米2)的層涂覆，支撐物的前面用凝膠底層涂覆。支撐物12將5密耳聚對苯二酸乙二醇酯膜支撐物的背面用含五氧化釩(3.2毫克/米2)和丙烯腈、二氯乙烯以及丙烯酸(15/9/76重量)的聚合物(2.4毫克/米2)的層涂覆，然后再涂上一層含Elvacite 2041(1064毫克/米2)的層。支撐物的前面用凝膠底層涂覆。對比支撐物將4.7密耳聚對苯二甲酸乙二醇酯膜支撐物的背面用含Witcobond 232(899毫克/米2)的層涂覆，前面用凝膠底層涂覆。
染料吸液法坯料樣品1-12和對比樣品按下列方法用相應(yīng)的支撐物1-12和對比支撐物制備每個(gè)支撐物的前面用含溴碘化銀乳劑(1940/毫克/米2Ag)、EDTA鈉鹽(83.2毫克/米2)、甲基苯并噻唑氯化物(10.1毫克/米2)、明膠(3500毫克/米2)和二乙烯基磺?；谆?75.6毫克/米2)的層涂覆，然后再涂上一層含共聚(N-乙烯基芐基-N，N，N-三甲基氯化銨-二甲基丙烯酸乙二醇酯)93/7摩爾(861毫克/米2)、Olin 10G表面活性劑(93.7毫克/米2)、硝酸鉀(39.7毫克/米2)明膠(2800毫克/米2)，和甲基丙烯酸酯N甲硫酸鹽(75/25/5重量)聚合物(280毫克/米2)的層。
測定上述涂層的表面電阻率和水電極電阻率。結(jié)果列于下表I。
表I樣品 表面電阻率 水電極電阻率(歐姆/100平方呎20％RH)(歐姆/10平方呎20％RH)1 2×10102 6×10113 5×1085 1×1096 1×1097 5×1098 4×1099 1×10910 1×1081173×101412 1×107對比 73×10144×1011所期望的電阻率值，對于表面電阻率來說是小于約109，對于水電極電阻率來說是小于約109尤其是小于約108歐姆/100平方呎。當(dāng)所有的抗靜電物質(zhì)在某種程度上有改善了電阻率水平時(shí)，樣品3、5、9、10和12的含金屬氧化物的抗靜電層顯示了特別優(yōu)選的結(jié)果。也應(yīng)看到樣品1中的抗靜電作用不是繼續(xù)使用的攝影顯影方法，因此不是優(yōu)選的。
展開感電試驗(yàn)用來確定在生產(chǎn)或處理過程中光敏膠片卷的展開壓軋中是否存在″放電″或″輝光″。在該試驗(yàn)過程中，將膠片卷高速展開。如果存在大量分離的電荷，由于兩個(gè)不相似的材料被分開，在展開壓軋中的電場將較大。它可能大到空氣不能再經(jīng)受住該強(qiáng)場，而將出現(xiàn)空氣離解，導(dǎo)致靜電放電。這樣的放電可能對光敏乳劑(它可能用于記錄吸液法坯料中的聲跡)有傷害。表II示出了對樣品7、8、11和12所做的此展開感電試驗(yàn)的結(jié)果。
表II樣品所觀察的輝光11 有7 有8 有12 無在高濕度和溫度下，在以卷形式貯藏過程中，染料由所印制的染料吸液法拷貝的前面再轉(zhuǎn)印到背面可能是特別難解決的問題。在該轉(zhuǎn)印中，抗靜電層的背面起重量要作用。為了檢查染料再轉(zhuǎn)印，將用洋紅色染料M-1染色的吸液法拷貝的前面與樣品1-12和對比樣品中的每一個(gè)接觸，并放置在兩個(gè)玻璃片之間，將該體系放在相度濕度為80％、溫度為38℃的容器中4天。然后觀察未染色的吸液法拷貝的背面是否存在被轉(zhuǎn)印的染料。結(jié)果列于表III。
表III樣品號染料的存在1 無2 無3 無4 無5 無6 無7 有8 無9 無10 無11 無12 無對比 無如上所述，樣品7中含陽離子聚合物材料的抗靜電層的背面能導(dǎo)致染料轉(zhuǎn)印。按樣品8中用聚合物覆蓋該抗靜電層可以解決其再轉(zhuǎn)印問題，蛤會(huì)產(chǎn)生較差的抗靜電性。
根據(jù)本發(fā)明最優(yōu)選的實(shí)施方案，樣品3、5、9、10和12適合所要求的電阻率性質(zhì)、無輝光放電和無染料再轉(zhuǎn)印。這些例子都含有金屬氧化物抗靜電劑。實(shí)施例2制備染料吸液法坯料如下組分 有效范圍頂層媒染劑共聚(N-乙烯基芐基-N，N，N三861毫克/米2甲基氯化銨-二甲基丙烯酸乙二醇酯)93/7摩爾比Olin 10G表面活性劑 97.3毫克/米2KNO3抗靜電劑 39.7毫克/米2明膠 2799毫克/米2增塑劑聚合物PP-1 280毫克/米2底層EDTA鈉鹽 83.2毫克/米2甲基苯并噻唑的氯化物 10.1毫克/米2明膠 3498毫克/米2二乙烯基磺酰基甲基醚 75.6毫克/米2支撐物將4.7密耳聚對苯二甲酸-乙二醇酯膜支撐物的背面用含Elvanol(71-30(由Dupont產(chǎn)的聚乙烯醇)(54毫克/米2)、Volan(由Dupont產(chǎn)的methacrylato chromic chloride)(1.9毫克/米2)和硝酸鉀(5.4毫克/米2)的層涂覆。
用增塑劑聚合物PP-2，PP-3和PP-4以及對比增塑劑聚合物C-1，C-2和C-3代替等量的PP-1制備另外的坯料。
C-1聚(丙烯酸甲酯)C-2聚(丙烯酸乙酯)C-3聚(丙烯酸乙酯-苯乙烯)80/20重量。
干燥后，用BYK-gardner制造的XL-211 Hazegard系統(tǒng)測定通過樣品的透射光，來測定每一涂層的薄霧。結(jié)果列于下表IV表IV增塑劑聚合物薄霧(％)無 1.5PP-1 1.4PP-2 1.4PP-3 1.4PP-4 1.2C-1 7.5C-2 2.9C-3 4.1如上所示，除了本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例中的增塑劑聚合物外的增塑劑聚合物，在涂料組合物中有媒染劑的存在下，將使涂層在干燥時(shí)產(chǎn)生薄霧。這一點(diǎn)通過用本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)驗(yàn)方案的增塑劑膠乳很難克服。實(shí)施例3本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方案中增塑劑膠乳在降低脆性方面的作用也被證明了。按實(shí)施例2所述的方法；用PP-5代替PP-1(以指定的用量范圍)制備染料吸液法坯料。通過使膜彎曲定量地測定膜的脆性，從而進(jìn)行脆性試驗(yàn)。用V形片，通過逐漸減小開口不斷地改變膜彎曲的尺寸直到膜破裂為止。膜破裂處V形片的開口就是它的脆性的大小。在進(jìn)行試驗(yàn)之前，使膜處于15％相對濕度和21℃的狀態(tài)下。膜的柔性越大，斷裂之前V形片的開口就越小。
表V實(shí)施例 聚合物含量 脆性毫克/米2(斷裂時(shí)相對V形片的開口)2.1(對比) 00.202.2(發(fā)明) 215 0.112.3(發(fā)明) 430 0.08表V顯示出本發(fā)明增塑劑膠乳對獲得具有較低脆性的適當(dāng)涂層的作用。實(shí)施例4用不同量的UV吸收劑染料UV-1(0.0，135，269，和538毫克/米2)涂覆蘭光敏浮雕片。將下面的規(guī)格用于本實(shí)施例的實(shí)驗(yàn)。
組分 用量范圍頂層明膠883毫克/米2碳 323毫克/米2
半卡巴肼·鹽酸 34毫克/米2Triton X-200E(市售表面活性劑)12毫克/米2鹵化銀層明膠 9688毫克/米2碳 538毫克/米2感光乳劑(含3.4摩爾碘、立方 2422毫克/米2邊長為0.21的、用蘭感光染料BSD-1光譜感光的立方銥摻雜的AgBr I)硝酸鉀 255毫克/米2UV吸收劑染料UV-1，當(dāng)使用時(shí) 各種值毫克/米2支撐物將5密耳透明聚酯膜支撐物的背面用含五氧化釩(3.2毫克/米2)以及丙烯腈、二氯乙烯和丙烯酸15/9/76重量的聚合物(2.4毫克/米2)的層涂覆，然后再涂一層含Elvacite 2041(1064毫克/米2)的層。支撐物的前面用凝膠底層涂覆。
上述被提供的頂層改善了浮雕片的涂覆、加工和抗靜電性的統(tǒng)一性，它對本發(fā)明的浮雕片是不必要的。
將浮雕片通過21梯級光楔片在感光計(jì)上用裝有HOYA U-340濾光器(它的光譜特性示于圖2)的常規(guī)鎢燈相機(jī)進(jìn)行曝光，并將其用US2,837,430中所述的連苯三酚硬化顯影劑進(jìn)行處理，就形成浮雕記錄。所得到的浮雕片的曝光度曲線示于圖4。由圖4明顯看出當(dāng)UV染料濃度增加時(shí)，浮雕片的對比度減小。四個(gè)不同量UV染料的最適當(dāng)?shù)膶Ρ榷?符合曝光度曲線對比度的最佳直線的斜率)繪制在圖5中。在此范圍內(nèi)，用適當(dāng)染料濃度進(jìn)行閃光曝光?？梢缘玫饺魏螌Ρ榷?，并且與成影像曝光結(jié)合，可以確保對所得到的浮雕影像進(jìn)行有效地和選擇性的尖頭對比度控制。實(shí)施例5與裝有濾光器(它可以透過UV光、而基本上吸收大于410nm的所有可見光)的常規(guī)鎢或鎢-鹵燈印相機(jī)一起，不是所有的UV吸收劑都將有效地發(fā)揮作用。所選擇的與此類印相機(jī)一起使用的UV吸收劑的峰波長優(yōu)選為大于360nm(但仍小于410nm)因?yàn)殒u燈典型地具有低于360nm的最小能量。在該360-410nm波長范圍內(nèi)，鹵化銀的自然蘭光敏性是靈敏的。如果UV染料吸收峰位于比較短的波長(如350nm)，它不可能使在鎢或鎢-鹵燈產(chǎn)生能量和浮雕片敏感能量的范圍內(nèi)的光衰減。
基本上重復(fù)實(shí)施例4，不同的是，用UV吸收劑染料UV-2和UV-3的混合物代替染料UV-1，這些UV吸收劑的對比示于圖6，其中在圖6的右側(cè)吸收峰處于較長波長的吸收光譜為染科UV-1的吸收光譜，而在圖6的左側(cè)，吸收峰位于較短波長的是染料UV-2和UV-3混合物的吸收光譜。圖7示出了試驗(yàn)結(jié)果的曝光度。所劃的三條曲線為含有0.0毫克UV染料、269毫克/米2UV-1和269毫克/米2UV-2/UV-3的三個(gè)相似的蘭浮雕片。不加染料的浮雕片和含有269毫克/米2較短峰吸收劑染料(UV-2/UV-3)的曝光度在對比度方面是相似的。因此，具有較短波長峰吸收的UV吸收劑在與鎢燈UV閃光一起使用時(shí)，不能發(fā)揮作用以降低對比度，而含有269毫克/米2的UV-1的浮雕片呈現(xiàn)較大的對比度變化。實(shí)施例6將如下規(guī)格的紅和綠光敏浮雕片用不同量的UV吸收劑染料UV-1涂覆，后按實(shí)施例4相似的方法進(jìn)行曝光和處理。
組分 有效范圍(紅浮雕片) 綠浮雕片鹵化銀層明膠 10764毫克/米29688毫克/米2碳 431毫克/米2538毫克/米2感光乳劑 1938毫克/米21722毫克/米2(含3.4％摩爾碘、 (含3.4％摩爾碘、立方立方邊長為0.13的，邊長為0.09，用綠感光用紅感光染料RSD-1 染料GSD-1和GSD-2光光譜感光的立方銥 譜感光的立方銥摻雜摻雜的AgBr I) AgBr I)黃染料YD-1 2386毫克/米22799毫克/米2UV吸收劑染料UV-1 各種量毫克/米2各種量毫克/米2支撐物將5密耳透明的聚酯膜支撐物的背面用含五氧化釩(3.2毫克/米2)以及丙烯腈、二氯乙烯和丙烯酸(15/9/76重量)的聚合物(2.4毫克/米2)的層涂覆，然后再涂上一層含Elvacite 2041(1064毫克/米2)的層。支撐物的前面用凝膠底層涂覆。
浮雕片可以進(jìn)一步含有現(xiàn)有技術(shù)中已知的常規(guī)攝影的涂料附加物。所觀察到的紅和綠浮雕片相似的對比度降低取決于UV吸收劑的濃度，如同所觀察到的實(shí)施例1的蘭色浮雕片一樣。
權(quán)利要求
1.一種染料吸液法印相坯料，該印相坯料包括支撐物，該支撐物靠它的一面支撐包括陽離子媒染劑的接收染料層，其中印相坯料進(jìn)一步包括基本上無陽離子聚合物的抗靜電層。
2.按照權(quán)利要求1的印相坯料，其中抗靜電層處于與接收染料層相反的支撐物的那一面上。
3.按照權(quán)利要求1或2的印相坯料，其中抗靜電層包括陰離子聚合物、導(dǎo)電的非離子聚合物、金屬鹵化物或金屬氧化物。
4.按照權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)的印相坯料，其中抗靜層包括金屬氧化物和聚合物粘合劑。
5.按照權(quán)利要求4的印相坯料，抗靜電層上還包括防護(hù)聚合物外層。
6.按照權(quán)利要求1-5中任意一項(xiàng)的印相坯料，其中陽離子媒染劑是季銨或磷媒染劑。
7.按照權(quán)利要求6的印相坯料，其中陽離子媒染劑是具有下式的物質(zhì)
其中A′代表含有至少兩個(gè)烯基(ethylenically)不飽和基團(tuán)的可加聚的單體單元；B′代表可共聚的α、β-烯基(α、β-ethylenically)不飽和單體單元；Q是N或P；R′、R″和R獨(dú)立地是碳環(huán)的或烷基；M-是陰離子；a是0.25-10％摩爾；b是0-60％摩爾；和c是40-99％摩爾。
8.按照權(quán)利要求1-7中任意一項(xiàng)的印相坯料，其中接收染料層進(jìn)一步包括親水膠體和增塑劑聚合物，其中增塑劑聚合物是具有2-20％重量含季銨基的單元的、玻璃轉(zhuǎn)化溫度低于30℃的膠乳聚合物。
9.一種染料吸液法印相坯料，該印相坯料包括支撐接收染料層的支撐物，該接收染料層包括陽離子媒染劑、親水膠體和增塑劑聚合物，其中增塑劑聚合物是具有2-20％重量含季銨基的單元的玻璃轉(zhuǎn)化溫度低于30℃的膠乳聚合物。
10.按照權(quán)利要求8或9的印相坯料，其中增塑劑聚合物是乙烯共聚物，具有季銨基的單元是連有季銨基的丙烯酸或甲基丙烯酸酯或酰胺。
11.按照權(quán)利要求10的印相坯料，其中增塑劑聚合物是具有下式的物質(zhì)
其中A代表由丙烯酸或甲基丙烯酸酯單體衍生的單元；B代表由乙烯基苯單體衍生的單元；R1是H或甲基，L是-C(O)O-、-C(O)NH-、或芳族連接基團(tuán)；M是C1-C12鏈烯基連接基團(tuán)；R2，R3和R4是C1-C6的烷基；X-是陰離子的抗衡離子；W是50-98％重量；Y是0-48重量；和Z是2-20％重量。
12.按照權(quán)利要求1-11中任意一項(xiàng)的印相坯料，其中支撐物是透明的。
13.按照權(quán)利要求1-12中任意一項(xiàng)的印相坯料，該印相坯料進(jìn)一步包括用以記錄聲跡的鹵化銀乳劑層。
14.一種染料吸液法印相浮雕片的曝光方法，該方法包括將浮雕片成影像地曝露在蘭、綠或紅光中，其中該浮雕片包括支撐物上的含可見光敏鹵化銀乳劑的膠體層，其中可見光敏乳劑對UV光也是敏感的，并且顯象的浮雕片的尖頭對比度可以通過下列方法控制(I)把UV吸收劑摻入浮雕片的膠體層，和(II)在波長大于410nm的光基本上不存在的條件下，用UV光閃光曝光浮雕片，其中UV吸收劑對410nm以上光具有足夠低的吸收，以便使它在成影像曝光過程中或成像的浮雕片為中等對比度時(shí)，不會(huì)改變浮雕片的有效攝影速度，而且該UV吸收劑對UV光有足夠高的吸收，以降低所得到的成像的浮雕片的尖頭對比度。
15.按照權(quán)利要求14的方法，其中浮雕片包括蘭光敏鹵化銀乳劑，該浮雕片成影象地曝露在蘭光中。
16.按照權(quán)利要求14的方法，其中浮雕片包括全色光敏鹵化銀乳劑。
17.按照權(quán)利要求14-16中任意一項(xiàng)的方法，其中閃光UV曝光用鎢或鎢-鹵燈和濾光器進(jìn)行，該濾光器可以透過UV光，吸收基本上所有的大于410nm的光。
18.按照權(quán)利要求14-17中任意一項(xiàng)的方法，其中UV吸收劑的峰吸收在360-390nm之間。
19.按照權(quán)利要求14-17中任意一項(xiàng)的方法，其中UV吸收劑是
20.一種用于吸液法的浮雕片，該浮雕片包括支撐膠體層的支撐物，該膠體層包括(I)可見光敏鹵化銀乳劑，該乳劑對UV光也是敏感的，(II)吸收可見光的非光敏顆粒，(III)親水膠體，和(IV)吸收峰在360-410nm之間的UV吸收劑。峰在360-410nm之間的UV吸收劑。
全文摘要
本發(fā)明公開了染料吸液法印相坯料,該坯料包括支撐物和基本上無陽離子聚合物的抗靜電層。本發(fā)明還公開了曝光染料吸液法印相浮雕片的方法,該方法包括將浮雕片成影像地曝露在蘭、綠或紅光中,并且成像的浮雕片的尖頭對比度可如下控制:(Ⅰ)把UV吸收劑摻入浮雕片的膠體層,和(Ⅱ)在基本無波長大于410nm光的條件下,用UV光閃光曝光浮雕片。
文檔編號G03C8/00GK1172968SQ9611174
公開日1998年2月11日 申請日期1996年6月19日 優(yōu)先權(quán)日1995年6月20日
發(fā)明者W·A·包曼, C·P·哈格邁耶, F·D·曼尼奧西, M·J·波達(dá)諾維茨, R·W·納爾遜 申請人:伊斯曼柯達(dá)公司