專利名稱:顯影溶液回收處理方法以及顯影溶液回收處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種溶液回收處理方法，特別是指一種顯影溶液回收處理方法；另外，本發(fā)明亦是有關(guān)于一種溶液回收處理裝置，特別是指一種顯影溶液回收處理裝置。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體及液晶基板制程中，為了先在基板上呈現(xiàn)例如邏輯電路的圖譜，因此需在各基板上涂布光阻劑后，再透過一光罩而曝光，使得該光阻劑轉(zhuǎn)化為欲保留于各基板上的光阻劑，及欲去除的光阻劑兩部分；接著以顯影溶液洗除掉欲去除的光阻劑，始可顯影出所欲獲得的圖譜，以繼而進行后續(xù)制程。
一般而言，光阻劑的主要成分包括例如鄰-萘醌二迭氮-4-磺酸；鄰-萘醌二迭氮-5-磺酸；鄰-萘醌二迭氮-6-磺酸等的萘醌二迭氮系感光劑(o-naphthoquinone diazide；簡稱NQD)，與例如熱塑性酚醛樹脂(Novolac resin)等的堿可溶性粘結(jié)樹脂(binder resin)，以及接口活性劑等；相對于光阻劑所使用的顯影溶液，則含有堿化合物的成份，例如四甲基氫氧化銨(Tetramethylammonium hydroxide，于下文中以其簡稱“TMAH”表述)、四乙基氫氧化銨(tetraethylammoniumhydroxide)、四丙基氫氧化銨(tetrapropylammoniumhydroxide)、四丁基氫氧化銨(tetrabutylammoniumhydroxide)、甲基三乙基氫氧化銨(methyltriethylammoniumhydroxide)、三甲基乙基氫氧化銨(trimethylethylammoniumhydroxide)、二甲基二乙基氫氧化銨(dimethyldiethylammonium hydroxide)、三甲基(2-羥乙基)氫氧化銨[trimethyl(2-hydroxyethyl)ammoniumhydroxide]、三乙基(2-羥乙基)氫氧化銨[triethyl(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]、二甲基二(2-羥乙基)氫氧化銨[dimethyldi(2-hydroxyethyl)ammoniumhydroxide]、二乙基二(2-羥乙基)氫氧化銨[diethyldi(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]、甲基三(2-羥乙基)氫氧化銨[methyltri(2-hydroxyethyl)ammoniumhydroxide]、乙基三(2-羥乙基)氫氧化銨[ethyltri(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]、四(2-羥乙基)氫氧化銨[tetra(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]，及氫氧化鉀(Potassium hydroxide，于下文中以其化學(xué)式「KOH」表述)等，供熟習(xí)此技藝者依需要而選擇使用。
當(dāng)顯影溶液噴灑在基板上時，會由與經(jīng)曝光后的欲去除的光阻劑相互作用，將其自所屬的基板上溶洗掉；接著，使用過后的顯影溶液將被收集，并經(jīng)由循環(huán)管路而重復(fù)被噴灑在基板上。
但是，由于上述光阻劑是屬酸性，因此隨著顯影過程持續(xù)地進行，顯影溶液在重復(fù)顯影光阻劑時，其中所含的實際與光阻劑作用的堿化合物，會逐漸與光阻劑酸堿中和而被消耗，使得顯影溶液的有效濃度逐漸降低，無法持續(xù)地保有優(yōu)良的顯影效果。若是定時更新具有有效濃度的顯影溶液，雖然可確保溶液的顯影效果及產(chǎn)品良率具有一定的水準，然而廢棄的顯影溶液將衍生后續(xù)處理程序及環(huán)保等復(fù)雜的問題。
基于該顯影溶液中的堿化合物濃度需維持于一適當(dāng)濃度方能發(fā)揮良好的顯影效果，同時顧及環(huán)保及成本等多方面的考量，因此，相關(guān)業(yè)界則發(fā)展出顯影溶液的回收技術(shù)或相關(guān)處理設(shè)備，由此延長顯影溶液的使用壽命。其主要的解決方法合策略，是在判別該顯影溶液的堿化合物的濃度低于一設(shè)定值時，即將具有一較高濃度的堿化合物的補充液，適量地灌入該顯影溶液中，以使該顯影溶液中的堿化合物維持在一適當(dāng)?shù)臐舛取?br> 而前述判別該顯影溶液的堿化合物濃度是否低于該設(shè)定值，則是由將該顯影溶液流入各式傳感器中，繼而加以檢知其堿化合物濃度而得，以便由其結(jié)果決定是否應(yīng)灌入該補充液；例如臺灣專利第373237號、日本公開特許特開平7-235487案使用吸光光度計，及日本公開特許特開平2003-l31398號案使用濃度計等。
由于該等傳感器都是需要顯影溶液流經(jīng)其中方能感測，因此隨著使用時間日久，該顯影溶液中的光阻劑或其它雜質(zhì)會逐漸附著在該等傳感器的管路上，甚至形成阻塞，造成該等傳感器誤判該顯影溶液的堿化合物濃度，連帶地使得該顯影溶液無法被正確地維持于適當(dāng)?shù)膲A化合物濃度，影響后續(xù)顯影溶液的顯影效果，以及產(chǎn)品良率甚巨。
但是，該等傳感器的感應(yīng)能力，是在長時間下逐步惡化，因此工作人員，特別是經(jīng)驗不足者，不盡然能在第一時間察覺到所使用的傳感器已無法正常運作，進而可能作出不恰當(dāng)?shù)闹瞥涛C處理方策，影響廠商成本甚巨；再者，為維護該等傳感器的正常運作，廠商勢必需定時派人清洗或是汰換更新，如此亦增加了人事、工時，及設(shè)備等各方面的成本。
因此，如何可使一重復(fù)使用的顯影溶液的堿化合物濃度被正確地調(diào)整，以讓其具有最佳的顯影效果，提升后續(xù)產(chǎn)品良率，并且可同步地顧及其所需成本，即成為目前相關(guān)業(yè)界所亟欲發(fā)展之處。

發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明的目的，即在提供一種可有效地回復(fù)該顯影溶液的顯影效果的顯影溶液回收處理方法，以及一種可以精確地調(diào)控該顯影溶液中堿化合物濃度的顯影溶液回收處理裝置。
該顯影溶液回收處理裝置及回收處理方法，主要是依據(jù)該顯影溶液所顯影過的基板的數(shù)量，來調(diào)整補充入該顯影溶液的堿化合物量，使得該顯影溶液中的堿化合物得以精準地維持于一應(yīng)有的適當(dāng)濃度，而免除了以往由傳感器偵測的方式所產(chǎn)生的缺點。
本發(fā)明首先提供的一種顯影溶液回收處理裝置，是裝設(shè)在一用以運行涂布有光阻劑以待顯影的各基板的顯影裝置上；該顯影裝置包含有一用以運行各基板的運行單元、一設(shè)置于該運行單元下方并容裝含有一堿化合物的顯影溶液的集液槽，及連通該集液槽并使該顯影溶液循環(huán)地至各基板上以洗除各基板上的光阻劑的回流單元；其特征在于，該顯影溶液回收處理裝置則包含有一計數(shù)單元，用以計數(shù)經(jīng)顯影的基板數(shù)量而獲得一計數(shù)值；一補充單元，是連接于該集液糟，并提供含堿化合物的補充液至集液槽；以及一控制單元，是連控該計數(shù)單元及補充單元，并依據(jù)該計數(shù)值來操控該補充單元的含堿化合物的補充液供應(yīng)至集液槽的量。
其中，該補充單元包括有一具有含堿化合物的補充液、一容置該補充液的補充槽、一連通于該補充槽與集液槽的補充管路，及一設(shè)置在該補充管路上以控制該補充液的輸出量的流量閥；其中，該補充液是被輸送至該集液槽內(nèi)，且該補充液中堿化合物的濃度是大于該集液槽內(nèi)顯影溶液中堿化合物的濃度。
其中，該控制單元是包括有擇自于以下所構(gòu)成的群組馬達控制器、PID控制器(Proportional-Integral-Derivativecontroller)、PI控制器(Proportional-Integral controller)，以及DCS控制器(Digital Contribution System controller)。
其中還包含有一設(shè)置在該顯影裝置的運行單元下，供該顯影溶液通過以消除其泡沫的消泡單元。
其中，該消泡單元是為一消泡板與一設(shè)置于該消泡板的吸附材，該消泡板為一形成有復(fù)數(shù)供該顯影溶液通過的通孔，且為耐酸堿的材質(zhì)所制成。
其中還包含有一連接該集液槽的過濾單元，其是設(shè)置在該顯影裝置的回流單元上，以供該顯影溶液流經(jīng)而濾除所含的光阻劑與雜質(zhì)后再流回至該集液槽內(nèi)，而使該顯影溶液中的光阻劑濃度在0.001重量％以下。
其中，該過濾單元是包括有擇自于以下所構(gòu)成的群組微濾膜、超濾膜、納米濾膜、逆滲透膜、離子交換樹脂管柱、電氣透析設(shè)備、電解設(shè)備，以及此等的組合。
本發(fā)明一種顯影溶液回收處理方法，是在一欲顯影涂布有光阻劑的各基板的顯影裝置內(nèi)部與外部實施，其含有一容裝含有堿化合物的顯影溶液的集液槽；其特征在于，該顯影溶液回收處理方法包含的步驟為計數(shù)步驟是以一計數(shù)單元來計數(shù)已顯影過的基板，而獲得一計數(shù)值；以及補充步驟是以一控制單元對應(yīng)該計數(shù)值，而調(diào)控一含有堿化合物補充液的補充單元，使其將該含堿化合物補充液適度地提供至該集液槽內(nèi)，并維持該集液槽內(nèi)顯影溶液中堿化合物的濃度控制在一適當(dāng)數(shù)值。
其中還包含一消泡步驟，其是以一消泡單元來消除該顯影溶液的泡沫。
其中還包含一過濾步驟，其是以一過濾單元來過濾該顯影溶液，以使其所含的光阻劑濃度控制在一定濃度以下。
因此，利用本發(fā)明所提出的顯影溶液回收處理方法或顯影溶液回收處理裝置，將可在無傳感器的設(shè)置下，精確地將顯影溶液中堿化合物的濃度維持于一適當(dāng)?shù)臄?shù)值，同時亦有降低各項成本及提升產(chǎn)品量率等功效。
為進一步說明本發(fā)明的具體技術(shù)內(nèi)容，以下結(jié)合實施例及附圖詳細說明如后，其中圖1是一示意圖，說明本發(fā)明顯影溶液回收處理裝置的一較佳實施例中所設(shè)置的各構(gòu)件的相對位置關(guān)系；及圖2是一示意圖，說明該較佳實施例中消泡單元的各構(gòu)件的相對位置關(guān)系，其中設(shè)置于兩滾軸之間的各滾軸是暫被移除。
具體實施方式基于前述已知技術(shù)的不足，申請人發(fā)展出一種顯影溶液回收處理方法，其是在一欲顯影涂布有光阻劑的各基板的顯影裝置內(nèi)實施，該顯影裝置則含有一容裝含有堿化合物的顯影溶液的集液槽；而該顯影溶液回收處理方法包含的步驟為一計數(shù)步驟，以及一補充步驟。
該計數(shù)步驟是以一計數(shù)單元來計數(shù)已顯影過的基板，而獲得一計數(shù)值。該補充步驟是以一控制單元對應(yīng)該計數(shù)值，而調(diào)控一含有堿化合物補充液的補充單元，使其將該含堿化合物補充液適度地提供至該集液槽內(nèi)，并維持該集液槽內(nèi)顯影溶液中堿化合物的濃度控制在一適當(dāng)數(shù)值。
較佳地，該方法還包含有一消泡步驟，其是以一消泡單元來消除該顯影溶液的泡沫；而藉由此消泡步驟，將有助于各基板更順暢地被運行。
較佳地，該方法還包含有一過濾步驟，其是以一過濾單元來過濾該顯影溶液，以使其所含的光阻劑濃度控制在一定濃度以下，而可延緩該顯影溶液的劣化現(xiàn)象，增加使用壽命。該過濾步驟亦可與該消泡步驟一同被包含于本發(fā)明顯影溶液回收處理方法之內(nèi)。
值得一提的是，該方法的消泡步驟與過濾步驟，是各別相對于該計數(shù)步驟與補充步驟而同步地獨立實施，且因此無執(zhí)行順序上的限制。
由于該顯影溶液回收處理方法，是可由該顯影溶液回收處理裝置而對應(yīng)實施，故有關(guān)于后續(xù)較佳地實施該方法所需的計數(shù)單元、補充單元、控制單元，以及消泡單元、過濾單元等暨其等的相關(guān)構(gòu)件的較佳或更佳態(tài)樣，則由以下該顯影溶液回收處理裝置而說明。
本發(fā)明首先提出的顯影溶液回收處理裝置，是依據(jù)該顯影溶液回收處理方法的創(chuàng)作精神而設(shè)計，其是裝設(shè)在一用以運行涂布有光阻劑以待顯影的各基板的顯影裝置上。
該顯影裝置包含有一用以運行各基板的運行單元、一設(shè)置于該運行單元下方并容裝含有一堿化合物的顯影溶液的集液槽，及連通該集液槽并使該顯影溶液循環(huán)地至各基板上以洗除各基板上的光阻劑的回流單元。
本發(fā)明顯影溶液回收處理裝置則是包含有一計數(shù)單元、一補充單元，以及一控制單元。該計數(shù)單元是用以計數(shù)經(jīng)顯影的基板數(shù)量，而獲得一計數(shù)值。該補充單元是連接于該集液糟，并提供含堿化合物的補充液至集液槽。該控制單元是連控該計數(shù)單元及補充單元，依據(jù)該計數(shù)值來操控該補充單元的含堿化合物的補充液供應(yīng)至該集液槽內(nèi)的量。
較佳地，該補充單元包括有一具有含堿化合物的補充液、一容置該補充液的補充槽、一連通于該補充槽與集液槽的補充管路，及一設(shè)置在該補充管路上以控制該補充液的輸出量的流量閥；其中，該補充液是被輸送至該集液槽內(nèi)，且該補充液中堿化合物的濃度是大于該集液槽內(nèi)顯影溶液中堿化合物的濃度。且于此，更佳地，該補充單元的該補充液中堿化合物的濃度為10～80重量％。于本發(fā)明的一較佳實施例中，該補充單元的補充液的堿化合物濃度是約25重量％；此外，該集液槽內(nèi)顯影溶液中堿化合物的濃度為2.5重量％以下。
較佳地，該控制單元是包括有擇自于以下所構(gòu)成的群組馬達控制器、PID控制器、PI控制器，以及DCS(DigitalContribution System)控制器；于本發(fā)明的一具體例中，該控制單元是包括有馬達控制器，并還包括有一用以監(jiān)控該集液槽中顯影溶液的液位高度的液位偵測器。
較佳地，本裝置還包含有一消泡單元，其是設(shè)置在該顯影裝置的運行單元下，供該顯影溶液通過以消除其泡沫。更佳地，該消泡單元是為一消泡板與一設(shè)置于該消泡板的吸附材，該消泡板為一形成有復(fù)數(shù)供該顯影溶液通過的通孔，且為耐酸堿的材質(zhì)所制成。于本發(fā)明的一具體例中，該耐酸堿的材質(zhì)是為PVC，且該吸附材是為不織布；選擇性地，其可為單層或多層的態(tài)樣。
較佳地，本裝置還包含有一過濾單元，其是連接該集液槽，并設(shè)置在該顯影裝置的回流單元上，以供該顯影溶液流經(jīng)而濾除所含的光阻劑與雜質(zhì)后再流回該集液槽內(nèi)，而使該顯影溶液中的光阻劑濃度在0.001重量％以下；更佳地，該過濾單元是包括有擇自于以下所構(gòu)成的群組微濾膜(microfiltration membranes；簡稱MF)、超濾膜(ultrafiltration membrane；簡稱UF)、納米濾膜(monolayernanofiltration membrane；簡稱NF)、逆滲透膜(reverseosmosis簡稱RO)、離子交換樹脂管柱(ion exchangetreatment簡稱IE)、電氣透析設(shè)備(electrodialysis簡稱ED)、電解設(shè)備(electrolysis)，以及此等的組合。
以上所述的被包括于該過濾單元的部件，是得以依操作者的需求而調(diào)整其排列順序。另外，選擇性地，該微濾膜、超濾膜、納米濾膜，以及逆滲透膜等，是可為單層或多層的態(tài)樣，其形狀亦未特別限定，而可為平膜狀、中空線狀等；而離子交換樹脂管柱、電氣透析設(shè)備、電解設(shè)備等，是可為一次式或二次式的態(tài)樣。
該顯影溶液中所使用的堿化合物，是配合所欲作用的光阻劑成分，而選擇使用；就本發(fā)明所舉例說明之，該堿化合物是為TMAH；為具有優(yōu)良的顯影效果，較佳地，該顯影溶液的堿化合物的適當(dāng)濃度約為2.5重量％以下；更佳地，是為2.3～2.4重量％之間；最佳地，是約為2.38重量％。而就其它的堿化合物，則有各自的適當(dāng)濃度，但都可藉由本發(fā)明方法及裝置而加以調(diào)控。
以下將以一較佳實施例進一步說明本發(fā)明，惟該實施例僅為例示說明的用，而非用以限制本發(fā)明。
實施例本發(fā)明顯影溶液回收處理方法，是在一如圖1所示的顯影裝置1內(nèi)，由一裝設(shè)在其上的顯影溶液回收處理裝置來實施，其所包含的步驟為計數(shù)步驟、補充步驟、消泡步驟，以及過濾步驟。而該顯影溶液回收處理裝置則包含，一用以進行該計數(shù)步驟并獲得一計數(shù)值的計數(shù)單元2、用以進行該補充步驟的一控制單元3與補充單元4、一用以進行該消泡步驟的消泡單元5，以及一用以進行該過濾步驟的過濾單元6。其中，該控制單元3是對應(yīng)該計數(shù)值而調(diào)控該補充單元4；該消泡步驟是消除顯影過程中所產(chǎn)生的泡沫；該過濾步驟則是濾除顯影溶液中的光阻劑。
該顯影裝置1包含有一進行顯影處理程序的顯影處理室11、一用以運行各基板12的運行單元13、一設(shè)置于該運行單元13下方并容裝含有TMAH的顯影溶液14的集液槽15，及一連通該集液槽15并循環(huán)輸送該顯影溶液14的回流單元16。
其中，該運行單元13，是包括有多數(shù)個相互并排且以相同方向滾轉(zhuǎn)的滾軸131，各基板12放置于該等滾軸131之上，而進出該顯影處理室11；該顯影溶液14的TMAH濃度約為2.38％，并且欲維持于此濃度；該集液槽15的底端是開設(shè)有一可啟閉的排液口151，以容收或排除其內(nèi)的顯影溶液14，便于更新；于此，相關(guān)排放系統(tǒng)的設(shè)置方式則為相關(guān)業(yè)者所熟知且非本案重點，于此不予贅述并暫不表示。該回流單元16則是包括有一顯影管路組161與一過濾管路組162。該顯影管路組161與過濾管路組162的一端皆是開設(shè)于該集液槽15的底緣，其中，該顯影管路組161的另一端則是設(shè)置于該等基板12的上方處，并形成一噴灑頭163；該過濾管路組162的另一端則是連通于該集液槽15。
各基板12在進入該顯影處理室11之前，其表面是涂布有已完成曝光處理，而被區(qū)分為欲去除的光阻劑121及欲保留的光阻劑122。當(dāng)一基板12自該顯影處理室11外，被運行至噴灑出顯影溶液14的噴灑頭163下方時，該欲去除的光阻劑121則被該顯影溶液14而洗除，并達到顯影的目的；之后，該顯影溶液14將溶有該欲去除的光阻劑121并隨著重力而回落至該集液槽15中。
該計數(shù)單元2是用以計數(shù)經(jīng)顯影的基板12的數(shù)量而獲得一計數(shù)值，于此，該計數(shù)單元2是為一光計數(shù)計。該控制單元3是包括有一馬達控制器31，及一用以獲知該集液槽15中顯影溶液14的液位高度，并連控于該馬達控制器31的液位偵測器32。
該補充單元4包括有一具有一約為25重量％的濃度的TMAH的補充液41、一容置該補充液41的補充槽42、一連通于該補充槽42與集液槽15的補充管路43，及一設(shè)置在該補充管路43上以控制該補充液41的輸出量的流量閥44；其中，該補充液41是經(jīng)由該補充管路43而被輸送至該集液槽15內(nèi)。
該馬達控制器31是連控于該計數(shù)單元2及流量閥44，以依據(jù)該計數(shù)值而操控該流量閥44的啟閉程度；由此，該補充液41將隨著該計數(shù)值及該液位偵測器32的液位測定，而適量地被供應(yīng)至該集液槽15內(nèi)。
參見圖1、圖2，該消泡單元5是包括有復(fù)數(shù)沿著該運行單元13而并排地裝設(shè)在其下方的消泡板51，及設(shè)置于該等消泡板51下方的吸附材52。各消泡板51為一形成有復(fù)數(shù)供該顯影溶液14通過的通孔511，且為耐酸堿的材質(zhì)所制成的板體；該吸附材52則為不織布。
由于在顯影過程中，當(dāng)該顯影溶液14反復(fù)溶洗光阻劑，將會伴隨收集其所含有的接口活性劑，并且因反復(fù)噴灑受力而產(chǎn)生越來越多的泡沫，而泡沫會陸續(xù)殘留在該運行單元13上，逐漸地讓被輸送的各基板12與該等滾軸131接觸面的摩擦力不足，使得基板12無法順利地被運行。而由該消泡單元5的設(shè)置，將可于該顯影溶液14通過時，吸附其中的接口活性劑并消除泡沫，以舒緩其所產(chǎn)生的負面影響。
參見圖1，該過濾單元6是可將所濾集的雜質(zhì)排除，其是設(shè)置在該過濾管路組162上，供該顯影溶液14流經(jīng)而濾除所含的光阻劑121后再流回該集液槽15內(nèi)，而讓該顯影溶液14中的光阻劑121濃度在0.001重量％以下。該過濾單元6是包括有供該顯影溶液14依序通過的超濾膜61、可將TMAH電解成四甲基銨離子(TAA+)及氫氧離子(OH-)的電氣透析設(shè)備或電解設(shè)備62，以及可吸附光阻劑成分的離子交換樹脂管柱63；由各式用以過濾及純化的組件，將可確實地將該顯影溶液14中的光阻劑121濃度控制在0.001重量％以下，有效延緩該顯影溶液14的劣化程度。
廠商可依據(jù)其各自的制程經(jīng)驗而設(shè)定該馬達控制器31，于此例舉僅供說明而非限制的兩種方式，來決定啟閉該流量閥44的時機與開啟程度1、事先測定顯影若干片同規(guī)格的基板12上欲去除的光阻劑121所會消耗的TMAH量，并計算平均顯影一片基板12所需供應(yīng)至該集液槽15中的補充液41量a；2、設(shè)定該馬達控制器31，使其得以連控于該流量閥44，而得以由一片一次地提供補充液41量a，或是多片一次(例如顯影300片后提供補充液41量300a)的批次式方法，對該集液槽15添加補充液41量。
再者，在進行上述的TMAH補充時，該消泡單元5與過濾單元6亦同步地進行消泡步驟與過濾步驟，使得該控制單元3與補充單元4可單純地依據(jù)已顯影的基板片數(shù)，提供預(yù)定量的補充液于該集液槽15中，而讓該顯影溶液14的TMAH維持于2.38重量％的濃度。
因此，該顯影裝置1中的集液槽15內(nèi)的顯影溶液14，將依順著該回流單元16而被輸送，另并同步地經(jīng)過本發(fā)明顯影溶液回收處理裝置的過濾單元6以濾除掉其中的光阻劑121與其它雜質(zhì)殘渣后，繼而被輸送至待顯影的各基板12的上方處后，流出該噴灑頭163以沖灑于該等基板12，溶洗其上的欲去除的光阻劑121，遺留形成有特定圖譜的光阻劑122。之后，該顯影溶液14將會通過該消泡單元5以消除泡沫，繼而被回收至該集液槽15內(nèi)。
而透過該計數(shù)單元2所測得的計數(shù)值，以及馬達控制器31的聯(lián)機控制，使該流量閥44依該計數(shù)值而被適時且適度地啟閉，以輸送適量的補充液41至該集液槽15中，而因為該過濾單元6已將光阻劑121及其它雜質(zhì)去除，是以該控制單元3及補充單元4得以單純地就該計數(shù)單元2所獲得的計數(shù)值，而調(diào)控欲提供至該補充槽15的補充量，使得該顯影溶液14中TMAH得以維持在該適當(dāng)濃度。
由以上說明，可知本發(fā)明是由計數(shù)經(jīng)顯影的基板12數(shù)量，來決定該補充單元4中流量閥44的作動時機及啟閉程度，由此將適量的補充液41提供至該集液槽15內(nèi)，以使其中的顯影溶液14中的TMAH維持在2.38重量％。另配合消泡單元5與過濾單元6的設(shè)置，將可使該等基板12被運行地更順暢，且同步地濾除該顯影溶液14中的雜質(zhì)，于是除了可精準地掌控該顯影溶液中TMAH的濃度以外，并具有可延緩該顯影溶液14的劣化速率、增長使用時限、增進作業(yè)流暢度、降低廠商的相關(guān)成本負荷，提升產(chǎn)品后續(xù)良率等優(yōu)點。
惟以上所述的，僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，當(dāng)不能以此限定本發(fā)明實施的范圍，即凡是依本發(fā)明申請專利范圍及發(fā)明說明內(nèi)容所作的簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發(fā)明專利涵蓋的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種顯影溶液回收處理裝置，是裝設(shè)在一用以運行涂布有光阻劑以待顯影的各基板的顯影裝置上；該顯影裝置包含有一用以運行各基板的運行單元、一設(shè)置于該運行單元下方并容裝含有一堿化合物的顯影溶液的集液槽，及連通該集液槽并使該顯影溶液循環(huán)地至各基板上以洗除各基板上的光阻劑的回流單元；其特征在于，該顯影溶液回收處理裝置則包含有一計數(shù)單元，用以計數(shù)經(jīng)顯影的基板數(shù)量而獲得一計數(shù)值；一補充單元，是連接于該集液糟，并提供一含堿化合物的補充液至該集液槽；以及一控制單元，是連控該計數(shù)單元及該補充單元，并依據(jù)該計數(shù)值來操控該補充單元的該含堿化合物的補充液供應(yīng)至該集液槽的量。
2.依據(jù)權(quán)利要求
1項所述的顯影溶液回收處理裝置，其特征在于，其中，該補充單元包括具有該含堿化合物的補充液、一容置該補充液的補充槽、一連通于該補充槽與該集液槽的一補充管路，及一設(shè)置在該補充管路上以控制該補充液的輸出量的一流量閥；其中，該補充液是被輸送至該集液槽內(nèi)，且該補充液中堿化合物的濃度是大于該集液槽內(nèi)顯影溶液中堿化合物的濃度。
3.依據(jù)權(quán)利要求
1項所述的顯影溶液回收處理裝置，其特征在于，其中，該控制單元是包括有擇自于以下所構(gòu)成的群組馬達控制器、PID控制器、PI控制器，以及DCS控制器。
4.依據(jù)權(quán)利要求
1項所述的顯影溶液回收處理裝置，其特征在于，其中還包含有一設(shè)置在該顯影裝置的運行單元下方，供該顯影溶液通過以消除其泡沫的消泡單元。
5.依據(jù)權(quán)利要求
4項所述的顯影溶液回收處理裝置，其特征在于，其中，該消泡單元是為一消泡板與一設(shè)置于該消泡板的一吸附材，該消泡板為一形成有復(fù)數(shù)供該顯影溶液通過的通孔，且為耐酸堿的材質(zhì)所制成。
6.依據(jù)權(quán)利要求
1項所述的顯影溶液回收處理裝置，其特征在于，其中還包含有一連接該集液槽的一過濾單元，其是設(shè)置在該顯影裝置的該回流單元上，以供該顯影溶液流經(jīng)而濾除所含的光阻劑與雜質(zhì)后再流回至該集液槽內(nèi)，而使該顯影溶液中的光阻劑濃度在0.001重量％以下。
7.依據(jù)權(quán)利要求
6項所述的顯影溶液回收處理裝置，其特征在于，其中，該過濾單元是包括有擇自于以下所構(gòu)成的群組微濾膜、超濾膜、納米濾膜、逆滲透膜、離子交換樹脂管柱、電氣透析設(shè)備、電解設(shè)備，以及此等的組合。
8.一種顯影溶液回收處理方法，是在一欲顯影涂布有光阻劑的各基板的顯影裝置內(nèi)部與外部實施，其含有一容裝含有堿化合物的顯影溶液的集液槽；其特征在于，該顯影溶液回收處理方法包含的步驟為一計數(shù)步驟是以一計數(shù)單元來計數(shù)已顯影過的基板，而獲得一計數(shù)值；以及一補充步驟是以一控制單元對應(yīng)該計數(shù)值，而調(diào)控一含有堿化合物補充液的補充單元，使其將該含堿化合物補充液適度地提供至該集液槽內(nèi)，并維持該集液槽內(nèi)顯影溶液中堿化合物的濃度控制在2.5重量％以下。
9.依據(jù)權(quán)利要求
8項所述的顯影溶液回收處理方法，其特征在于，其中還包含一消泡步驟，其是以一消泡單元來消除該顯影溶液的泡沫。
10.依據(jù)權(quán)利要求
8項所述的顯影溶液回收處理方法，其特征在于，其中還包含一過濾步驟，其是以一過濾單元來過濾該顯影溶液，以使其所含的光阻劑濃度控制在0.0O1重量％以下。
專利摘要
一種顯影溶液回收處理方法，以將顯影溶液中堿化合物控制在一適當(dāng)濃度，該顯影溶液是重復(fù)溶洗復(fù)數(shù)基板上的欲去除的光阻劑，包含以一計數(shù)單元來計數(shù)已顯影的基板而獲得一計數(shù)值的計數(shù)步驟，及以一控制單元來就計數(shù)值，適度調(diào)控一含有堿化合物補充液的補充單元的補充步驟；本發(fā)明亦請求一顯影溶液回收處理裝置，包含有一計數(shù)單元、一補充單元，及一控制單元；由此裝置的運作而可有精確掌控該顯影溶液濃度值、降低成本、延緩顯影溶液劣化等功效。
文檔編號G03F7/26GK1991594SQ200510135206
公開日2007年7月4日 申請日期2005年12月27日
發(fā)明者蔡宏明 申請人:奇美實業(yè)股份有限公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan