本案是申請(qǐng)日為2011年9月12日，申請(qǐng)?zhí)枮?01180044021.8，發(fā)明名稱(chēng)為“移動(dòng)體裝置、曝光裝置、元件制造方法、平板顯示器的制造方法、及物體交換方法”的專(zhuān)利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。

本發(fā)明系關(guān)于移動(dòng)體裝置、曝光裝置、元件制造方法、平板顯示器的制造方法、及物體交換方法，更詳言的，系關(guān)于具備能與物體一起沿與水平面平行的既定二維平面內(nèi)的既定范圍的移動(dòng)體的移動(dòng)體裝置、具備該移動(dòng)體裝置的曝光裝置、使用該曝光裝置的元件制造方法、使用前述曝光裝置的平板顯示器的制造方法、以及在從下方支承前述物體的物體支承裝置上交換物體的物體交換方法。

背景技術(shù)：

以往，在制造液晶顯示元件、半導(dǎo)體元件(集成電路等)等電子元件(微型元件)的微影制程中，系使用一邊使掩膜或標(biāo)線(xiàn)片(以下總稱(chēng)為「掩膜」)與玻璃板或晶圓等物體(以下總稱(chēng)為「基板」)沿既定掃描(scan)方向同步移動(dòng)、一邊將形成于掩膜的圖案經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)轉(zhuǎn)印至基板上的步進(jìn)掃描方式的投影曝光裝置(所謂掃描步進(jìn)機(jī)等)(參照例如專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。

此種曝光裝置，曝光對(duì)象的基板被既定的基板交換裝置搬入基板載臺(tái)上，且在曝光處理結(jié)束后，被基板交換裝置從基板載臺(tái)上搬出。接著，藉由基板交換裝置將其他基板搬入基板載臺(tái)上。曝光裝置，系藉由反復(fù)進(jìn)行上述基板的搬入、搬出，而對(duì)復(fù)數(shù)個(gè)基板連續(xù)進(jìn)行曝光處理。是以，在連續(xù)使復(fù)數(shù)個(gè)基板曝光時(shí)，最好是能迅速地進(jìn)行基板往基板載臺(tái)上的搬入及基板從基板載臺(tái)上的搬出。

[專(zhuān)利文獻(xiàn)]

[專(zhuān)利文獻(xiàn)1]美國(guó)發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)第2010/0018950號(hào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

根據(jù)本發(fā)明的第1態(tài)樣，提供一種第1移動(dòng)體裝置，其具備：移動(dòng)體，可保持物體的端部，與該物體一起至少在與水平面平行的既定二維平面內(nèi)的既定范圍移動(dòng)；物體支承裝置，具有可在包含0度的至少兩階段變更其一面相對(duì)前述二維平面的傾斜角度的第1構(gòu)件，從下方支承在前述既定范圍內(nèi)與前述移動(dòng)體一起移動(dòng)的前述物體；第1支承裝置，具有一面，可從下方支承前述物體，該一面與處于相對(duì)前述二維平面成第1角度的第1狀態(tài)的前述第1構(gòu)件的前述一面一起形成相對(duì)前述二維平面成前述第1角度的第1移動(dòng)面；第2支承裝置，具有一面，可從下方支承前述物體，該一面與處于相對(duì)前述二維平面成第2角度的第2狀態(tài)的前述第1構(gòu)件的前述一面一起形成相對(duì)前述二維平面成前述第2角度的第2移動(dòng)面；以及搬送系統(tǒng)，包含使前述物體沿前述第1移動(dòng)面移動(dòng)的第1搬送系統(tǒng)與使前述物體沿前述第2移動(dòng)面移動(dòng)的第2搬送系統(tǒng)；藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的一方將前述物體從前述物體支承裝置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的另一方將其他物體搬入前述物體支承裝置上。此處，第1角度與第2角度亦可系相異或亦可相同。

根據(jù)上述，物體系在既定二維平面內(nèi)的既定范圍，在其端部保持于移動(dòng)體且被物體支承裝置從下方支承的狀態(tài)下沿既定二維平面移動(dòng)。又，物體系藉由沿第1及第2移動(dòng)面的一方移動(dòng)而從物體支承裝置上搬出，其他物體則藉由沿第1及第2移動(dòng)面的另一方移動(dòng)而搬入物體支承裝置上。亦即，物體對(duì)物體支承裝置的搬入路徑與搬出路徑相異。因此，能迅速地進(jìn)行物體支承裝置上的物體交換。

根據(jù)本發(fā)明的第2態(tài)樣，提供一種第2移動(dòng)體裝置，其具備：移動(dòng)體，可保持物體的端部，與該物體一起至少在與水平面平行的既定二維平面內(nèi)的既定范圍移動(dòng)；物體支承裝置，具有其一面與前述二維平面平行的第1構(gòu)件，從下方支承在前述既定范圍內(nèi)與前述移動(dòng)體一起移動(dòng)的前述物體；第1支承裝置及第2支承裝置，至少一方能在與前述二維平面交叉的方向相對(duì)前述第1構(gòu)件移動(dòng)，分別具有與前述二維平面平行的一面且能支承前述物體；以及搬送系統(tǒng)，包含：使前述物體沿包含前述第1構(gòu)件的前述一面與前述第1支承裝置的前述一面的第1移動(dòng)面移動(dòng)的第1搬送系統(tǒng)、與使前述物體沿包含前述第1構(gòu)件的前述一面與前述第2支承裝置的前述一面的第2移動(dòng)面移動(dòng)的第2搬送系統(tǒng)；藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的一方將前述物體從前述物體支承裝置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的另一方將其他物體搬入前述物體支承裝置上。

根據(jù)上述，物體系在既定二維平面內(nèi)的既定范圍，在其端部保持于移動(dòng)體且被物體支承裝置從下方支承的狀態(tài)下沿既定二維平面移動(dòng)。又，物體系藉由沿第1及第2移動(dòng)面的一方移動(dòng)而從物體支承裝置上搬出，其他物體則藉由沿第1及第2移動(dòng)面的另一方移動(dòng)而搬入物體支承裝置上。亦即，物體對(duì)物體支承裝置的搬入路徑與搬出路徑相異。因此，能迅速地進(jìn)行物體支承裝置上的物體交換。

根據(jù)本發(fā)明的第3態(tài)樣，提供一種第3移動(dòng)體裝置，其具備：移動(dòng)體，可保持物體的端部，與該物體一起至少在與水平面平行的既定二維平面內(nèi)的既定范圍移動(dòng)；物體支承裝置，從下方支承在前述既定范圍內(nèi)與前述移動(dòng)體一起移動(dòng)的前述物體；第1支承裝置，與前述物體支承裝置的至少一部分一起形成第1移動(dòng)面；第2支承裝置，與前述物體支承裝置的至少一部分一起形成第2移動(dòng)面；以及搬送系統(tǒng)，包含：使前述物體沿前述第1移動(dòng)面移動(dòng)的第1搬送系統(tǒng)與使前述物體沿前述第2移動(dòng)面移動(dòng)的第2搬送系統(tǒng)；藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的一方將前述物體從前述物體支承裝置上搬出，且與前述物體的搬出至少一部分并行地藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的另一方將其他物體搬入前述物體支承裝置上；在前述物體的搬出動(dòng)作時(shí)及前述其他物體的搬入動(dòng)作時(shí)的至少一方，前述移動(dòng)體與前述物體支承裝置的至少一部分系相對(duì)移動(dòng)。

根據(jù)上述，物體系在既定二維平面內(nèi)的既定范圍，在其端部保持于移動(dòng)體且被物體支承裝置從下方支承的狀態(tài)下沿既定二維平面移動(dòng)。又，物體系藉由沿第1及第2移動(dòng)面的一方移動(dòng)而從物體支承裝置上搬出，其他物體則藉由沿第1及第2移動(dòng)面的另一方移動(dòng)而搬入物體支承裝置上。亦即，物體對(duì)物體支承裝置的搬入路徑與搬出路徑相異。因此，能迅速地進(jìn)行物體支承裝置上的物體交換。

根據(jù)本發(fā)明的第4態(tài)樣，提供一種第4移動(dòng)體裝置，其具備：移動(dòng)體，可保持物體的端部，與該物體一起至少在與水平面平行的既定二維平面內(nèi)的既定范圍移動(dòng)；物體支承裝置，具有與前述物體下面對(duì)向的一面，使用前述一面從下方支承在前述既定范圍內(nèi)與前述移動(dòng)體一起移動(dòng)的前述物體；第1支承裝置，具有與前述物體支承裝置的前述一面一起形成與前述二維平面平行的第1移動(dòng)面的一面，能從下方支承前述物體；第2支承裝置，具有與前述物體支承裝置的前述一面一起形成與前述二維平面平行的第2移動(dòng)面的一面，能從下方支承前述物體；以及搬送系統(tǒng)，包含：使前述物體沿前述第1移動(dòng)面移動(dòng)的第1搬送系統(tǒng)與使前述物體沿前述第2移動(dòng)面移動(dòng)的第2搬送系統(tǒng)；藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的一方將前述物體從前述物體支承裝置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的另一方將其他物體搬入前述物體支承裝置上。

根據(jù)上述，物體系在既定二維平面內(nèi)的既定范圍，在其端部保持于移動(dòng)體且被物體支承裝置從下方支承的狀態(tài)下沿既定二維平面移動(dòng)。又，物體系藉由沿第1及第2移動(dòng)面的一方移動(dòng)而從物體支承裝置上搬出，其他物體則藉由沿第1及第2移動(dòng)面的另一方移動(dòng)而搬入物體支承裝置上。亦即，物體對(duì)物體支承裝置的搬入路徑與搬出路徑相異。因此，能迅速地進(jìn)行物體支承裝置上的物體交換。

根據(jù)本發(fā)明的第5態(tài)樣，提供一種第1曝光裝置，具備：上述第1至第4移動(dòng)體裝置的任一者，其進(jìn)一步具備調(diào)整裝置，該調(diào)整裝置配置于前述既定范圍內(nèi)，保持前述物體的一部分以調(diào)整該物體一部分在與前述二維平面交叉的方向的位置；以及圖案化裝置，系對(duì)前述物體中保持于前述調(diào)整裝置的部位照射能量束以形成既定圖案。

根據(jù)本發(fā)明的第6態(tài)樣，提供一種第2曝光裝置，系照射能量束以使物體曝光，其具備：移動(dòng)體，可保持前述物體的端部，與該物體一起至少在與水平面平行的既定二維平面內(nèi)的既定范圍移動(dòng)；物體支承裝置，具有可在包含0度的至少兩階段變更其一面相對(duì)前述二維平面的傾斜角度的第1構(gòu)件，從下方支承在前述既定范圍內(nèi)與前述移動(dòng)體一起移動(dòng)的前述物體；第1支承裝置，具有一面，可從下方支承前述物體，該一面與處于相對(duì)前述二維平面成第1角度的第1狀態(tài)的前述第1構(gòu)件的前述一面一起形成相對(duì)前述二維平面成前述第1角度的第1移動(dòng)面；第2支承裝置，具有一面，可從下方支承前述物體，該一面與處于相對(duì)前述二維平面成第2角度的第2狀態(tài)的前述第1構(gòu)件的前述一面一起形成相對(duì)前述二維平面成前述第2角度的第2移動(dòng)面；搬送系統(tǒng)，包含使前述物體沿前述第1移動(dòng)面移動(dòng)的第1搬送系統(tǒng)與使前述物體沿前述第2移動(dòng)面移動(dòng)的第2搬送系統(tǒng)；以及圖案化裝置，對(duì)前述物體照射能量束以形成既定圖案；藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的一方將前述物體從前述物體支承裝置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的另一方將其他物體搬入前述物體支承裝置上。

根據(jù)本發(fā)明的第7態(tài)樣，提供一種第3曝光裝置，系照射能量束以使物體曝光，其具備：移動(dòng)體，可保持物體的端部，與該物體一起至少在與水平面平行的既定二維平面內(nèi)的既定范圍移動(dòng)；物體支承裝置，具有其一面與前述二維平面平行的第1構(gòu)件，從下方支承在前述既定范圍內(nèi)與前述移動(dòng)體一起移動(dòng)的前述物體；第1支承裝置及第2支承裝置，至少一方能在與前述二維平面交叉的方向相對(duì)前述第1構(gòu)件移動(dòng)，分別具有與前述二維平面平行的一面且能支承前述物體；搬送系統(tǒng)，包含：使前述物體沿包含前述第1構(gòu)件的前述一面與前述第1支承裝置的前述一面的第1移動(dòng)面移動(dòng)的第1搬送系統(tǒng)、與使前述物體沿包含前述第1構(gòu)件的前述一面與前述第2支承裝置的前述一面的第2移動(dòng)面移動(dòng)的第2搬送系統(tǒng)；以及圖案化裝置，對(duì)前述物體照射能量束以形成既定圖案；藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的一方將前述物體從前述物體支承裝置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的另一方將其他物體搬入前述物體支承裝置上。

根據(jù)本發(fā)明的第8態(tài)樣，提供一種第4曝光裝置，系照射能量束以使物體曝光，其具備：移動(dòng)體，可保持物體的端部，與該物體一起至少在與水平面平行的既定二維平面內(nèi)的既定范圍移動(dòng)；物體支承裝置，從下方支承在前述既定范圍內(nèi)與前述移動(dòng)體一起移動(dòng)的前述物體；第1支承裝置，與前述物體支承裝置的至少一部分一起形成第1移動(dòng)面；第2支承裝置，與前述物體支承裝置的至少一部分一起形成第2移動(dòng)面；搬送系統(tǒng)，包含：使前述物體沿前述第1移動(dòng)面移動(dòng)的第1搬送系統(tǒng)與使前述物體沿前述第2移動(dòng)面移動(dòng)的第2搬送系統(tǒng)；以及圖案化裝置，對(duì)前述物體照射能量束以形成既定圖案；藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的一方將前述物體從前述物體支承裝置上搬出，且與前述物體的搬出至少一部分并行地藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的另一方將其他物體搬入前述物體支承裝置上；在前述物體的搬出動(dòng)作時(shí)及前述其他物體的搬入動(dòng)作時(shí)的至少一方，前述移動(dòng)體與前述物體支承裝置的至少一部分系相對(duì)移動(dòng)。

根據(jù)本發(fā)明的第9態(tài)樣，提供一種第5曝光裝置，系照射能量束以使物體曝光，其具備：移動(dòng)體，可保持物體的端部，與該物體一起至少在與水平面平行的既定二維平面內(nèi)的既定范圍移動(dòng)；物體支承裝置，具有與前述物體下面對(duì)向的一面，使用前述一面從下方支承在前述既定范圍內(nèi)與前述移動(dòng)體一起移動(dòng)的前述物體；第1支承裝置，具有與前述物體支承裝置的前述一面一起形成與前述二維平面平行的第1移動(dòng)面的一面，能從下方支承前述物體；第2支承裝置，具有與前述物體支承裝置的前述一面一起形成與前述二維平面平行的第2移動(dòng)面的一面，能從下方支承前述物體；搬送系統(tǒng)，包含：使前述物體沿前述第1移動(dòng)面移動(dòng)的第1搬送系統(tǒng)與使前述物體沿前述第2移動(dòng)面移動(dòng)的第2搬送系統(tǒng)；以及圖案化裝置，對(duì)前述物體照射能量束以形成既定圖案；藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的一方將前述物體從前述物體支承裝置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系統(tǒng)的另一方將其他物體搬入前述物體支承裝置上。

根據(jù)本發(fā)明的第10態(tài)樣，提供一種元件制造方法，其包含：使用上述第1至第5曝光裝置的任一者使前述基板曝光的動(dòng)作；以及使曝光后的前述基板顯影的動(dòng)作。此情形下，作為物體在曝光用于平板顯示器的制造的基板時(shí)，系提供平板顯示器的制造方法。

根據(jù)本發(fā)明的第11態(tài)樣，提供一種第1物體交換方法，其包含：使被物體支承裝置從下方支承的物體的端部保持于能沿與水平面平行的既定二維平面移動(dòng)的移動(dòng)體的動(dòng)作；使用前述移動(dòng)體使前述物體位于前述物體支承裝置所具有的第1構(gòu)件上的動(dòng)作；將前述第1構(gòu)件設(shè)定為前述第1構(gòu)件的一面相對(duì)前述二維平面成第1角度的第1狀態(tài)的動(dòng)作；沿包含被設(shè)定為前述第1狀態(tài)的前述第1構(gòu)件的前述一面的相對(duì)前述二維平面成前述第1角度的第1移動(dòng)面將前述物體從前述物體支承裝置上搬出的動(dòng)作；將前述第1構(gòu)件設(shè)定為前述一面相對(duì)前述二維平面成第2角度的第2狀態(tài)的動(dòng)作；以及沿包含被設(shè)定為前述第2狀態(tài)的前述第1構(gòu)件的前述一面的相對(duì)二維平面成前述第2角度的第2移動(dòng)面將其他物體搬入前述物體支承裝置上的動(dòng)作。

根據(jù)本發(fā)明的第12態(tài)樣，提供一種第2物體交換方法，其包含：使被物體支承裝置從下方支承的物體的端部保持于能沿與水平面平行的既定二維平面移動(dòng)的移動(dòng)體的動(dòng)作，該物體支承裝置具有其一面能在與前述二維平面平行且與前述二維平面交叉的方向移動(dòng)的第1構(gòu)件；使用前述移動(dòng)體使前述物體位于在第1位置的前述第1構(gòu)件上的動(dòng)作；沿水平面將前述物體從前述物體支承裝置上搬出的動(dòng)作，該水平面包含位于前述第1位置或相對(duì)該第1位置在前述交叉的方向分離的第2位置的前述第1構(gòu)件的前述一面；以及沿水平面將其他物體搬入前述物體支承裝置上的動(dòng)作，該水平面包含位于相對(duì)前述第1位置在前述交叉的方向分離的第3位置的前述第1構(gòu)件的前述一面。此處，上述第2位置與上述第3位置亦可系相異或亦可相同。

根據(jù)本發(fā)明的第13態(tài)樣，提供一種第3物體交換方法，其包含：使被物體支承裝置從下方支承的物體的端部保持于能沿與水平面平行的既定二維平面移動(dòng)的移動(dòng)體的動(dòng)作，該物體支承裝置具有其一面能在與前述二維平面平行且與前述二維平面交叉的方向移動(dòng)的第1構(gòu)件；使用前述移動(dòng)體使前述物體位于在第1位置的前述第1構(gòu)件上的動(dòng)作；沿水平面將前述物體從前述物體支承裝置上搬出的動(dòng)作，該水平面包含位于相對(duì)前述第1位置在前述交叉的方向分離的第2位置的前述第1構(gòu)件的前述一面；以及沿水平面將其他物體搬入前述物體支承裝置上的動(dòng)作，該水平面包含位于前述第1位置或相對(duì)該第1位置在前述交叉的方向分離的第3位置的前述第1構(gòu)件的前述一面。此處，上述第2位置與上述第3位置亦可系相異或亦可相同。

根據(jù)本發(fā)明的第14態(tài)樣，提供一種第4物體交換方法，其包含：使被物體支承裝置從下方支承的物體的端部保持于能沿與水平面平行的既定二維平面移動(dòng)的移動(dòng)體的動(dòng)作，該物體支承裝置具有與前述物體下面對(duì)向的與前述水平面平行的一面；使用前述移動(dòng)體使前述物體沿前述物體支承裝置的前述一面移動(dòng)的動(dòng)作；使前述物體在沿著前述物體支承裝置的前述一面的第1路徑上移動(dòng)而從前述物體支承裝置上搬出的動(dòng)作；以及使其他物體在與沿著前述物體支承裝置的前述一面的第1路徑相異的第2路徑上移動(dòng)而搬入前述物體支承裝置上的動(dòng)作。

根據(jù)本發(fā)明的第14態(tài)樣，提供一種第5物體交換方法，其包含：使被物體支承裝置從下方支承的物體的端部保持于能沿與水平面平行的既定二維平面移動(dòng)的移動(dòng)體的動(dòng)作，該物體支承裝置具有能與前述物體下面對(duì)向的與前述水平面平行的一面；使用前述移動(dòng)體使前述物體位于前述物體支承裝置的前述一面上的動(dòng)作；使能從下方支承前述物體的第1支承裝置的一面位于包含前述物體支承裝置的前述一面的水平面上的動(dòng)作；沿包含前述物體支承裝置的前述一面及前述第1支承裝置的前述一面的水平面將前述物體從前述物體支承裝置上搬出至前述第1支承裝置上的動(dòng)作；使能從下方支承其他物體的第2支承裝置的一面位于包含前述物體支承裝置的前述一面的水平面上的動(dòng)作；以及沿包含前述第2支承裝置的前述一面及前述物體支承裝置的前述一面將其他物體從前述第2支承裝置上搬入前述物體支承裝置上的動(dòng)作。

附圖說(shuō)明

圖1系概略顯示第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的構(gòu)成的圖。

圖2系圖1的液晶曝光裝置所具有的基板載臺(tái)裝置的俯視圖。

圖3系圖2的基板載臺(tái)裝置所具有的定點(diǎn)載臺(tái)的側(cè)視圖(圖2的a－a線(xiàn)剖面圖)。

圖4(a)系第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板保持框的俯視圖，圖4(b)系顯示用以驅(qū)動(dòng)該基板保持框的驅(qū)動(dòng)單元的側(cè)視圖(圖4(a)的b－b線(xiàn)剖面圖)。

圖5(a)～圖5(c)系用以說(shuō)明第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板保持框的動(dòng)作的圖(其1～其3)。

圖6(a)系第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的側(cè)視圖，圖6(b)系顯示該基板交換裝置所具有的基板進(jìn)給裝置的圖。

圖7系顯示以第1實(shí)施形態(tài)的曝光裝置的控制系統(tǒng)為中心構(gòu)成的主控制裝置的輸出入關(guān)系的方塊圖。

圖8(a)～(c)系顯示第1實(shí)施形態(tài)的曝光裝置的步進(jìn)掃描動(dòng)作時(shí)的基板載臺(tái)裝置的圖(其1～其3)。

圖9(a)～圖9(d)系用以說(shuō)明第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1～其4)。

圖10系與圖9(d)對(duì)應(yīng)的基板載臺(tái)裝置的俯視圖。

圖11(a)～圖11(e)系用以說(shuō)明第2實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1～其5)。

圖12系第3實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板保持框的俯視圖。

圖13(a)～圖13(c)系用以說(shuō)明第3實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1～其3)。

圖14(a)～圖14(c)系用以說(shuō)明第3實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其4～其6)。

圖15(a)及圖15(b)系用以說(shuō)明第4實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1及其2)。

圖16系概略顯示第5實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的構(gòu)成的圖。

圖17系圖16的液晶曝光裝置所具有的基板載臺(tái)裝置的俯視圖。

圖18系第5實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板保持框的俯視圖。

圖19(a)～圖19(c)系用以說(shuō)明第5實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板保持框的動(dòng)作的圖(其1～其3)。

圖20(a)系第5實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的側(cè)視圖，圖20(b)系顯示該基板交換裝置所具有的基板進(jìn)給裝置的圖。

圖21(a)～圖21(d)系用以說(shuō)明第5實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1～其4)。

圖22系與圖21(d)對(duì)應(yīng)的基板載臺(tái)裝置的俯視圖。

圖23(a)～圖23(c)系用以說(shuō)明第6實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1～其3)。

圖24(a)及圖24(b)系用以說(shuō)明第7實(shí)施形態(tài)的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1及其2)。

圖25(a)～圖25(c)系用以說(shuō)明變形例的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1～其3)。

圖26系概略顯示第8實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的構(gòu)成的圖。

圖27系圖26的液晶曝光裝置所具有的基板載臺(tái)裝置的俯視圖。

圖28(a)～圖28(c)系用以說(shuō)明第8實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板保持框的動(dòng)作的圖(其1～其3)。

圖29(a)及圖29(b)系第8實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的側(cè)視圖。

圖30(a)～圖30(d)系用以說(shuō)明第8實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1～其4)。

圖31(a)～圖31(e)系用以說(shuō)明第9實(shí)施形態(tài)的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1～其5)。

圖32(a)系第10實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板保持框的俯視圖，圖32(b)及圖32(c)系用以說(shuō)明第10實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1及其2)。

圖33(a)及圖33(b)系用以說(shuō)明第11實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1及其2)。

圖34系概略顯示第12實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的構(gòu)成的圖。

圖35系圖34的液晶曝光裝置所具有的基板載臺(tái)裝置及基板交換裝置的俯視圖。

圖36系圖35的基板載臺(tái)裝置所具有的定點(diǎn)載臺(tái)的側(cè)視圖(圖35的c－c線(xiàn)剖面圖)。

圖37(a)系第12實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板保持框的俯視圖，圖37(b)系顯示用以驅(qū)動(dòng)該基板保持框的驅(qū)動(dòng)單元的側(cè)視圖(圖37(a)的d－d線(xiàn)剖面圖)。

圖38(a)～圖38(c)系用以說(shuō)明第12實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板保持框的動(dòng)作的圖(其1～其3)。

圖39(a)及圖39(b)系第12實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板搬出裝置的側(cè)視圖。

圖40(a)～圖40(c)系用以說(shuō)明第12實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置及基板載臺(tái)裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1～其3)。

圖41(a)～圖41(d)系用以說(shuō)明第13實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1～其4)。

圖42(a)及圖42(b)系用以說(shuō)明第14實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置及基板載臺(tái)裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1及其2)。

圖43(a)及圖43(b)系用以說(shuō)明第12實(shí)施形態(tài)的變形例的基板交換裝置及基板載臺(tái)裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作的圖(其1及其2)。

具體實(shí)施方式

《第1實(shí)施形態(tài)》

以下，根據(jù)圖1～圖10說(shuō)明本發(fā)明的第1實(shí)施形態(tài)。

圖1系概略顯示第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10的構(gòu)成。液晶曝光裝置10系以用于液晶顯示裝置(平板顯示器)的矩形玻璃基板p(以下單稱(chēng)為基板p)為曝光對(duì)象物的步進(jìn)掃描方式的投影曝光裝置、亦即所謂掃描機(jī)。后述的第2實(shí)施形態(tài)以下的各實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置亦相同。

液晶曝光裝置10如圖1所示，具備照明系統(tǒng)iop、保持掩膜m的掩膜載臺(tái)mst、投影光學(xué)系統(tǒng)pl、支承掩膜載臺(tái)mst及投影光學(xué)系統(tǒng)pl等的機(jī)體bd、保持基板p的基板載臺(tái)裝置pst、基板交換裝置50(圖1中未圖示、參照?qǐng)D2)、以及此等的控制系統(tǒng)等。以下的說(shuō)明中，將在曝光時(shí)掩膜m與基板p相對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)pl分別相對(duì)掃描的方向設(shè)為x軸方向、將在水平面內(nèi)與x軸方向正交的方向設(shè)為y軸方向、將與x軸及y軸正交的方向設(shè)為z軸方向，且將繞x軸、y軸、及z軸的旋轉(zhuǎn)(傾斜)方向分別設(shè)為θx、θy、及θz方向。

照明系統(tǒng)iop，與例如美國(guó)發(fā)明專(zhuān)利第6,552,775號(hào)說(shuō)明書(shū)等所揭示的照明系統(tǒng)為相同構(gòu)成。亦即，照明系統(tǒng)iop系將從未圖示的光源(例如水銀燈)射出的光分別經(jīng)由未圖示的反射鏡、分色鏡、快門(mén)、波長(zhǎng)選擇過(guò)濾器、各種透鏡等，作為曝光用照明光(照明光)il照射于掩膜m。照明光il系使用例如i線(xiàn)(波長(zhǎng)365nm)、g線(xiàn)(波長(zhǎng)436nm)、h線(xiàn)(波長(zhǎng)405nm)等的光(或者上述i線(xiàn)、g線(xiàn)、h線(xiàn)的合成光)。又，照明光il的波長(zhǎng)，可藉由波長(zhǎng)選擇過(guò)濾器，依照例如被要求的解析度適當(dāng)進(jìn)行切換。

于掩膜載臺(tái)mst例如籍由真空吸附固定有掩膜m，該掩膜m系于其圖案面(圖1的下面)形成有電路圖案等。掩膜載臺(tái)mst，透過(guò)例如未圖示空氣軸承以非接觸狀態(tài)搭載于固定于后述機(jī)體bd一部分即鏡筒定盤(pán)33上的一對(duì)掩膜載臺(tái)導(dǎo)件35上。掩膜載臺(tái)mst，能籍由包含例如線(xiàn)性馬達(dá)的掩膜載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)11(圖1中未圖示，參照?qǐng)D7)在一對(duì)掩膜載臺(tái)導(dǎo)件35上以既定行程被驅(qū)動(dòng)于掃描方向(x軸方向)，且分別適當(dāng)被微幅驅(qū)動(dòng)于y軸方向及θz方向。掩膜載臺(tái)mst在xy平面內(nèi)的位置信息(包含θz方向的旋轉(zhuǎn)信息)，系藉由包含雷射干涉儀的掩膜干涉儀系統(tǒng)15(參照?qǐng)D7)予以測(cè)量。

投影光學(xué)系統(tǒng)pl系在掩膜載臺(tái)mst的圖1下方支承于鏡筒定盤(pán)33。投影光學(xué)系統(tǒng)pl具有與例如美國(guó)發(fā)明專(zhuān)利第6,552,775號(hào)說(shuō)明書(shū)所揭示的投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成。亦即，投影光學(xué)系統(tǒng)pl包含掩膜m的圖案像的投影區(qū)域配置成交錯(cuò)格子狀的復(fù)數(shù)個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(多透鏡投影光學(xué)系統(tǒng))，系發(fā)揮與具有以y軸方向?yàn)殚L(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)方形的單一像場(chǎng)的投影光學(xué)系統(tǒng)同等的功能。本實(shí)施形態(tài)中的復(fù)數(shù)個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)均使用例如以?xún)蓚?cè)遠(yuǎn)心的等倍系統(tǒng)形成正立正像者。又，以下將投影光學(xué)系統(tǒng)pl的配置成交錯(cuò)格子狀的復(fù)數(shù)個(gè)投影區(qū)域總稱(chēng)為曝光區(qū)域ia(參照?qǐng)D2)。

因此，在以來(lái)自照明系統(tǒng)iop的照明光il照明掩膜m上的照明區(qū)域后，籍由通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)pl的第1面(物體面)與圖案面大致一致配置的掩膜m的照明光il，使該照明區(qū)域內(nèi)的掩膜m的電路圖案的投影像(部分正立像)經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)pl形成于照明光il的照射區(qū)域(曝光區(qū)域ia)，該區(qū)域ia系與配置于投影光學(xué)系統(tǒng)pl的第2面(像面)側(cè)的表面涂布有光阻(感應(yīng)劑)的基板p上的照明區(qū)域共軛。接著，藉由掩膜載臺(tái)mst與構(gòu)成基板載臺(tái)裝置pst一部分的后述基板保持框56的同步驅(qū)動(dòng)，使掩膜m相對(duì)照明區(qū)域(照明光il)移動(dòng)于掃描方向(x軸方向)，且使基板p相對(duì)曝光區(qū)域ia(照明光il)移動(dòng)于掃描方向(x軸方向)，藉此進(jìn)行基板p上的一個(gè)照射區(qū)域(區(qū)劃區(qū)域)的掃描曝光，以將掩膜m的圖案(掩膜圖案)轉(zhuǎn)印于該照射區(qū)域。亦即，本實(shí)施形態(tài)中，系藉由照明系統(tǒng)iop及投影光學(xué)系統(tǒng)pl將掩膜m的圖案生成于基板p上，藉由照明光il對(duì)基板p上的感應(yīng)層(光阻層)的曝光將該圖案形成于基板p上。

機(jī)體bd包含前述的鏡筒定盤(pán)33、在地面f上從下方分別支承鏡筒定盤(pán)33的+y側(cè)及-y側(cè)端部的一對(duì)支承壁32。一對(duì)支承壁32均透過(guò)包含例如空氣彈簧的防振臺(tái)34設(shè)置于地面f上，機(jī)體bd及投影光學(xué)系統(tǒng)pl相對(duì)地面f在振動(dòng)上分離。又，于一對(duì)支承壁32相互間，如圖2及圖3所示，架設(shè)有延伸于y軸的xz剖面矩形構(gòu)件所構(gòu)成的y柱36。y柱36于后述的定盤(pán)12上方相隔既定間隔配置，y柱36與定盤(pán)12系非接觸且在振動(dòng)上分離。

基板載臺(tái)裝置pst，如圖2所示，具備設(shè)置于地面f上的定盤(pán)12、在定盤(pán)12上的緊鄰曝光區(qū)域ia下方從下方以非接觸方式保持基板p的定點(diǎn)載臺(tái)52、設(shè)置于定盤(pán)12上的復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮裝置54、保持基板p的基板保持框56、以及將基板保持框56以既定行程(沿xy平面)驅(qū)動(dòng)于x軸方向及y軸方向的驅(qū)動(dòng)單元58。

定盤(pán)12系由在俯視下(從+z側(cè)觀看)以x軸方向?yàn)殚L(zhǎng)度方向的矩形板狀構(gòu)件構(gòu)成。

定點(diǎn)載臺(tái)52配置于較定盤(pán)12中央部略靠-x側(cè)。定點(diǎn)載臺(tái)52如圖3所示，具備搭載于y柱3636上的重量抵銷(xiāo)裝置60、配置于重量抵銷(xiāo)裝置60上而支承成能傾斜(能旋轉(zhuǎn)于θx及θy方向(能擺動(dòng)))的空氣夾頭裝置62、以及將空氣夾頭裝置62驅(qū)動(dòng)于z軸、θx、θy的三自由度方向的復(fù)數(shù)個(gè)z音圈馬達(dá)64。

重量抵銷(xiāo)裝置60具有與例如美國(guó)發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)第2010/0018950號(hào)說(shuō)明書(shū)等所揭示的重量抵銷(xiāo)裝置相同的構(gòu)成。亦即，重量抵銷(xiāo)裝置60包含例如未圖示的空氣彈簧，藉由該空氣彈簧產(chǎn)生的重力方向向上的力，抵銷(xiāo)空氣夾頭裝置62的重量(重力方向向下的力)，而減輕復(fù)數(shù)個(gè)z音圈馬達(dá)64的負(fù)荷。

空氣夾頭裝置62系從基板p下面?zhèn)纫苑墙佑|方式吸附保持基板p的與曝光區(qū)域ia(參照?qǐng)D2)對(duì)應(yīng)的部位(被曝光部位)?？諝鈯A頭裝置62的上面(+z側(cè)的面)如圖2所示，系在俯視下呈以y軸方向?yàn)殚L(zhǎng)度方向的長(zhǎng)方形，其面積設(shè)定為較曝光區(qū)域ia面積略廣。

空氣夾頭裝置62系從其上面將加壓氣體(例如空氣)往基板p下面噴出，且吸引其上面與基板p間的氣體。空氣夾頭裝置62藉由往基板p下面噴出的氣體的壓力和與基板p下面之間的負(fù)壓的平衡，于其上面與基板p下面之間形成高剛性的氣體膜，而將基板p隔著大致一定的空隙(間隙/隙縫)以非接觸方式吸附保持。因此，本實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置pst，假使基板p產(chǎn)生扭曲或翹曲，亦能將基板p中位于緊鄰?fù)队肮鈱W(xué)系統(tǒng)pl下方的被曝光位置的形狀確實(shí)地沿空氣夾頭裝置62上面矯正。又，空氣夾頭裝置62由于不拘束基板p在xy平面內(nèi)的位置，因此即使系基板p被空氣夾頭裝置62吸附保持被曝光部位的狀態(tài)，亦能相對(duì)照明光il(參照?qǐng)D1)分別相對(duì)移動(dòng)于x軸方向(掃描方向)及y軸方向(步進(jìn)方向/交叉掃描方向)。此種空氣夾頭裝置(真空預(yù)負(fù)荷空氣軸承)，例如揭示于美國(guó)發(fā)明專(zhuān)利第7,607,647號(hào)說(shuō)明書(shū)等。

復(fù)數(shù)個(gè)z音圈馬達(dá)64的各個(gè)，如圖3所示包含固定于定盤(pán)12上所設(shè)置的底座框架66的z固定子64a與固定于空氣夾頭裝置62的z可動(dòng)子64b。復(fù)數(shù)個(gè)z音圈馬達(dá)64例如配置于至少不位于同一直線(xiàn)上的三處，能將空氣夾頭裝置62以微幅行程驅(qū)動(dòng)于θx、θy及z軸的三自由度方向。底座框架66與y柱36在振動(dòng)上分離，使用復(fù)數(shù)個(gè)z音圈馬達(dá)64驅(qū)動(dòng)空氣夾頭裝置62時(shí)的反作用力不會(huì)傳遞至重量抵銷(xiāo)裝置60。主控制裝置20(參照?qǐng)D7)一邊藉由面位置測(cè)量系統(tǒng)40測(cè)量基板p上面的z位置信息(面位置信息)，一邊使用復(fù)數(shù)個(gè)z音圈馬達(dá)64將空氣夾頭裝置62的位置控制成該基板p上面隨時(shí)位于投影光學(xué)系統(tǒng)pl的焦深內(nèi)。作為面位置測(cè)量系統(tǒng)40，能使用例如美國(guó)發(fā)明專(zhuān)利第5,448,332號(hào)等的多點(diǎn)焦點(diǎn)位置檢測(cè)系統(tǒng)。

返回圖2，復(fù)數(shù)個(gè)(本實(shí)施形態(tài)中，例如為40臺(tái))空氣懸浮裝置54，系從下方以非接觸方式將基板p(惟系除了前述定點(diǎn)載臺(tái)52所保持的基板p的被曝光部位以外的區(qū)域)保持成基板p大致平行于水平面。

本實(shí)施形態(tài)中，由于y軸方向以既定間隔排列的8臺(tái)空氣懸浮裝置54構(gòu)成的空氣懸浮裝置群系以既定間隔于x軸方向配置有5列。以下，為了說(shuō)明方便，將構(gòu)成空氣懸浮裝置群的8臺(tái)空氣懸浮裝置54從-y側(cè)起稱(chēng)為第1～第8臺(tái)。又，為了說(shuō)明方便，將5列空氣懸浮裝置群從-x側(cè)依序稱(chēng)為第1～第5列。此外，第5列的空氣懸浮裝置群，由于如后所述僅用于基板的搬入及搬出，因此不具有與第1臺(tái)及第8臺(tái)相當(dāng)?shù)目諝鈶腋⊙b置54，而系由共計(jì)6臺(tái)的空氣懸浮裝置構(gòu)成。又，構(gòu)成第5列的空氣懸浮裝置群的6臺(tái)空氣懸浮裝置，雖較其他空氣懸浮裝置小型，但由于其功能與其他空氣懸浮裝置54相同，因此為了說(shuō)明方便，使用與其他空氣懸浮裝置相同的符號(hào)54來(lái)說(shuō)明。又，于第2列的空氣懸浮裝置群與第3列的空氣懸浮裝置群之間，系有y柱36通過(guò)，于搭載于該y柱36上的定點(diǎn)載臺(tái)52的+y側(cè)及-y側(cè)分別配置有各1臺(tái)空氣懸浮裝置54。

復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮裝置54均系藉由從其上面噴出加壓氣體(例如空氣)而以非接觸方式支承基板p，以防止基板p在沿xy平面移動(dòng)時(shí)基板p的下面受損。此外，復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮裝置54各自的上面與基板p下面間的距離，設(shè)定為較前述定點(diǎn)載臺(tái)52的空氣夾頭裝置62上面與基板p下面間的距離長(zhǎng)(參照?qǐng)D1)。復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮裝置群中第4列及第5列各自的空氣懸浮裝置群的第3～6臺(tái)空氣懸浮裝置54搭載于由平板狀構(gòu)件構(gòu)成的底座構(gòu)件68(參照?qǐng)D1)上。以下，將底座構(gòu)件68及搭載于底座構(gòu)件68上的共計(jì)8臺(tái)空氣懸浮裝置54總稱(chēng)為第1空氣懸浮單元69來(lái)說(shuō)明。除了構(gòu)成第1空氣懸浮單元69的8臺(tái)空氣懸浮裝置54以外的其他32臺(tái)空氣懸浮裝置54，如圖1及圖3所示，透過(guò)各兩支柱狀支承構(gòu)件72固定于定盤(pán)12上。

第1空氣懸浮單元69，如圖1所示，藉由例如包含線(xiàn)性馬達(dá)(或氣缸)等的復(fù)數(shù)個(gè)z線(xiàn)性致動(dòng)器74在定盤(pán)12上被從下方支承。第1空氣懸浮單元69，藉由復(fù)數(shù)個(gè)z線(xiàn)性致動(dòng)器74被同步驅(qū)動(dòng)(控制)，而能在例如8臺(tái)空氣懸浮裝置54上面平行于水平面的狀態(tài)下移動(dòng)于垂直方向(參照?qǐng)D5(a)～圖5(c))。又，第1空氣懸浮單元69，藉由復(fù)數(shù)個(gè)z線(xiàn)性致動(dòng)器74被適當(dāng)驅(qū)動(dòng)(控制)，而能如圖6(a)所示，將其姿勢(shì)改變?yōu)樵?x側(cè)的z軸方向的位置(以下稱(chēng)為z位置)較-x側(cè)的z位置低的狀態(tài)(上面相對(duì)水平面傾斜于θy方向的狀態(tài))。以下，第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)中，將例如8臺(tái)空氣懸浮裝置54上面平行于水平面的狀態(tài)稱(chēng)為水平狀態(tài)，將例如8臺(tái)空氣懸浮裝置54的上面相對(duì)水平面傾斜于θy方向的狀態(tài)稱(chēng)為傾斜狀態(tài)。

又，第1空氣懸浮單元69如圖6(a)所示具有擋件76(擋件76在除了圖6(a)以外的圖并未圖示)。擋件76藉由一體安裝于底座構(gòu)件68的氣缸等的致動(dòng)器78，被驅(qū)動(dòng)于與例如8臺(tái)空氣懸浮裝置54上面正交的方向。此外，圖6(a)中雖因重迭于紙面深處方向而未圖示，但擋件76(及驅(qū)動(dòng)擋件76的致動(dòng)器78)系于y軸方向以既定間隔設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)。擋件76在第1空氣懸浮單元69為傾斜狀態(tài)時(shí)，系被驅(qū)動(dòng)至從空氣懸浮裝置54上面往上方突出的位置，以防止基板p因自重從第1空氣懸浮單元69上面滑落。相對(duì)于此，在使擋件76位于較空氣懸浮裝置54上面下方的位置的狀態(tài)下，基板p能沿例如8臺(tái)空氣懸浮裝置54上面移動(dòng)。

基板保持框56，如圖4(a)所示，包含由俯視u字形的框狀構(gòu)件構(gòu)成的本體部80與從下方支承基板p的復(fù)數(shù)個(gè)、本實(shí)施形態(tài)中為4個(gè)的支承部82。本體部80具有一對(duì)x框構(gòu)件80x與一個(gè)y框構(gòu)件80y。一對(duì)x框構(gòu)件80x由以x軸方向?yàn)殚L(zhǎng)度方向的平行于xy平面的板狀構(gòu)件構(gòu)成，于y軸方向以既定間隔(較基板p的y軸方向尺寸寬廣之間隔)彼此平行配置。y框構(gòu)件80y由以y軸方向?yàn)殚L(zhǎng)度方向的平行于xy平面的板狀構(gòu)件構(gòu)成，連結(jié)一對(duì)x框構(gòu)件80x的-x側(cè)端部彼此。于-y側(cè)的x框構(gòu)件80x的-y側(cè)側(cè)面安裝有具有正交于y軸的反射面的y移動(dòng)鏡84y，于y框構(gòu)件80y的-x側(cè)側(cè)面安裝有具有正交于x軸的反射面的x移動(dòng)鏡84x。

4個(gè)支承部82中的2個(gè)以于x軸方向分離既定間隔(較基板p的x軸方向尺寸狹窄之間隔)的狀態(tài)安裝于-y側(cè)的x框構(gòu)件80x，其他2個(gè)以于x軸方向分離既定間隔的狀態(tài)安裝于+y側(cè)的x框構(gòu)件80x。各支承部82由yz剖面l字形的構(gòu)件構(gòu)成(參照?qǐng)D5(a))，藉由平行于xy平面的部分從下方支承基板p。各支承部82，于與基板p的對(duì)向面具有未圖示的吸附墊，以例如真空吸附保持基板p。4個(gè)支承部82分別透過(guò)y致動(dòng)器42(參照?qǐng)D7)安裝于+y側(cè)或-y側(cè)x框構(gòu)件80x。4個(gè)支承部82的各個(gè)，如圖5(b)及圖5(c)所示，能相對(duì)安裝有該等的x框構(gòu)件80x移動(dòng)于接近及離開(kāi)的方向。y致動(dòng)器包含例如線(xiàn)性馬達(dá)、氣缸等。

驅(qū)動(dòng)單元58如圖4(a)所示，包含在x軸方向及y軸方向分離配置的4個(gè)y固定子86、與4個(gè)y固定子86分別對(duì)應(yīng)的4個(gè)y可動(dòng)子88(y可動(dòng)子88在圖4(a)中未圖示，參照?qǐng)D4(b))、一對(duì)x固定子90、及與一對(duì)x固定子90分別對(duì)應(yīng)的一對(duì)x可動(dòng)子92等。

如圖2所示，4個(gè)y固定子86中的2個(gè)以于y軸方向分離既定間隔的狀態(tài)配置于第1列空氣懸浮裝置群與第2列空氣懸浮裝置群之間，其他2個(gè)以于y軸方向分離既定間隔的狀態(tài)配置于第3列空氣懸浮裝置群與第4列空氣懸浮裝置群之間。各y固定子86如圖4(b)中取出其中一個(gè)所示，包含由平行于yz平面且延伸于y軸方向的板狀構(gòu)件構(gòu)成的本體部86a與在定盤(pán)12上由下方支承本體部86a的一對(duì)腳部86b。于本體部86a的兩側(cè)面(x軸方向的一側(cè)與另一側(cè)的面)分別固定有包含于y軸方向以既定間隔排列的復(fù)數(shù)個(gè)磁石的磁石單元94(圖4(b)中，固定于-x側(cè)的面的磁石單元94未圖示)。又，由圖4(a)及圖4(b)可知，于本體部86a的兩側(cè)面及上面分別固定有與y軸平行延伸的y線(xiàn)性導(dǎo)引構(gòu)件96。

y可動(dòng)子88由xz剖面倒u字形構(gòu)件構(gòu)成，于一對(duì)對(duì)向面間插入有y固定子86的本體部86a。于y可動(dòng)子88的一對(duì)對(duì)向面間安裝有分別與一對(duì)磁石單元94對(duì)應(yīng)的線(xiàn)圈單元98(-x側(cè)的線(xiàn)圈單元98未圖示)。于y可動(dòng)子88的一對(duì)對(duì)向面及頂面固定有可滑動(dòng)地卡合于y線(xiàn)性導(dǎo)引構(gòu)件96的復(fù)數(shù)個(gè)滑件51(-x側(cè)的滑件51未圖示)。4個(gè)y可動(dòng)子88分別藉由由線(xiàn)圈單元98與對(duì)應(yīng)的y固定子86的磁石單元94構(gòu)成的電磁力(勞倫茲力)驅(qū)動(dòng)方式的y線(xiàn)性馬達(dá)97(參照?qǐng)D7)以既定行程被同步驅(qū)動(dòng)于y軸方向。

一對(duì)x固定子90如圖2所示，分別由以x軸方向?yàn)殚L(zhǎng)度方向的平行于xy平面的板狀構(gòu)件構(gòu)成，于y軸方向以既定間隔(較基板保持框56的y軸方向尺寸寬廣之間隔)平行配置。一對(duì)x固定子90分別具有包含于x軸方向以既定間隔排列的復(fù)數(shù)個(gè)磁石的未圖示磁石單元。如圖4(b)所示，一對(duì)x固定子90中的-y側(cè)的x固定子90系被分別固定于2個(gè)y可動(dòng)子88(分別對(duì)應(yīng)于-y側(cè)的2個(gè)y固定子86)上面的柱狀支承構(gòu)件53從下方支承(圖4(b)中2個(gè)y可動(dòng)子88中的+x側(cè)的y可動(dòng)子88未圖示)。又，雖未圖示，但一對(duì)x固定子90中的+y側(cè)的x固定子90系被分別固定于+y側(cè)的2個(gè)y可動(dòng)子88上面的柱狀支承構(gòu)件53從下方支承。

x可動(dòng)子92如圖4(a)所示，由于底面中央形成有開(kāi)口部92a的剖面矩形框狀的構(gòu)件構(gòu)成，于x軸方向延設(shè)成其上面平行于xy平面。于x可動(dòng)子92的內(nèi)部插入有x固定子90，于開(kāi)口部92a插入有在y可動(dòng)子88上支承x固定子90的支承構(gòu)件53(以非接觸方式卡合)。x可動(dòng)子92具有包含線(xiàn)圈的未圖示的線(xiàn)圈單元。一對(duì)x可動(dòng)子92藉由由線(xiàn)圈單元與對(duì)應(yīng)的x固定子90的磁石單元構(gòu)成的電磁力驅(qū)動(dòng)方式x線(xiàn)性馬達(dá)93(參照?qǐng)D7)被以既定行程于x軸方向同步驅(qū)動(dòng)(參照?qǐng)D4(a))。

如圖4(b)所示，于-y側(cè)的x可動(dòng)子92的+y側(cè)側(cè)面固定有yz剖面u字形的保持構(gòu)件55(于+y側(cè)x可動(dòng)子92的-y側(cè)的面亦固定有相同的保持構(gòu)件)。保持構(gòu)件55于一對(duì)對(duì)向面具有未圖示的空氣軸承。于保持構(gòu)件55的一對(duì)對(duì)向面間，插入有透過(guò)底座構(gòu)件57固定于基板保持框56的x框構(gòu)件80x上面的與xy平面平行的板狀構(gòu)件59?；灞３挚?6系透過(guò)分別固定于該一對(duì)x框構(gòu)件80x的底座構(gòu)件57、板狀構(gòu)件59、固定于x可動(dòng)子92的保持構(gòu)件55、設(shè)于保持構(gòu)件55的空氣軸承而以非接觸方式支承于x可動(dòng)子92。

又，驅(qū)動(dòng)單元58如圖4(a)所示具有兩個(gè)x音圈馬達(dá)18x、及兩個(gè)y音圈馬達(dá)18y。兩個(gè)x音圈馬達(dá)18x的一方及兩個(gè)y音圈馬達(dá)18y的一方配置于基板保持框56的-y側(cè)，兩個(gè)x音圈馬達(dá)18x的另一方及兩個(gè)y音圈馬達(dá)18y的另一方配置于基板保持框56的+y側(cè)。一方及另一方的x音圈馬達(dá)18x配置于彼此在相對(duì)基板保持框56及基板p整體的重心位置cg成點(diǎn)對(duì)稱(chēng)的位置。一方及另一方的y音圈馬達(dá)18y配置于彼此在相對(duì)上述重心位置cg成點(diǎn)對(duì)稱(chēng)的位置。如圖4(b)所示，一方的y音圈馬達(dá)18y包含透過(guò)支承壁構(gòu)件61a固定于x可動(dòng)子92的固定子61(例如包含線(xiàn)圈的線(xiàn)圈單元)與透過(guò)底座構(gòu)件57固定于基板保持框56的可動(dòng)子63(例如包含磁石的磁石單元)。此外，另一方y(tǒng)音圈馬達(dá)18y及兩個(gè)x音圈馬達(dá)18x各自的構(gòu)成由于與如圖4(b)所示的一方的y音圈馬達(dá)18y相同，因此省略說(shuō)明。

主控制裝置20，在透過(guò)驅(qū)動(dòng)單元58的一對(duì)x線(xiàn)性馬達(dá)93將一對(duì)x可動(dòng)子92在一對(duì)x固定子90上以既定行程驅(qū)動(dòng)于x軸方向時(shí)，系使用兩個(gè)x音圈馬達(dá)18x將基板保持框56相對(duì)一對(duì)x可動(dòng)子92同步驅(qū)動(dòng)(與以一對(duì)x可動(dòng)子92相同方向、相同速度驅(qū)動(dòng))。此時(shí)，系藉由主控制裝置20，根據(jù)后述的基板干涉儀系統(tǒng)的測(cè)量值驅(qū)動(dòng)x音圈馬達(dá)18x，基板保持框56系以較x線(xiàn)性馬達(dá)93對(duì)x可動(dòng)子92進(jìn)行的定位更高的精度高速地被定位控制。又，主控制裝置20，在透過(guò)驅(qū)動(dòng)單元58的復(fù)數(shù)個(gè)y線(xiàn)性馬達(dá)97將一對(duì)y可動(dòng)子86在4個(gè)y固定子86上以既定行程驅(qū)動(dòng)于y軸方向時(shí)，系使用兩個(gè)y音圈馬達(dá)18y將基板保持框56相對(duì)一對(duì)x可動(dòng)子92同步驅(qū)動(dòng)(與以一對(duì)y可動(dòng)子88相同方向、相同速度驅(qū)動(dòng))。此時(shí)，系藉由主控制裝置20，根據(jù)后述的基板干涉儀系統(tǒng)的測(cè)量值驅(qū)動(dòng)y音圈馬達(dá)18y，基板保持框56系以較y可動(dòng)子88的y線(xiàn)性馬達(dá)97所進(jìn)行的定位更高的精度高速地被定位控制。又，主控制裝置20系使用驅(qū)動(dòng)單元58的兩個(gè)x音圈馬達(dá)18x及兩個(gè)y音圈馬達(dá)18y將基板保持框56相對(duì)一對(duì)x固定子90繞通過(guò)重心位置cg的與z軸平行的軸線(xiàn)(θz方向)適當(dāng)微幅驅(qū)動(dòng)。

基板保持框56、亦即基板p的xy平面內(nèi)(包含θz方向)的位置信息如圖2所示，系藉由對(duì)x移動(dòng)鏡84x照射測(cè)距光束的x干涉儀65x、以及對(duì)y移動(dòng)鏡84y照射測(cè)距光束的y干涉儀65y的基板干涉儀系統(tǒng)65(參照?qǐng)D7)求出。

基板交換裝置50如圖2所示配置于定盤(pán)12的+x側(cè)?；褰粨Q裝置50如圖6(a)所示，具備基板搬入裝置50a與配置于基板搬入裝置50a下方的基板搬出裝置50b(圖2中因隱藏于基板搬入裝置50a下方而未圖示)。

基板搬入裝置50a具備具有與上述第1空氣懸浮單元69相同的構(gòu)成及功能的第2空氣懸浮單元70。亦即，第2空氣懸浮單元70具有搭載于底座構(gòu)件71上的復(fù)數(shù)(例如8臺(tái))的空氣懸浮裝置99(參照?qǐng)D2)。此外，空氣懸浮裝置99系與空氣懸浮裝置54實(shí)質(zhì)上相同者。第2空氣懸浮單元70所具有的例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99的上面平行于水平面。此外，實(shí)際上，第2空氣懸浮單元70與+x側(cè)的部分相較其-x側(cè)部分的厚度較薄，但其功能與第1空氣懸浮單元69實(shí)質(zhì)上相同。

又，基板搬入裝置50a如圖6(b)所示，具有包含皮帶73a的基板進(jìn)給裝置73(圖6(b)以外的其他圖并未圖示)。用以驅(qū)動(dòng)皮帶73a的一對(duì)滑輪73b透過(guò)未圖示的支承構(gòu)件支承于地面(或第2空氣懸浮單元70的底座構(gòu)件71)。上述皮帶73a及滑輪73b，例如配置于第2空氣懸浮單元70的+y側(cè)及-y側(cè)(或復(fù)數(shù)空氣懸浮裝置99之間)等。于皮帶73a上面固定有墊73c?；灏崛胙b置50a，在于第2空氣懸浮單元70上載置有基板p的狀態(tài)下驅(qū)動(dòng)皮帶73a后，即藉由墊73c按壓基板p，而沿例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99的上面移動(dòng)(將基板p從第2空氣懸浮單元70往第1空氣懸浮單元69上壓出)。

返回圖6(a)，基板搬出裝置50b具備具有與上述第1空氣懸浮單元69相同的構(gòu)成及功能的第3空氣懸浮單元75。亦即，第3空氣懸浮單元75具有搭載于底座構(gòu)件68上的復(fù)數(shù)、例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99。第3空氣懸浮單元75所具有的例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99的上面相對(duì)水平面傾斜成+x側(cè)的z位置較-x側(cè)的z位置低。又，基板搬出裝置50b具有與上述基板搬入裝置50a的基板進(jìn)給裝置73相同構(gòu)成的基板進(jìn)給裝置73?；灏岢鲅b置50b，藉由在墊73c與基板p抵接的狀態(tài)下控制皮帶73a的速度，基板p即因自重，沿例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99上面移動(dòng)(滑降)時(shí)的速度即被控制。

圖7系以液晶曝光裝置10的控制系統(tǒng)為中心構(gòu)成，顯示有顯示統(tǒng)籌控制構(gòu)成各部的主控制裝置20的輸出入關(guān)系的方塊圖。主控制裝置20包含工作站(或微電腦)等，統(tǒng)籌控制液晶曝光裝置10的構(gòu)成各部。

以上述方式構(gòu)成的液晶曝光裝置10(參照?qǐng)D1)，系在主控制裝置20(參照?qǐng)D7)的管理下，藉由未圖示的掩膜裝載器將掩膜m裝載于掩膜載臺(tái)mst，以及藉由基板搬入裝置50a(圖1中未圖示，參照?qǐng)D2)將基板p裝載于基板載臺(tái)裝置pst。其后，藉由主控制裝置20使用未圖示的對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)執(zhí)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量，在對(duì)準(zhǔn)測(cè)量結(jié)束后，即進(jìn)行步進(jìn)掃描方式的曝光動(dòng)作。

此處，根據(jù)圖8(a)～圖8(c)說(shuō)明上述曝光動(dòng)作時(shí)的基板載臺(tái)裝置pst的動(dòng)作一例。此外，圖8(a)～圖8(c)中，為了避免圖式過(guò)于復(fù)雜，系省略了用以驅(qū)動(dòng)基板保持框56的驅(qū)動(dòng)單元58的圖示。

本實(shí)施形態(tài)中，系依照基板p的-y側(cè)區(qū)域、+y側(cè)區(qū)域的順序進(jìn)行曝光。首先，與掩膜m(掩膜載臺(tái)mst)同步地將保持有基板p的基板保持框56相對(duì)曝光區(qū)域ia往-x方向驅(qū)動(dòng)(參照?qǐng)D8(a)的黑色箭頭)，對(duì)基板p的-y側(cè)區(qū)域進(jìn)行掃描動(dòng)作(曝光動(dòng)作)。其次，如圖8(b)所示，藉由基板保持框56被往-y方向驅(qū)動(dòng)(參照?qǐng)D8(b)的白色箭頭)，進(jìn)行步進(jìn)動(dòng)作。其后，如圖8(c)所示，藉由與掩膜m(掩膜載臺(tái)mst)同步地將保持有基板p的基板保持框56往+x方向驅(qū)動(dòng)，基板p相對(duì)曝光區(qū)域ia被往+x方向驅(qū)動(dòng)(參照?qǐng)D8(c)的黑色箭頭)，對(duì)基板p的+y側(cè)區(qū)域進(jìn)行掃描動(dòng)作(曝光動(dòng)作)。

主控制裝置20，在進(jìn)行圖8(a)～圖8(c)所示的步進(jìn)掃描方式的曝光動(dòng)作當(dāng)中，系使用基板干涉儀系統(tǒng)65測(cè)量基板p在xy平面內(nèi)的位置信息，且使用面位置測(cè)量系統(tǒng)40測(cè)量基板p表面的被曝光部位的面位置信息。接著，主控制裝置20藉由根據(jù)其測(cè)量值控制空氣夾頭裝置62的位置(面位置)，定位成基板表面中位于緊鄰?fù)队肮鈱W(xué)系統(tǒng)pl下方的被曝光部位的面位置位于投影光學(xué)系統(tǒng)pl的焦深內(nèi)。藉此，即使例如假設(shè)于基板p表面產(chǎn)生起伏或基板p產(chǎn)生厚度的誤差，亦可確實(shí)地使基板p的被曝光部位的面位置位于投影光學(xué)系統(tǒng)pl的焦深內(nèi)，而能使曝光精度提升。如上述，本實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10，由于系僅控制基板表面中與曝光區(qū)域?qū)?yīng)的位置的面位置，因此例如與在xy二維載臺(tái)裝置上將用以將基板p保持成平面度良好的與基板p具有相同程度面積的臺(tái)構(gòu)件(基板保持具)分別驅(qū)動(dòng)于z軸方向及傾斜方向(z/調(diào)平載臺(tái)亦與基板一起被xy二維驅(qū)動(dòng))的習(xí)知載臺(tái)裝置(參照例如美國(guó)發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)第2010/0018950號(hào)說(shuō)明書(shū))相較，可大幅減低其重量(特別是可動(dòng)部分)。具體而言，例如在使用一邊超過(guò)3m的大型基板時(shí)，相較于習(xí)知的載臺(tái)裝置，可動(dòng)部分的總重量超過(guò)10t，本實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置pst，能使可動(dòng)部分(基板保持框56、x固定子90、x可動(dòng)子92、y可動(dòng)子88等)的總重量為數(shù)100kg程度。因此，用以驅(qū)動(dòng)x可動(dòng)子92的x線(xiàn)性馬達(dá)93、用以驅(qū)動(dòng)y可動(dòng)子88的y線(xiàn)性馬達(dá)97，各自的輸出較小者即可，能減低運(yùn)轉(zhuǎn)成本。又，電源設(shè)備等的基礎(chǔ)整備亦容易。又，由于線(xiàn)性馬達(dá)的輸出較小即可，因此能減低期初成本。

本實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10，在上述步進(jìn)掃描方式的曝光動(dòng)作結(jié)束后，曝光完畢的基板p系從基板保持框56被搬出，其他基板p被搬入基板保持框56，藉此進(jìn)行基板保持框56所保持的基板p的交換。此基板p的交換，系在主控制裝置20的管理下進(jìn)行。以下，根據(jù)圖9(a)～圖9(d)說(shuō)明基板p的交換動(dòng)作一例。圖9(a)～圖9(d)中，基板進(jìn)給裝置73(參照?qǐng)D6(b))等的圖示系省略。又，將從基板保持框56搬出的搬出對(duì)象的基板稱(chēng)為pa，將其次搬入基板保持框56的搬入對(duì)象稱(chēng)為pb來(lái)說(shuō)明。如圖9(a)所示，基板pb載置于基板搬入裝置50a的第2空氣懸浮單元70上。

在曝光處理結(jié)束后，基板pa，藉由驅(qū)動(dòng)基板保持框56而如圖9(a)所示移動(dòng)至第1空氣懸浮單元69上。此時(shí)，如圖5(a)所示，基板保持框56的y軸方向的位置被定位成第1空氣懸浮單元69的空氣懸浮裝置54不位于基板保持框56的支承部82下方(于上下方向不重迭)。其后，解除基板保持框56對(duì)基板pa的吸附，如圖5(b)所示，第1空氣懸浮單元69往+z方向被微幅驅(qū)動(dòng)。藉此，基板pa與支承部82分離，在此狀態(tài)下，如圖5(c)所示支承部82被驅(qū)動(dòng)于從基板pa分離的方向。

其次，主控制裝置20，如圖9(b)所示控制第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)以使第1空氣懸浮單元69成為傾斜狀態(tài)。此時(shí)，主控制裝置20系將復(fù)數(shù)個(gè)z線(xiàn)性致動(dòng)器74(參照?qǐng)D1)控制成第1空氣懸浮單元69上面相對(duì)水平面的傾斜角度與第3空氣懸浮單元75上面相對(duì)水平面的傾斜角度相同，且控制成第1空氣懸浮單元69上面位于與第3空氣懸浮單元75上面相同的平面上。又，主控制裝置20系在第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)變化前使擋件76(參照?qǐng)D6(a))較空氣懸浮裝置99上面往上方突出，以防止基板p沿第1空氣懸浮單元69上面滑落。又，主控制裝置20系使第3空氣懸浮單元75的基板進(jìn)給裝置73(圖9(b)中未圖示，參照?qǐng)D6(b))所具有的墊73c位于基板pa的+x側(cè)端部附近。

又，主控制裝置20系與使上述第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)變化的動(dòng)作并行地，控制基板搬入裝置50a的基板進(jìn)給裝置73(圖9(b)中未圖示，參照?qǐng)D6(b))使搬入對(duì)象的基板pb往-x方向移動(dòng)微少量。

主控制裝置20，如圖9(b)所示在第1空氣懸浮單元69上面相對(duì)水平面的傾斜角度成為與第3空氣懸浮單元75上面相同角度后即停止第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)控制，其后使擋件76(參照?qǐng)D6(a))位于較空氣懸浮裝置99上面下方。藉此，基板pa的+x側(cè)端部(搬出方向前端部)抵接于墊73c(參照?qǐng)D6(b))。

其次，主控制裝置20，如圖9(c)所示使用基板搬出裝置50b的基板進(jìn)給裝置73(參照?qǐng)D6(b))將基板pa從第1空氣懸浮單元69上沿藉由第1及第3空氣懸浮單元69、75的上面形成的傾斜面搬送至第3空氣懸浮單元75上。搬送至第3空氣懸浮單元75上的基板pa，藉由未圖示的基板搬送裝置搬送至例如涂布顯影機(jī)裝置等外部裝置。

又，在搬出對(duì)象的基板pa被移交至第3空氣懸浮單元75后，主控制裝置20如圖9(d)所示控制第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)，使其回歸至其上面成水平的位置(水平狀態(tài))。其后，使用基板搬入裝置50a的基板進(jìn)給裝置73(參照?qǐng)D6(b))將搬入對(duì)象的基板pb從第2空氣懸浮單元70上沿藉由第1及第2空氣懸浮單元69、70的上面形成的水平面搬送至第1空氣懸浮單元69上。藉此，如圖10所示，基板pb插入基板保持框56的一對(duì)x框構(gòu)件80x間。其后，以與圖5(a)～圖5(c)相反的順序(圖5(c)～圖5(a)的順序)使基板pb保持于基板保持框56。本實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10中，藉由反復(fù)進(jìn)行上述圖9(a)～圖9(d)所示的基板的交換動(dòng)作，而對(duì)復(fù)數(shù)個(gè)基板連續(xù)進(jìn)行曝光動(dòng)作等。

如以上所說(shuō)明，根據(jù)本實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10，由于系分別使用不同路徑進(jìn)行基板的搬出及其他基板的搬入，因此能迅速地進(jìn)行保持于基板保持框56的基板的交換。又，由于基板的搬出動(dòng)作與其他基板的搬入動(dòng)作系一部分并行進(jìn)行，因此與在基板的搬出后進(jìn)行基板的搬入的情形相較能更迅速地進(jìn)行基板的交換。

又，由于分別于基板搬入裝置50a及基板搬出裝置50b設(shè)置空氣懸浮裝置99，而在使基板懸浮的狀態(tài)下搬送，因此能迅速且簡(jiǎn)單地使基板移動(dòng)。又，能防止基板的下面受損。

《第2實(shí)施形態(tài)》

其次根據(jù)圖11(a)～圖11(e)說(shuō)明第2實(shí)施形態(tài)。此處，系針對(duì)與前述第1實(shí)施形態(tài)相異的點(diǎn)進(jìn)行說(shuō)明，對(duì)與上述第1實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)件使用相同符號(hào)，簡(jiǎn)略或省略其說(shuō)明。

相較于上述第1實(shí)施形態(tài)中基板搬入裝置50a系藉由基板進(jìn)給裝置73將基板pb搬送至基板保持框56，本第2實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，系將基板保持框56驅(qū)動(dòng)至基板搬入裝置50a上，在第2空氣懸浮單元70上將基板pb移交至基板保持框56。因此，雖未圖示，但用以將基板保持框56驅(qū)動(dòng)于x軸方向的x線(xiàn)性馬達(dá)的固定子，系設(shè)定為較第1實(shí)施形態(tài)于+x側(cè)長(zhǎng)既定距離。

本第2實(shí)施形態(tài)，在基板交換時(shí)，首先與上述第1實(shí)施形態(tài)同樣地解除基板保持框56對(duì)基板pa的吸附及保持(參照?qǐng)D11(a))。接著，使第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)成為傾斜狀態(tài)(參照?qǐng)D11(b))。與此并行地，基板保持框56藉由x線(xiàn)性馬達(dá)93被往+x方向驅(qū)動(dòng)(參照?qǐng)D11(b)及圖11(c))。接著，基板pa沿藉由第1及第3空氣懸浮單元69、75各自的上面形成的傾斜面(移動(dòng)面)被搬送。接著，在基板pa移動(dòng)至第3空氣懸浮單元75上后，第1空氣懸浮單元69從傾斜狀態(tài)移行至水平狀態(tài)。

其次，基板保持框56移動(dòng)至第2空氣懸浮單元70上(參照?qǐng)D11(d))。此處，雖未圖示，但第2空氣懸浮單元70構(gòu)成為能微幅驅(qū)動(dòng)于上下方向，以與圖5(a)～圖5(c)相反的順序使基板pb保持于基板保持框56。接著，保持有基板pb的基板保持框56被往-x側(cè)驅(qū)動(dòng)(參照?qǐng)D11(e))。此時(shí)，被基板保持框56保持的基板pb，其一部分在成為水平狀態(tài)前的第1空氣懸浮單元69上沿包含第2空氣懸浮單元70上面的水平面移動(dòng)，在第1空氣懸浮單元69成為水平狀態(tài)的時(shí)點(diǎn)，沿藉由第1及第2空氣懸浮單元69、70各自的上面形成的水平面(移動(dòng)面)被搬送。其后，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量、步進(jìn)掃描方式的曝光處理。

根據(jù)本第2實(shí)施形態(tài)，由于系在使基板pb在第2空氣懸浮單元70上保持于基板保持框56的狀態(tài)下往第1空氣懸浮單元69上搬送，因此在使傾斜的第1空氣懸浮單元69成為水平前，能使基板pb的一部分在第1空氣懸浮單元69上沿包含第2空氣懸浮單元70上面的水平面移動(dòng)。因此，與第1實(shí)施形態(tài)相較能縮短基板交換的循環(huán)時(shí)間。

又，藉由使用基板保持框56進(jìn)行從第2空氣懸浮單元70上往第1空氣懸浮單元69上的基板pb的搬送，而能較使用基板搬入裝置50a的基板進(jìn)給裝置73(上述第1實(shí)施形態(tài)為皮帶驅(qū)動(dòng)式)的情形更迅速地(上述第1實(shí)施形態(tài)中，由于基板pb系在單純載置于皮帶73a的狀態(tài)、亦即在xy方向不被拘束的狀態(tài)被搬送，因此難以高速搬送)使基板p移動(dòng)。

又，相較于上述第1實(shí)施形態(tài)，不需變更基板保持框56的控制系統(tǒng)及測(cè)量系統(tǒng)僅使x線(xiàn)性馬達(dá)的固定子90延長(zhǎng)于+x方向(亦即抑制成本提升)即能使基板保持框56移動(dòng)至第2空氣懸浮單元70上。

《第3實(shí)施形態(tài)》

其次根據(jù)圖12～圖14(c)說(shuō)明第3實(shí)施形態(tài)。此處，系針對(duì)與前述第1實(shí)施形態(tài)相異的點(diǎn)進(jìn)行說(shuō)明，對(duì)與上述第1實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)件使用相同或類(lèi)似的符號(hào)，簡(jiǎn)略或省略其說(shuō)明。

第3實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置中，如圖12所示，取代前述基板保持框56而具有基板保持框156?；灞３挚?56，系由基板保持框56的一對(duì)x框構(gòu)件80x的+x側(cè)端部彼此被y框構(gòu)件80y連結(jié)而構(gòu)成的俯視矩形框狀的構(gòu)件構(gòu)成。因此，較前述的基板保持框56的剛性高。基板保持框156系在以一對(duì)x框構(gòu)件80x與一對(duì)y框構(gòu)件80y包圍基板p外周的狀態(tài)下藉由4個(gè)支承部82支承基板p。

又，第3實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置中，基板搬入裝置50a的第2空氣懸浮單元70(圖13(a)～圖14(c))能藉由未圖示的復(fù)數(shù)個(gè)z線(xiàn)性致動(dòng)器與第1空氣懸浮單元69同樣地移動(dòng)于z軸方向且傾斜于θy方向。

第3實(shí)施形態(tài)中，在基板交換時(shí)，如圖13(a)所示，最初第1空氣懸浮單元69為水平狀態(tài)，第2空氣懸浮單元70傾斜成其+x側(cè)端部較-x側(cè)端部低。在此狀態(tài)下，第2空氣懸浮單元70的-x側(cè)端部及基板pb的z位置位于較基板保持框156低的位置。

接著，如圖13(b)所示，第1空氣懸浮單元69成為傾斜狀態(tài)，且基板保持框156被往+x方向驅(qū)動(dòng)。其次，如圖13(c)所示，基板pa從第1空氣懸浮單元69上搬送至第3空氣懸浮單元75上。其次，如圖14(a)所示，基板保持框156移動(dòng)至第2空氣懸浮單元70上，且第1空氣懸浮單元69從傾斜狀態(tài)移行至水平狀態(tài)。其次，如圖14(b)所示，第2空氣懸浮單元70從傾斜狀態(tài)移行至水平狀態(tài)后，與上述第2實(shí)施形態(tài)同樣地，于基板保持框156保持基板pb。在第2空氣懸浮單元70成為水平狀態(tài)時(shí)，控制成其上面的z位置與第1空氣懸浮單元69相同。其次，如圖14(c)所示，保持有基板pb的基板保持框156被往-x方向驅(qū)動(dòng)，而從第2空氣懸浮單元70上移動(dòng)至第1空氣懸浮單元69上。其后，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量、步進(jìn)掃描方式的曝光處理。

根據(jù)本第3實(shí)施形態(tài)，在使基板保持框156從第1空氣懸浮單元69上移動(dòng)至第2空氣懸浮單元70上時(shí)，由于系使基板pb及第2空氣懸浮單元70預(yù)先位于較基板保持框156低的位置、亦即從基板保持框156的移動(dòng)路徑脫離的位置，因此能防止基板保持框156的+x側(cè)的y框構(gòu)件80y沖撞或接觸于基板pb及第2空氣懸浮單元70。

此外，第3實(shí)施形態(tài)中，雖第2空氣懸浮單元70最初為傾斜，在基板交換時(shí)成為水平并上升，但亦可從最初即不使的傾斜(保持水平狀態(tài))而單純上升。

《第4實(shí)施形態(tài)》

其次根據(jù)圖15(a)及圖15(b)說(shuō)明第4實(shí)施形態(tài)。此處，系針對(duì)與前述第1實(shí)施形態(tài)相異的點(diǎn)進(jìn)行說(shuō)明，對(duì)與上述第1實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)件使用相同或類(lèi)似的符號(hào)，簡(jiǎn)略或省略其說(shuō)明。

本第4實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置中，如圖15(a)所示，第1空氣懸浮單元69可傾斜于θx方向，于第1空氣懸浮單元69的+y側(cè)配置有第2及第3空氣懸浮單元70、75。第4實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置150中，基板搬入裝置150a于第2空氣懸浮單元70的+y側(cè)具有連續(xù)于第2空氣懸浮單元70的第4空氣懸浮單元100。又，基板搬入裝置150a，具有用以將基板從第4空氣懸浮單元100搬送至第2空氣懸浮單元70的基板進(jìn)給裝置(與上述第1～第3的各實(shí)施形態(tài)的基板進(jìn)給裝置73相同構(gòu)成)，惟其圖示省略。

第4實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作，除了基板即基板保持框156的移動(dòng)方向外與上述第3實(shí)施形態(tài)大致相同。不過(guò)，第4實(shí)施形態(tài)中系使第1空氣懸浮單元69以第1空氣懸浮單元69的+y側(cè)端部較-y側(cè)端部低的方式傾斜于θx方向。因此，在從基板保持框156搬出基板pa時(shí)，不需使4個(gè)支承部82全部退離，只要僅使+y側(cè)的兩個(gè)支承部82往+y方向退離即可。接著，在搬出基板pa時(shí)，系使第1空氣懸浮單元69傾斜于θx方向以使基板pa從-y側(cè)的兩個(gè)支承部82離開(kāi)。

第3及第4空氣懸浮單元75、100，以分別傾斜于θx方向的狀態(tài)個(gè)別搭載于臺(tái)車(chē)102，而能行進(jìn)于x軸方向。臺(tái)車(chē)102藉由固定于架臺(tái)104的延伸于x軸方向的導(dǎo)引構(gòu)件106于x軸方向被直進(jìn)導(dǎo)引。此外，臺(tái)車(chē)102不限于x軸方向，亦可行進(jìn)于例如y軸方向。又，圖15(b)中，搭載于臺(tái)車(chē)102時(shí)的第3及第4空氣懸浮單元75、100雖較基板交換時(shí)更大幅傾斜，但此傾斜角的大小未特別限定，能適當(dāng)變更。

又，第4實(shí)施形態(tài)中，如圖15(a)所示，于第3空氣懸浮單元75的基板搬出方向下游側(cè)的端部固定有按壓基板端部的按壓構(gòu)件108，如圖15(b)所示，藉以防止基板pa從傾斜于θx方向的第3空氣懸浮單元75滑落。同樣地，于第4空氣懸浮單元100的基板搬入方向上游側(cè)的端部固定有按壓構(gòu)件108，如圖15(b)所示，藉以防止基板pb從傾斜于θx方向的第4空氣懸浮單元100滑落。

第4實(shí)施形態(tài)中，如圖15(a)所示，在搬出對(duì)象的基板pa從第1空氣懸浮單元69上搬送至第3空氣懸浮單元75后，如圖15(b)所示，支承基板pa的第3空氣懸浮單元75搭載于于其下方待機(jī)的臺(tái)車(chē)102上。接著，該臺(tái)車(chē)102移動(dòng)至既定的x位置(與第1空氣懸浮單元69相異的x位置)后，基板pa從第3空氣懸浮單元75上被搬出。接著，搭載有第3空氣懸浮單元75的臺(tái)車(chē)102移動(dòng)至第2空氣懸浮單元70下方(與第1空氣懸浮單元69相同的x位置)，預(yù)備次一基板pa的搬出。

另一方面，搬入對(duì)象的基板pb在既定的x位置(與第1空氣懸浮單元69相異的x位置)被搬入搭載于臺(tái)車(chē)102的第4空氣懸浮單元100上。接著，此臺(tái)車(chē)102移動(dòng)至第2空氣懸浮單元70的斜下方(與第1空氣懸浮單元69相同的x位置)。其次，第4空氣懸浮單元100如圖15(a)所示，從臺(tái)車(chē)102上脫離，其位置被調(diào)整成其上面位于與第2空氣懸浮單元70的上面相同平面上后，基板pb從第4空氣懸浮單元100上被搬送至第2空氣懸浮單元70上。其后，基板pb與上述第3實(shí)施形態(tài)同樣地被基板保持框156保持，從第2空氣懸浮單元70被搬送至第1空氣懸浮單元69上。第4空氣懸浮單元100搭載于在其下方待機(jī)的臺(tái)車(chē)102后，移動(dòng)至上述既定的x位置，預(yù)備次一基板pb的搬入。

根據(jù)本第4實(shí)施形態(tài)，由于搬出對(duì)象的基板pa系以支承于第3空氣懸浮單元75的狀態(tài)下依各第3空氣懸浮單元75搭載于臺(tái)車(chē)102，因此能迅速且簡(jiǎn)單地將基板pa搬出至既定位置。又，由于搬入對(duì)象的基板pb系在既定位置搬入搭載于臺(tái)車(chē)102的第4空氣懸浮單元100，因此能迅速地進(jìn)行從第4空氣懸浮單元100上往第2空氣懸浮單元70上的基板pb的搬送準(zhǔn)備。

此外，本第4實(shí)施形態(tài)中，雖第3及第4空氣懸浮單元75、100分別與臺(tái)車(chē)102為另外構(gòu)成，但例如第3及第4空氣懸浮單元75、100的至少一方亦可于臺(tái)車(chē)102支承為可于θx方向旋轉(zhuǎn)。

此外，上述第1～第4的各實(shí)施形態(tài)的構(gòu)成可適當(dāng)變更。例如，基板交換裝置雖在基板搬入時(shí)使基板水平移動(dòng)，在基板搬出時(shí)使基板沿傾斜面移動(dòng)，但亦可相反。此情形下，次一基板pb系準(zhǔn)備于第3空氣懸浮單元75上。接著基板pa從第1空氣懸浮單元69上水平移動(dòng)至第2空氣懸浮單元70上而被搬出(亦可使用如上述第1實(shí)施形態(tài)的基板進(jìn)給裝置73，亦可使用如第2實(shí)施形態(tài)的基板保持框56)，其次基板pb沿藉由第1及第3空氣懸浮單元69、75的上面形成的傾斜面(移動(dòng)面)被搬送(搬入)。

上述第1～第4的各實(shí)施形態(tài)中，雖使第1及第3空氣懸浮單元69、75的各個(gè)傾斜成+x側(cè)(或+y側(cè))的z位置較-x側(cè)(或-y側(cè))的z位置低，但不限于此，亦可將基板搬出裝置配置于基板搬入裝置上方，并使第1及第3空氣懸浮單元69、75的各個(gè)傾斜成-x側(cè)(或-y側(cè))的z位置較+x側(cè)(或+y側(cè))的z位置低。

上述第1～第4的各實(shí)施形態(tài)中，雖第2空氣懸浮單元70與第3空氣懸浮單元75系于上下方向重迭配置，但例如亦可將第2空氣懸浮單元70配置于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)，將第3空氣懸浮單元75配置于第1空氣懸浮單元69的+y側(cè)(或-y側(cè))。此情形下，第1空氣懸浮單元69系旋轉(zhuǎn)于θx方向而將曝光完畢的基板從基板保持框搬出至第3空氣懸浮單元75，從第2空氣懸浮單元70將未曝光的基板搬入基板保持框內(nèi)。又，亦可將第3空氣懸浮單元75配置于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)，將第2空氣懸浮單元75配置于第1空氣懸浮單元69的+y側(cè)(或-y側(cè))。此情形下，第1空氣懸浮單元69系旋轉(zhuǎn)于θy方向而將曝光完畢的基板從基板保持框搬出至第3空氣懸浮單元75，從第2空氣懸浮單元70將未曝光的基板搬入基板保持框內(nèi)。

上述第1～第4的各實(shí)施形態(tài)中，雖在圖5(a)～圖5(c)解除基板保持框?qū)宓谋３謺r(shí)，將第1空氣懸浮單元69往上方驅(qū)動(dòng)，但亦可在基板保持框?qū)⒅С胁?2構(gòu)成為能上下移動(dòng)，藉由使支撐部82上下移動(dòng)而將基板從支承部82移交至第1空氣懸浮單元69。

上述第3及第4的各實(shí)施形態(tài)中，雖使第2空氣懸浮單元70的位置位于從基板保持框156的移動(dòng)路徑脫離的位置，但亦可取代此或另外進(jìn)一步地，例如藉由使基板保持框156的z位置為能調(diào)整，來(lái)防止基板保持框156與基板pb及第2空氣懸浮單元70的沖撞或接觸。

上述第1～第4的各實(shí)施形態(tài)中，雖使第1空氣懸浮單元69上升而在使基板pa從支承部82離開(kāi)的狀態(tài)下使支承部82退離，但只要基板pa與支承部82間的摩擦抵抗低(亦即不致使基板受損的摩擦抵抗)亦可不使第1空氣懸浮單元69上升而在基板pa與支承部82抵接的狀態(tài)下使支承部82退離。

上述第1及第2的各實(shí)施形態(tài)中，雖在使第1空氣懸浮單元69從傾斜狀態(tài)成為水平狀態(tài)后，將第2空氣懸浮單元70上的基板pb搬入第1空氣懸浮單元69上的基板保持框56或?qū)⒃诘?空氣懸浮單元70上保持于基板保持框56的基板pb依各基板保持框56搬送至第1空氣懸浮單元69上，但并不限于此，例如亦可藉由在使第1空氣懸浮單元69成為傾斜狀態(tài)下將支承基板pb的第2空氣懸浮單元70往第1空氣懸浮單元69上搬送，以將基板pb搬入基板保持框56內(nèi)。

《第5實(shí)施形態(tài)》

其次，根據(jù)圖16～圖22說(shuō)明第5實(shí)施形態(tài)。此處，系對(duì)與上述第1實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)件使用相同或類(lèi)似的符號(hào)，簡(jiǎn)略或省略其說(shuō)明。

圖16系概略顯示第5實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置110的構(gòu)成，圖17顯示液晶曝光裝置110所具有的基板載臺(tái)裝置的俯視圖。比較圖16及圖17與圖1及圖2可知，液晶曝光裝置110整體與液晶曝光裝置10相同構(gòu)成。不過(guò)，液晶曝光裝置110中，如圖16及圖17所示，系設(shè)有與前述第3及第4實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具有的基板保持框相同的由俯視矩形框狀構(gòu)件構(gòu)成的基板保持框156，與此對(duì)應(yīng)地，基板交換裝置的構(gòu)成等與前述第1實(shí)施形態(tài)的曝光裝置10一部分相異。以下，以與前述第1實(shí)施形態(tài)相異點(diǎn)為中心進(jìn)行說(shuō)明。

首先，最初說(shuō)明基板保持框156。

如圖18所示，基板保持框156包含由俯視矩形的框狀構(gòu)件構(gòu)成的本體部180與從下方支承基板p的復(fù)數(shù)個(gè)、例如4個(gè)的支承部82。本體部180具有一對(duì)x框構(gòu)件80x與一對(duì)y框構(gòu)件80y。一對(duì)x框構(gòu)件80x分別由以x軸方向方向?yàn)殚L(zhǎng)度方向的平行于xy平面的板狀構(gòu)件構(gòu)成，于y軸方向以既定間隔(較基板p的y軸方向尺寸長(zhǎng)之間隔)彼此平行配置。一對(duì)y框構(gòu)件80y由以y軸方向?yàn)殚L(zhǎng)度方向的平行于xy平面的板狀構(gòu)件構(gòu)成，于x軸方向以既定間隔(較基板p的x軸方向尺寸寬廣之間隔)彼此平行配置。+x側(cè)的y框構(gòu)件80y連結(jié)一對(duì)x框構(gòu)件80x的+x側(cè)端部彼此，-x側(cè)的y框構(gòu)件80y連結(jié)一對(duì)x框構(gòu)件80x的-x側(cè)端部彼此。于-y側(cè)的x框構(gòu)件80x的-y側(cè)側(cè)面安裝有具有正交于y軸的反射面的y移動(dòng)鏡84y，于-x側(cè)的y框構(gòu)件80y的-x側(cè)側(cè)面安裝有具有正交于x軸的反射面的x移動(dòng)鏡84x。

4個(gè)支承部82中的2個(gè)以于x軸方向分離既定間隔(較基板p的x軸方向尺寸狹窄之間隔)的狀態(tài)安裝于-y側(cè)的x框構(gòu)件80x，其他2個(gè)以于x軸方向分離既定間隔的狀態(tài)安裝于+y側(cè)的x框構(gòu)件80x。各支承部82由yz剖面l字形的構(gòu)件構(gòu)成(參照?qǐng)D19(a))，藉由平行于xy平面的部分從下方支承基板p。4個(gè)支承部82的各個(gè)與前述第1實(shí)施形態(tài)同樣地構(gòu)成，如圖19(b)及圖19(c)所示，能透過(guò)y致動(dòng)器42(參照?qǐng)D7)相對(duì)安裝有該等的x框構(gòu)件80x移動(dòng)于接近及離開(kāi)的方向。

如上述構(gòu)成的基板保持框156如圖18所示，以一對(duì)x框構(gòu)件80x與一對(duì)y框構(gòu)件80y包圍基板p外周的狀態(tài)藉由4個(gè)支承部82均等地支承基板p的例如四角(參照?qǐng)D18)。因此，基板保持框156能平衡良好地保持基板p。

本第5實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置110中，第1空氣懸浮單元69系與前述第1實(shí)施形態(tài)相同的構(gòu)成，同樣地，在復(fù)數(shù)個(gè)z線(xiàn)性致動(dòng)器74被同步驅(qū)動(dòng)(控制)，例如8臺(tái)空氣懸浮裝置54的上面平行于水平面的狀態(tài)下移動(dòng)于垂直方向(參照?qǐng)D19(a)～圖19(c))。又，第1空氣懸浮單元69，藉由復(fù)數(shù)個(gè)z線(xiàn)性致動(dòng)器74被適當(dāng)驅(qū)動(dòng)(控制)，而能如圖20(a)所示，將其姿勢(shì)改變?yōu)?x側(cè)的z位置較-x側(cè)的z位置低的狀態(tài)(上面相對(duì)水平面傾斜于θy方向的狀態(tài))。以下，第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)中，將例如8臺(tái)空氣懸浮裝置54上面平行于水平面的狀態(tài)稱(chēng)為水平狀態(tài)，將例如8臺(tái)空氣懸浮裝置54的上面相對(duì)水平面于θy方向傾斜第1角度(例如15°)及較第1角度小的第2角度(例如5°)的狀態(tài)分別稱(chēng)為第1傾斜狀態(tài)及第2傾斜狀態(tài)。

本第5實(shí)施形態(tài)的基板交換裝置50’如圖17所示配置于定盤(pán)12的+x側(cè)?；褰粨Q裝置50’如圖20(a)所示，具備基板搬入裝置50a與配置于基板搬入裝置50a下方的基板搬出裝置50b(圖17中因隱藏于基板搬入裝置50a下方而未圖示)。

基板搬入裝置50a具備具有與第1空氣懸浮單元69相同的構(gòu)成及功能的第2空氣懸浮單元70。亦即，第2空氣懸浮單元70具有搭載于底座構(gòu)件71上的復(fù)數(shù)(例如8臺(tái))的空氣懸浮裝置99(參照?qǐng)D17)。第2空氣懸浮單元70所具有的例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99的上面，系以+x側(cè)的z位置較-x側(cè)的z位置低的方式相對(duì)水平面(xy平面)于θy方向傾斜上述第2角度(例如5°)。又，在圖20(a)所示的狀態(tài)、亦即基板保持框156位于第1空氣懸浮單元69上的狀態(tài)下，第2空氣懸浮單元70位于基板保持框156的+x側(cè)的斜下方的既定位置。此既定位置及上述第1角度，設(shè)定為在載置于第2空氣懸浮單元70的基板p如后述般沿第2空氣懸浮單元70上面搬入基板保持框156內(nèi)時(shí)基板p會(huì)通過(guò)+x側(cè)的y框構(gòu)件80y下方而插入一對(duì)x框構(gòu)件80x間。

又，基板搬入裝置50a如圖20(b)所示，具有與前述第1實(shí)施形態(tài)的基板搬入裝置50a同樣地構(gòu)成的包含皮帶73a的基板進(jìn)給裝置73(圖20(b)以外的其他圖并未圖示)?；灏崛胙b置50a，在于第2空氣懸浮單元70上載置有基板p的狀態(tài)下驅(qū)動(dòng)皮帶73a后，即藉由墊73c按壓基板p，而沿例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99的上面移動(dòng)(將基板p從第2空氣懸浮單元70往第1空氣懸浮單元69上壓出)。

返回圖20(a)，基板搬出裝置50b具備具有與上述第1空氣懸浮單元69相同的構(gòu)成及功能的第3空氣懸浮單元75。亦即，第3空氣懸浮單元75具有搭載于底座構(gòu)件68上的復(fù)數(shù)、例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99。第3空氣懸浮單元75所具有的例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99的上面以+x側(cè)的z位置較-x側(cè)的z位置低的方式相對(duì)水平面于θy方向傾斜上述第1角度(例如15°)。又，基板搬出裝置50b如圖20(b)所示具有與上述基板搬入裝置50a的基板進(jìn)給裝置73相同構(gòu)成的基板進(jìn)給裝置73。基板搬出裝置50b，藉由在墊73c與基板p抵接的狀態(tài)下控制皮帶73a的速度，基板p即因自重，沿例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99上面移動(dòng)(滑降)時(shí)的速度即被控制。

以上述方式構(gòu)成的液晶曝光裝置110(參照?qǐng)D16)，系在主控制裝置20(參照?qǐng)D7)的管理下，藉由未圖示的掩膜裝載器將掩膜m裝載于掩膜載臺(tái)mst，以及藉由基板搬入裝置50a(圖16中未圖示，參照?qǐng)D17)將基板p裝載于基板載臺(tái)裝置pst。其后，藉由主控制裝置20使用未圖示的對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)執(zhí)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量，在對(duì)準(zhǔn)測(cè)量結(jié)束后，即進(jìn)行步進(jìn)掃描方式的曝光動(dòng)作。

上述曝光動(dòng)作時(shí)的基板載臺(tái)裝置pst的動(dòng)作，由于與前述第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10相同，因此省略其說(shuō)明。

本實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置110，在上述步進(jìn)掃描方式的曝光動(dòng)作結(jié)束后，曝光完畢的基板p系從基板保持框156被搬出，其他基板p被搬入基板保持框156，藉此進(jìn)行基板保持框156所保持的基板p的交換。此基板p的交換，系在主控制裝置20的管理下進(jìn)行。以下，根據(jù)圖21(a)～圖21(d)說(shuō)明基板p的交換動(dòng)作一例。圖21(a)～圖21(d)中，基板進(jìn)給裝置73(參照?qǐng)D20(b))等的圖示系省略。又，將從基板保持框156搬出的搬出對(duì)象的基板稱(chēng)為pa，將其次搬入基板保持框156的搬入對(duì)象稱(chēng)為pb來(lái)說(shuō)明。如圖21(a)所示，基板pb載置于基板搬入裝置50a的第2空氣懸浮單元70上。

在曝光處理結(jié)束后，基板pa，藉由驅(qū)動(dòng)基板保持框156而如圖21(a)所示位于第1空氣懸浮單元69上。此時(shí)，如圖19(a)所示，基板保持框156的y軸方向的位置被定位成第1空氣懸浮單元69的空氣懸浮裝置54不位于基板保持框156的支承部82下方(于上下方向不重迭)。其后，解除基板保持框156對(duì)基板pa的吸附，如圖19(b)所示，第1空氣懸浮單元69往+z方向被微幅驅(qū)動(dòng)。藉此，基板pa與支承部82分離，在此狀態(tài)下，如圖19(c)所示支承部82被驅(qū)動(dòng)于從基板pa分離的方向。

其次，主控制裝置20，如圖21(b)所示控制第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)以使第1空氣懸浮單元69成為上述第1傾斜狀態(tài)。此時(shí)，主控制裝置20系將復(fù)數(shù)個(gè)z線(xiàn)性致動(dòng)器74(參照?qǐng)D16)控制成第1空氣懸浮單元69上面位于與第3空氣懸浮單元75上面相同的平面上。又，主控制裝置20系在第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)變化前使擋件76(參照?qǐng)D20(a))較空氣懸浮裝置99上面往上方突出，以防止基板p沿第1空氣懸浮單元69上面滑落。又，主控制裝置20系使第3空氣懸浮單元75的基板進(jìn)給裝置73(圖21(b)中未圖示，參照?qǐng)D20(b))所具有的墊73c位于基板pa的+x側(cè)端部附近。

又，主控制裝置20系與使上述第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)變化的動(dòng)作并行地，控制基板搬入裝置50a的基板進(jìn)給裝置73(圖21(b)中未圖示，參照?qǐng)D20(b))使搬入對(duì)象的基板pb往-x方向移動(dòng)微少量。

主控制裝置20，如圖21(b)所示在第1空氣懸浮單元69上面位于與第3空氣懸浮單元75上面相同的平面上后即停止第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)控制，其后使擋件76(參照?qǐng)D20(a))位于較空氣懸浮裝置99上面下方。藉此，基板pa的+x側(cè)端部(搬出方向前端部)抵接于第3空氣懸浮單元75的墊73c(參照?qǐng)D20(b))。

其次，主控制裝置20，如圖21(c)所示使用基板搬出裝置50b的基板進(jìn)給裝置73(參照?qǐng)D20(b))將基板pa從第1空氣懸浮單元69上沿藉由第1及第3空氣懸浮單元69、75的上面形成的傾斜面(移動(dòng)面)搬送至第3空氣懸浮單元75上。亦即，基板pa從基板保持框156內(nèi)被往其+x側(cè)斜下方搬出。搬送至第3空氣懸浮單元75上的基板pa，藉由未圖示的基板搬送裝置搬送至例如涂布顯影機(jī)裝置等外部裝置。

又，在搬出對(duì)象的基板pa被移交至第3空氣懸浮單元75后，主控制裝置20如圖21(d)所示使第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)從上述第1傾斜狀態(tài)移行至上述第2傾斜狀態(tài)。此時(shí)，主控制裝置20系將復(fù)數(shù)個(gè)z線(xiàn)性致動(dòng)器74(參照?qǐng)D16)控制成第1空氣懸浮單元69的上面位于與第2空氣懸浮單元70的上面相同的平面上。其后，使用基板搬入裝置50a的基板進(jìn)給裝置73(參照?qǐng)D20(b))將搬入對(duì)象的基板pb從第2空氣懸浮單元70上沿藉由第1及第2空氣懸浮單元69、70的上面形成的傾斜面(移動(dòng)面)搬送至第1空氣懸浮單元69上。在此搬送時(shí)，如圖22所示，基板pb通過(guò)+y側(cè)的y框構(gòu)件80y下方插入一對(duì)x框構(gòu)件80x間。亦即，基板pb從基板保持框156的+x側(cè)的斜下方搬入基板保持框156內(nèi)。接著，第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)從上述第2傾斜狀態(tài)移行至上述水平狀態(tài)后，以與圖19(a)～圖19(c)相反的順序(圖19(c)～圖19(a)的順序)使基板pb保持于基板保持框156。本實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10中，藉由反復(fù)進(jìn)行上述圖21(a)～圖21(d)所示的基板的交換動(dòng)作，而對(duì)復(fù)數(shù)個(gè)基板連續(xù)進(jìn)行曝光動(dòng)作等。

如以上所說(shuō)明，根據(jù)本第5實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置110，能得到與前述的第1實(shí)施形態(tài)同等的效果。又，本第5實(shí)施形態(tài)中，雖系使用以包圍基板四方(外周)的狀態(tài)保持該基板的基板保持框156，但由于系將基板pb從基板保持框156的斜下方的上述既定位置以上述第2角度往基板保持框156內(nèi)搬入，因此能使基板pb不接觸于基板保持框156即搬入基板保持框156內(nèi)。又，由于系將基板pa往上述既定位置的下方且以相對(duì)水平面較上述第2角度大的上述第1角度從基板保持框156內(nèi)搬出，因此能使基板pa不接觸于基板保持框156即從基板保持框156內(nèi)搬出。

《第6實(shí)施形態(tài)》

其次，根據(jù)圖23(a)～圖23(c)說(shuō)明第6實(shí)施形態(tài)。此處，系針對(duì)與前述第5實(shí)施形態(tài)相異的點(diǎn)進(jìn)行說(shuō)明，對(duì)與上述第5實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)件使用相同或類(lèi)似的符號(hào)，簡(jiǎn)略或省略其說(shuō)明。

相較于上述第5實(shí)施形態(tài)中，將基板pa從基板保持框156內(nèi)往其+x側(cè)斜下方搬出且將基板pb從基板保持框156的+x側(cè)的斜下方搬入基板保持框156內(nèi)，本第6實(shí)施形態(tài)中，系將基板pa從基板保持框156內(nèi)往其+y側(cè)斜下方搬出且將基板pb從基板保持框156的+y側(cè)的斜下方搬入基板保持框156內(nèi)。

本第6實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，第1空氣懸浮單元69能藉由復(fù)數(shù)個(gè)z線(xiàn)性致動(dòng)器74(參照?qǐng)D16)上下移動(dòng)，且如圖23(a)～圖23(c)所示，姿勢(shì)被變更為上述水平狀態(tài)(參照上述第5實(shí)施形態(tài))、以+y側(cè)較-y側(cè)低的方式相對(duì)水平面往θx方向傾斜既定角度(例如5°)的第3傾斜狀態(tài)、以及以+y側(cè)較-y側(cè)高的方式相對(duì)水平面往θx方向傾斜既定角度(例如5°)的第4傾斜狀態(tài)。又，第2空氣懸浮單元70系于位于第1空氣懸浮單元69上的基板保持框156的+y側(cè)斜上方，以+y側(cè)較-y側(cè)高的方式相對(duì)水平面往θx方向傾斜既定角度(例如5°)的狀態(tài)被配置。又，第3空氣懸浮單元70系于位于第1空氣懸浮單元69上的基板保持框156的+y側(cè)斜下方，以+y側(cè)較-y側(cè)低的方式相對(duì)水平面往θx方向傾斜既定角度(例如5°)的狀態(tài)被配置。

又，于第2空氣懸浮單元70的-y側(cè)端部(基板搬入方向下游側(cè)的端部)設(shè)有與第1空氣懸浮單元69的擋件76相同的擋件，除了基板搬入時(shí)以外，防止基板pb從第2空氣懸浮單元70上滑落，在基板搬入時(shí)，容許從第2空氣懸浮單元70上往第1空氣懸浮單元69上的基板pb的移動(dòng)。

第6實(shí)施形態(tài)中，在基板交換時(shí)，解除在第1空氣懸浮單元69上基板保持框156對(duì)基板pa的吸附保持后，如圖23(a)所示，第1空氣懸浮單元69從上述水平狀態(tài)移行至上述第3傾斜狀態(tài)。此時(shí)，與上述第5實(shí)施形態(tài)同樣地，第1空氣懸浮單元69的上面位于與第3空氣懸浮單元75上面相同的平面上。其后，如圖23(b)所示，基板pa與上述第5實(shí)施形態(tài)同樣地從第1空氣懸浮單元69上被搬送至第3空氣懸浮單元75上。其次，如圖23(c)所示，第1空氣懸浮單元69從上述第3傾斜狀態(tài)移行至上述第4傾斜狀態(tài)。此時(shí)，與上述第5實(shí)施形態(tài)同樣地，第1空氣懸浮單元69的上面位于與第2空氣懸浮單元70上面相同的平面上。其后，搬入對(duì)象的基板pb與上述第5實(shí)施形態(tài)同樣地，從第2空氣懸浮單元70上被搬送至第1空氣懸浮單元69上。其次，第1空氣懸浮單元69從上述第4傾斜狀態(tài)移行至上述水平狀態(tài)后，以與圖19(a)～圖19(c)相反的順序?qū)⒒錺b保持于基板保持框156。接著，保持有基板pb的基板保持框156被往-x側(cè)驅(qū)動(dòng)。其后，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量、步進(jìn)掃描方式的曝光處理。

如以上所說(shuō)明，根據(jù)本第6實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，由于系將基板pa從基板保持框156內(nèi)往斜下方搬出，且將基板pb從斜上方搬入基板保持框156內(nèi)，因此不論在基板pa的搬出及基板pb的搬入的任一者時(shí)，均能利用基板的自重，減低基板搬入裝置50a及基板搬出裝置50b雙方的基板進(jìn)給裝置73的驅(qū)動(dòng)負(fù)荷。

《第7實(shí)施形態(tài)》

其次，根據(jù)圖24(a)及圖25(b)說(shuō)明第7實(shí)施形態(tài)。此處，系針對(duì)與前述第5實(shí)施形態(tài)相異的點(diǎn)進(jìn)行說(shuō)明，對(duì)與上述第5實(shí)施形態(tài)及第4實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)件使用相同或類(lèi)似的符號(hào)，簡(jiǎn)略或省略其說(shuō)明。

本第7實(shí)施形態(tài)相較于上述第5實(shí)施形態(tài)，其差異點(diǎn)在于系將基板pa從基板保持框156內(nèi)往其+y側(cè)的斜下方搬出及將基板pb從基板保持框156的+y側(cè)的斜下方搬入基板保持框156內(nèi)。

本第7實(shí)施形態(tài)中，如圖24(a)所示，第1空氣懸浮單元69能藉由復(fù)數(shù)個(gè)z線(xiàn)性致動(dòng)器74(參照?qǐng)D16)上下移動(dòng)，且能姿勢(shì)變更為上述水平狀態(tài)(參照上述第5實(shí)施形態(tài))、上述第3傾斜狀態(tài)(參照上述第6實(shí)施形態(tài))、以及以+y側(cè)較-y側(cè)低的方式相對(duì)水平面往θx方向傾斜既定角度(例如15°)的狀態(tài)。

又，第7實(shí)施形態(tài)中，第2空氣懸浮單元70系于位于第1空氣懸浮單元69上的基板保持框156的+y側(cè)斜下方，以+y側(cè)較-y側(cè)低的方式相對(duì)水平面往θx方向傾斜既定角度(例如5°)的狀態(tài)被配置。第3空氣懸浮單元70系于第2空氣懸浮單元70下方，以+y側(cè)較-y側(cè)低的方式相對(duì)水平面往θx方向傾斜既定角度(例如15°)的狀態(tài)被配置。

又，第7實(shí)施形態(tài)的基板交換裝置150，由于系與前述第4實(shí)施形態(tài)的基板交換裝置相同的構(gòu)成，因此省略其構(gòu)成的詳細(xì)說(shuō)明。

本第7實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的基板交換時(shí)的動(dòng)作，除了基板搬送方向以外均與上述第5實(shí)施形態(tài)相同。不過(guò)，第7實(shí)施形態(tài)中系使第1空氣懸浮單元69以第1空氣懸浮單元69的+y側(cè)端部較-y側(cè)端部低的方式傾斜于θx方向。因此，在從基板保持框156搬出基板pa時(shí)，不需使4個(gè)支承部82全部退離，只要僅使+y側(cè)的兩個(gè)支承部82往+y方向退離即可。接著，在搬出基板pa時(shí)，系使第1空氣懸浮單元69傾斜于θx方向以使基板pa從-y側(cè)的兩個(gè)支承部82離開(kāi)。

本第7實(shí)施形態(tài)中，在基板交換時(shí)，如圖24(a)所示，與上述第5實(shí)施形態(tài)同樣地，基板pa從第1空氣懸浮單元69上被搬送至第3空氣懸浮單元75上后，如圖24(b)所示，支承基板pa的第3空氣懸浮單元75積載于于其下方待機(jī)的臺(tái)車(chē)102上。接著，該臺(tái)車(chē)102移動(dòng)至既定的x位置(與第1空氣懸浮單元69相異的x位置)后，基板pa從第3空氣懸浮單元75上被搬出。接著，搭載有第3空氣懸浮單元75的臺(tái)車(chē)102移動(dòng)至第2空氣懸浮單元70下方(與第1空氣懸浮單元69相同的x位置)，預(yù)備次一基板pa的搬出。

另一方面，搬入對(duì)象的基板pb在既定的x位置(與第1空氣懸浮單元69相異的x位置)被搬入搭載于臺(tái)車(chē)102的第4空氣懸浮單元100上。接著，此臺(tái)車(chē)102移動(dòng)至第2空氣懸浮單元70的斜下方(與第1空氣懸浮單元69相同的x位置)。其次，第4空氣懸浮單元100如圖24(a)所示，藉由例如未圖示的起重機(jī)裝置等從臺(tái)車(chē)102上脫離，其位置被調(diào)整成其上面位于與第2空氣懸浮單元70的上面相同平面上后，基板pb從第4空氣懸浮單元100上被搬送至第2空氣懸浮單元70上，而沿以第2空氣懸浮單元70的上面與第4空氣懸浮單元100的上面形成的傾斜面被搬送。其后，基板pb與上述第5實(shí)施形態(tài)同樣地從第2空氣懸浮單元70上被搬送至第1空氣懸浮單元69上。第4空氣懸浮單元100積載于在其下方待機(jī)的臺(tái)車(chē)102后，移動(dòng)至上述既定的x位置，預(yù)備次一基板pb的搬入。

如以上所說(shuō)明，根據(jù)本第7實(shí)施形態(tài)，由于搬出對(duì)象的基板pa系以支承于第3空氣懸浮單元75的狀態(tài)下依各第3空氣懸浮單元75積載于臺(tái)車(chē)102，因此能迅速且簡(jiǎn)單地將支承于第3空氣懸浮單元75的基板pa搬出至既定位置。又，由于搬入對(duì)象的基板pb系在既定位置支承于搭載于臺(tái)車(chē)102的第4空氣懸浮單元100，因此能迅速地進(jìn)行從第4空氣懸浮單元100上往第2空氣懸浮單元70上的基板pb的搬送準(zhǔn)備。

此外，本第7實(shí)施形態(tài)中，雖第3及第4空氣懸浮單元75、100分別與臺(tái)車(chē)102為另外構(gòu)成，但例如第3及第4空氣懸浮單元75、100的至少一方亦可于臺(tái)車(chē)102支承為可于θx方向旋轉(zhuǎn)。

此外，上述第5～第7的各實(shí)施形態(tài)的構(gòu)成可適當(dāng)變更。例如，上述第5及第7的各實(shí)施形態(tài)中，基板交換裝置50’或150在基板搬出時(shí)與基板搬入時(shí)系將基板以相異角度搬送，但亦可以相同的角度搬送。具體而言，系將第2空氣懸浮單元70與第3空氣懸浮單元75往θy方向(或θx方向)傾斜配置成各自的上面的+x側(cè)較-x側(cè)低(或+y側(cè)較-y側(cè)低)且互相平行。接著，在基板搬出時(shí)將第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)及位置控制成其上面位于與第3空氣懸浮單元75的上面相同平面，在基板搬入時(shí)將第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)及位置控制成其上面位于與第2空氣懸浮單元70的上面相同平面上。

上述第5及第7的各實(shí)施形態(tài)中，基板交換裝置50’或150系從第1空氣懸浮單元69上往斜下方搬出基板且從斜下方將基板搬入第1空氣懸浮單元69上，但亦可取代此方式，例如從斜上方將基板搬入第1空氣懸浮單元69上且從斜上方將基板搬入第1空氣懸浮單元69上。具體而言，系將第2及第3空氣懸浮單元70、75于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)(或+y側(cè))的斜上方相對(duì)水平面往θy方向(或θx方向)傾斜配置成+x側(cè)較-x側(cè)高(或+y側(cè)較-y側(cè)高)且互相平行。此時(shí)的第2及第3空氣懸浮單元70、75相對(duì)水平面的傾斜角度亦可相異或相同。又，由于從第1空氣懸浮單元69上往第3空氣懸浮單元75上的基板搬送為反重力，因此亦可取代第3空氣懸浮單元75而于第1空氣懸浮單元69設(shè)置例如與基板進(jìn)給裝置73相同的基板進(jìn)給裝置(未圖示)等。接著，在基板搬出時(shí)，系使第1空氣懸浮單元69的上面位于與第3空氣懸浮單元75的上面相同平面上后，使用基板進(jìn)給裝置將基板從第1空氣懸浮單元69上搬出至第3空氣懸浮單元75上。在基板搬入時(shí)，系與上述第6實(shí)施形態(tài)同樣地，將基板pb從第2空氣懸浮單元70上搬送至第1空氣懸浮單元69上。

上述第5及第7的各實(shí)施形態(tài)中，基板交換裝置50’或150雖系從第1空氣懸浮單元69上將基板以相對(duì)水平面為較大的傾斜角度(例如15°)搬出，且將基板以相對(duì)水平面為較小的傾斜角度(例如5°)搬入第1空氣懸浮單元69上，但亦可相反。

上述第6實(shí)施形態(tài)中，基板交換裝置50’雖系在第1空氣懸浮單元69與第2及第3空氣懸浮單元70、75的各個(gè)之間將基板以相對(duì)水平面為相同角度(例如5°)搬送，但亦可以相異的角度搬送。

上述第6實(shí)施形態(tài)中，基板交換裝置50’雖系從第1空氣懸浮單元69上往斜下方搬出基板且從上方將基板搬入第1空氣懸浮單元69上，但亦可相反。具體而言，系從第1空氣懸浮單元69上將基板搬出至第2空氣懸浮單元70上，從第3空氣懸浮單元75上將基板搬入第1空氣懸浮單元69上。此時(shí)，由于將基板以反重力搬送，因此需于第1空氣懸浮單元69設(shè)置與基板進(jìn)給裝置73相同的基板進(jìn)給裝置，且從第1空氣懸浮單元69側(cè)往第2空氣懸浮單元70側(cè)按壓基板。

上述第5～第7的各實(shí)施形態(tài)中，雖在圖19(a)～圖19(c)解除基板的吸附保持時(shí)，系將第1空氣懸浮單元69往上方驅(qū)動(dòng)，但亦可在基板保持框156將支承部82構(gòu)成為能上下移動(dòng)，藉由使支承部82上下移動(dòng)而將基板從支承部82移交至第1空氣懸浮單元69。

上述第5～第7的各實(shí)施形態(tài)中，雖使第1空氣懸浮單元69上升而在使基板pa從支承部82離開(kāi)的狀態(tài)下使支承部82退離，但只要基板pa與支承部82間的摩擦抵抗低(亦即不致使基板受損的摩擦抵抗)亦可不使第1空氣懸浮單元69上升而在基板pa與支承部82抵接的狀態(tài)下使支承部82退離。

上述第5及第7的各實(shí)施形態(tài)中，系使位于其上面較第1空氣懸浮單元69上面略低的位置的第2空氣懸浮單元70下方的第3空氣懸浮單元75的上面，較第2空氣懸浮單元70上面相對(duì)水平面大幅傾斜。因此，僅使第1空氣懸浮單元69旋動(dòng)于繞延伸于y軸方向(或x軸方向)的既定軸線(xiàn)旋動(dòng)，即能使第1空氣懸浮單元69的上面位于與第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的上面相同平面上。因此，在不使第1空氣懸浮單元69上下移動(dòng)亦可的構(gòu)成的情形(例如基板與支承部間的摩擦抵抗較低的情形或采用使支承部82相對(duì)本體部180上下移動(dòng)的構(gòu)成的情形)，亦可采用僅使第1空氣懸浮單元69以延伸于y軸方向(或x軸方向)的既定軸構(gòu)件為支點(diǎn)而旋動(dòng)的構(gòu)成。此情形下，第1空氣懸浮單元69的控制系容易。

上述第6實(shí)施形態(tài)中，第2空氣懸浮單元70系于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)且為包含處于上述水平狀態(tài)的第1空氣懸浮單元69上面的水平面的上方，以其上面的+y側(cè)較-y側(cè)高的方式往θx方向傾斜配置。又，第3空氣懸浮單元75系于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)且為包含處于上述水平狀態(tài)的第1空氣懸浮單元69上面的水平面的下方，以其上面的+y側(cè)較-y側(cè)低的方式往θx方向傾斜配置。因此，只要使第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的上面成為相對(duì)水平面(包含處于上述水平狀態(tài)的第1空氣懸浮單元69上面)為對(duì)稱(chēng)的位置關(guān)系，僅使第1空氣懸浮單元69旋動(dòng)于繞延伸于y軸方向(x軸方向)的既定軸線(xiàn)旋動(dòng)，即能使第1空氣懸浮單元69的上面位于與第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的上面相同平面上。因此，在不使第1空氣懸浮單元69上下移動(dòng)亦可的構(gòu)成的情形(例如基板與支承部間的摩擦抵抗較低的情形或采用使支承部82相對(duì)本體部180上下移動(dòng)的構(gòu)成的情形)，亦可采用僅使第1空氣懸浮單元69以延伸于y軸方向(或x軸方向)的既定軸構(gòu)件為支點(diǎn)而旋動(dòng)的構(gòu)成。此情形下，能縮小在第1空氣懸浮單元69與第2空氣懸浮單元70之間、以及第1空氣懸浮單元69與第3空氣懸浮單元75之間的基板相對(duì)水平面的搬送角度，不論在搬入及搬出基板時(shí)的任一者，均能減小基板因自重移動(dòng)時(shí)的加速度，其速度的控制系容易。

上述第5～第7的各實(shí)施形態(tài)中，雖第2空氣懸浮單元70與第3空氣懸浮單元75系于上下方向重迭配置，但例如亦可將第2空氣懸浮單元70配置于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)，將第3空氣懸浮單元75配置于第1空氣懸浮單元69的+y側(cè)(或-y側(cè))。此情形下，第1空氣懸浮單元69系傾斜于θx方向而將曝光完畢的基板從基板保持框156搬出至第3空氣懸浮單元75，第1空氣懸浮單元69系傾斜于θy方向而從第2空氣懸浮單元70將未曝光的基板搬入基板保持框156內(nèi)。又，亦可將第3空氣懸浮單元75配置于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)，將第2空氣懸浮單元75配置于第1空氣懸浮單元69的+y側(cè)(或-y側(cè))。此情形下，第1空氣懸浮單元69系傾斜于θy方向而將曝光完畢的基板從基板保持框156搬出至第3空氣懸浮單元75，第1空氣懸浮單元69系傾斜于θx方向而從第2空氣懸浮單元70將未曝光的基板搬入基板保持框156內(nèi)。

上述第5～第7的各實(shí)施形態(tài)中，基板保持框156的形狀雖作成沿基板外周配置的俯視矩形框狀，但并不限于此，亦可系例如俯視菱形框狀、俯視橢圓框狀等的沿基板外周配置的形狀。又，基板保持框156亦可系例如俯視u字狀等的沿基板外周一部分配置的形狀。

上述第5～第7的各實(shí)施形態(tài)的基板交換裝置中，雖基板的搬出路徑與搬入路徑系沿相異的平面，但亦可沿相同平面。以下說(shuō)明具體例。如圖25(a)所示，基板交換裝置250中，系將基板搬出裝置50b的第3空氣懸浮單元75于基板保持框156的+y側(cè)斜下方、將基板搬入裝置50a的第2空氣懸浮單元70于基板保持框156的-y側(cè)斜上方，以該等的上面的+y側(cè)較-y側(cè)低且彼此位于相同平面上的方式，相對(duì)水平面傾斜于θx方向來(lái)配置。接著，如圖25(b)所示，在使第1空氣懸浮單元69的上面位于與第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的上面相同的平面上后，如圖13(c)所示，將基板pa沿此平面從第1空氣懸浮單元69上搬送至第3空氣懸浮單元75，且將基板pb沿此平面從第2空氣懸浮單元70上搬入第1空氣懸浮單元69上。是以，能并行(同步)進(jìn)行基板的搬出與搬入，而能極迅速地進(jìn)行第1空氣懸浮單元69上的基板交換。

此外，上述第1～第7的各實(shí)施形態(tài)中，雖設(shè)有在使第1空氣懸浮單元69傾斜時(shí)的基板滑落的擋件76，但并不限于此，例如亦能構(gòu)成為使第1空氣懸浮單元69的空氣懸浮裝置能?chē)姵鰵怏w且吸引氣體，而使基板藉由真空吸附保持于此空氣懸浮裝置。

上述第1～第7的各實(shí)施形態(tài)中，雖設(shè)有用以將基板pa從第1空氣懸浮單元69上搬送至第3空氣懸浮單元75上的基板進(jìn)給裝置73，但亦可取代此，而例如使基板pa藉由其自重從第1空氣懸浮單元69上滑動(dòng)至第3空氣懸浮單元75上。此情形下，最好系于第3空氣懸浮單元75的基板搬出方向下游側(cè)的端部設(shè)置擋件以防止基板從第3空氣懸浮單元75上脫落，且使第3空氣懸浮單元75相對(duì)xy平面的傾斜角度盡可能小以抑制基板與擋件沖撞時(shí)的沖擊變大。

《第8實(shí)施形態(tài)》

其次，根據(jù)圖26～圖30說(shuō)明第8實(shí)施形態(tài)。此處，對(duì)與上述第1實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)件使用相同或類(lèi)似的符號(hào)，簡(jiǎn)略或省略其說(shuō)明。

圖26系概略顯示本第8實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置210的構(gòu)成，圖27顯示液晶曝光裝置210所具有的基板載臺(tái)裝置的俯視圖。

比較圖26及圖27與圖1及圖2可知，本第8實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置210除了基板交換裝置250以外，其余系與前述的第1實(shí)施形態(tài)的曝光裝置10相同的構(gòu)成。

本第8實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置210，第1空氣懸浮單元69系與第1實(shí)施形態(tài)相同的構(gòu)成，同樣地，藉由復(fù)數(shù)個(gè)z線(xiàn)性致動(dòng)器74被同步驅(qū)動(dòng)(控制)，能在例如8臺(tái)空氣懸浮裝置54的上面位于相同水平面的狀態(tài)下移動(dòng)于垂直方向(參照?qǐng)D28(a)～圖28(c))。以下，第1空氣懸浮單元69的姿勢(shì)中，將例如8臺(tái)空氣懸浮裝置54上面(第1空氣懸浮單元69的上面)位于與定盤(pán)12的其他空氣懸浮裝置54的上面相同水平面上時(shí)的第1空氣懸浮單元69的z位置稱(chēng)為第1位置。

本第8實(shí)施形態(tài)的基板交換裝置250，系在與第1空氣懸浮單元69之間進(jìn)行基板的交換的裝置，如圖29(a)所示，具備基板搬入裝置50a與配置于基板搬入裝置50a上方的基板搬出裝置50b。

基板搬入裝置50a于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)具備具有與第1空氣懸浮單元69相同的構(gòu)成及功能的第2空氣懸浮單元70。亦即，第2空氣懸浮單元70具有搭載于底座構(gòu)件68上的復(fù)數(shù)(例如8臺(tái))的空氣懸浮裝置99。第2空氣懸浮單元70所具有的例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99的上面，系以圖29(a)所示的狀態(tài)、亦即第1空氣懸浮單元69位于上述第1位置的狀態(tài)位于與第1空氣懸浮單元69所具有的例如8臺(tái)空氣懸浮裝置54上面(第1空氣懸浮單元69上面)相同水平面上。

又，基板搬入裝置50a如圖29(a)及圖29(b)所示，具有與前述第1實(shí)施形態(tài)的基板搬入裝置50a同樣地構(gòu)成的包含皮帶73a的基板進(jìn)給裝置73(圖29(a)及圖29(b)以外的其他圖并未圖示)。基板搬入裝置50a，在于第2空氣懸浮單元70上載置有基板p的狀態(tài)下驅(qū)動(dòng)皮帶73a后，即藉由墊73c按壓基板p，而沿例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99的上面移動(dòng)(將基板p從第2空氣懸浮單元70往第1空氣懸浮單元69上壓出)。

基板搬出裝置50b于第2空氣懸浮單元70上方(第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)斜上方)具備具有與上述第1空氣懸浮單元69相同的構(gòu)成及功能的第3空氣懸浮單元75。亦即，第3空氣懸浮單元75具有搭載于底座構(gòu)件68上的復(fù)數(shù)、例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99(參照?qǐng)D27)。第3空氣懸浮單元75所具有的例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99的上面位于相同水平面上。第3空氣懸浮單元75其上面的高度設(shè)定為如后述的位于較基板保持框56高的既定位置(后述的第2位置)的第1空氣懸浮單元69上面相同高度(參照?qǐng)D30(b))。又，基板搬出裝置50b，系于位于后述第2位置的第1空氣懸浮單元69(參照?qǐng)D30(b))的+y側(cè)及-y側(cè)(或復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮裝置54之間)等具有與上述基板搬入裝置50a的基板進(jìn)給裝置73相同構(gòu)成的基板進(jìn)給裝置73(參照?qǐng)D29(b))。

以上述方式構(gòu)成的本第8實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置210，與第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10同樣地，系在主控制裝置20(參照?qǐng)D7)的管理下，進(jìn)行藉由未圖示的掩膜裝載器將掩膜m裝載于掩膜載臺(tái)mst、及藉由基板搬入裝置50a將基板p裝載于基板載臺(tái)裝置pst、以及對(duì)準(zhǔn)測(cè)量等的準(zhǔn)備作業(yè)后，即進(jìn)行步進(jìn)掃描方式的曝光動(dòng)作。

本第8實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置210，在上述步進(jìn)掃描方式的曝光動(dòng)作結(jié)束后，曝光完畢的基板p系從基板保持框56被搬出，其他基板p被搬入基板保持框56，藉此進(jìn)行基板保持框56所保持的基板p的交換。此基板p的交換，系在主控制裝置20的管理下進(jìn)行。以下，根據(jù)圖30(a)～圖30(d)說(shuō)明基板p的交換動(dòng)作一例。此外，為了簡(jiǎn)化圖式，圖30(a)～圖30(d)中，基板進(jìn)給裝置73(參照?qǐng)D29(a)及圖29(b))等的圖示系省略。又，將從基板保持框56搬出的搬出對(duì)象的基板稱(chēng)為pa，將其次搬入基板保持框56的搬入對(duì)象稱(chēng)為pb來(lái)說(shuō)明。如圖29(a)所示，基板pb于基板搬入裝置50a的第2空氣懸浮單元70上，以其+x側(cè)端部(基板搬入方向上游側(cè)的端部)抵接于基板搬入裝置50a的基板進(jìn)給裝置73的墊73c的狀態(tài)下被載置。又，在此狀態(tài)下，基板pb被進(jìn)行在第2空氣懸浮單元70上的位置調(diào)整，而在y軸方向位于基板保持框56的一對(duì)x框構(gòu)件80x各自之間。

在曝光處理結(jié)束后，基板pa，藉由于與xy平面平行的方向驅(qū)動(dòng)基板保持框56，而如圖30(a)所示于第1空氣懸浮單元69上移動(dòng)。此時(shí)，如圖28(c)所示，基板保持框56的y軸方向的位置被定位成基板保持框56的支承部82不位于第1空氣懸浮單元69上方(于上下方向不重迭)，且如圖30(a)所示，基板保持框56的x軸方向的位置被定位成基板保持框56的y框構(gòu)件80y不位于第1空氣懸浮單元69上方(于上下方向不重迭)。其后，解除基板保持框156對(duì)基板pa的吸附，第1空氣懸浮單元69往+z方向被驅(qū)動(dòng)。此時(shí)，支承基板pa的第1空氣懸浮單元69系不接觸基板保持框56地通過(guò)基板保持框56內(nèi)(一對(duì)x框構(gòu)件80x間)(參照?qǐng)D28(b))。接著，如圖30(b)所示，在第1空氣懸浮單元69上面成為與第3空氣懸浮單元75上面相同高度時(shí)，第1空氣懸浮單元69即停止。以下，將第1空氣懸浮單元69上面成為與第3空氣懸浮單元75上面相同高度時(shí)的第1空氣懸浮單元69的z位置稱(chēng)為第2位置。

此處，如圖29(a)所示，基板搬出裝置50b的基板進(jìn)給裝置73，在第1空氣懸浮單元69上升前，該墊73c的x位置被調(diào)整成較基板pa的-x側(cè)端部略靠-x側(cè)。主控制裝置20藉由基板搬出裝置50b的基板進(jìn)給裝置73，將基板pa從第1空氣懸浮單元69上沿以第1空氣懸浮單元69上面與第3空氣懸浮單元75上面形成的水平面(移動(dòng)面)搬送至第3空氣懸浮單元75上。主控制裝置20如圖30(c)所示，在基板pa整體位于第3空氣懸浮單元75上的前，系將第1空氣懸浮單元69驅(qū)動(dòng)于-z方向而使的位于上述第1位置，并藉由基板搬入裝置50a的基板進(jìn)給裝置73將基板pb往-x方向送出。藉此，如圖30(d)所示，基板pb從第2空氣懸浮單元70上沿以第1空氣懸浮單元69上面與第2空氣懸浮單元70上面形成的水平面(移動(dòng)面)搬送至第1空氣懸浮單元69上。此處，在此搬送前，如圖28(a)所示，+y側(cè)的兩個(gè)支承部82及-y側(cè)的兩個(gè)支承部82分別往+y方向及-y方向退離(位于上述退離位置)，基板pb在不接觸于支承部82的狀態(tài)下在第1空氣懸浮單元69上被搬入基板保持框56內(nèi)(一對(duì)x框構(gòu)件80x間)。此外，被搬送至第3空氣懸浮單元75上的基板pa，藉由未圖示的基板搬送裝置搬送至例如涂布顯影機(jī)裝置等外部裝置。

其次，主控制裝置20，如圖28(b)所示使支承基板pb的第1空氣懸浮單元69上升微小量后，將+y側(cè)的兩個(gè)支承部82及-y側(cè)的兩個(gè)支承部82分別往-y方向及+y方向驅(qū)動(dòng)而使的位于上述支承位置。接著，主控制裝置20如圖28(c)所示，使支承基板pb的第1空氣懸浮單元69下降，使基板pb支承于第1空氣懸浮單元69且支承于4個(gè)支承部82后，使基板pb真空吸附于4個(gè)支承部82而保持于基板保持框56。其后，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量、步進(jìn)掃描方式的曝光處理。

如上所述，本第8實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置210，藉由反復(fù)進(jìn)行上述圖30(a)～圖30(d)所示的基板交換動(dòng)作，來(lái)對(duì)復(fù)數(shù)個(gè)基板連續(xù)進(jìn)行曝光動(dòng)作等。

如以上所說(shuō)明，根據(jù)本第8實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置210，能得到與前述的第1實(shí)施形態(tài)同等的效果。又，根據(jù)本實(shí)施形態(tài)，系將第2及第3空氣懸浮單元70、75于上下重迭配置，而能僅以使第1空氣懸浮單元69相對(duì)第2及第3空氣懸浮單元70、75上下移動(dòng)的簡(jiǎn)易構(gòu)成，在第1及第2空氣懸浮單元69、70間、以及在第1及第3空氣懸浮單元69、75間進(jìn)行基板的搬送。而且，由于僅要使第1空氣懸浮單元69在上述第1及第2位置的兩位置間上下移動(dòng)即可，因此其控制系簡(jiǎn)單。

又，第2空氣懸浮單元70的上面由于位于與位于上述第1位置的第1空氣懸浮單元69上面相同高度，因此在從第2空氣懸浮單元70上將基板搬送(搬入)至第1空氣懸浮單元69上后，能不使第1空氣懸浮單元69上下移動(dòng)即開(kāi)始曝光處理。亦即，能從基板搬入動(dòng)作迅速地移行至曝光動(dòng)作。

又，在基板交換時(shí)，由于基板保持框56位于相對(duì)第1空氣懸浮單元69于上下不重迭的位置，因此在使第1空氣懸浮單元69上下移動(dòng)時(shí)，不需使基板保持框56退離。

《第9實(shí)施形態(tài)》

其次，根據(jù)圖31(a)～圖31(e)說(shuō)明第9實(shí)施形態(tài)。此處，系針對(duì)與前述第8實(shí)施形態(tài)相異的點(diǎn)進(jìn)行說(shuō)明，對(duì)與上述第8實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)件使用相同或類(lèi)似的符號(hào)，簡(jiǎn)略或省略其說(shuō)明。

相較于上述第8實(shí)施形態(tài)中基板搬入裝置50a藉由基板進(jìn)給裝置73將基板pb搬送至基板保持框56，本第9實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，如圖31(a)～圖31(c)所示，系將基板保持框56驅(qū)動(dòng)至基板搬入裝置50a的第2空氣懸浮單元70上，在第2空氣懸浮單元70上將基板pb移交至基板保持框56。因此，雖未圖示，用以將基板保持框56驅(qū)動(dòng)于x軸方向的x線(xiàn)性馬達(dá)的固定子，較第1實(shí)施形態(tài)設(shè)定為于+x側(cè)長(zhǎng)既定長(zhǎng)度。又，基板搬入裝置50a不具有基板進(jìn)給裝置73。

第9實(shí)施形態(tài)的基板交換裝置250中，基板搬入裝置50a的第2空氣懸浮單元70配置于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)，基板搬出裝置50b的第3空氣懸浮單元75配置于第2空氣懸浮單元70下方(第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)斜下方)。第2空氣懸浮單元70的上面位于與位于上述第1位置的第1空氣懸浮單元69上面相同高度。

第9實(shí)施形態(tài)的基板交換裝置，在基板交換時(shí)，首先與上述第8實(shí)施形態(tài)同樣地，在位于上述第1位置的第1空氣懸浮單元69上解除基板保持框56對(duì)基板pa的保持(參照?qǐng)D31(a))。其次，第1空氣懸浮單元69下降，且基板保持框56藉由x線(xiàn)性馬達(dá)93(參照?qǐng)D7)而被往+x方向驅(qū)動(dòng)(參照?qǐng)D31(b))。此處，在基板保持框56被往+x方向驅(qū)動(dòng)前，如圖28(a)所示，4個(gè)支承部82位于上述退離位置，基板保持框56在不接觸于基板pb的狀態(tài)下將基板pb插入該一對(duì)x框構(gòu)件80x間同時(shí)從第1空氣懸浮單元69上移動(dòng)至第2空氣懸浮單元70上。另一方面，在第1空氣懸浮單元69上面位于與第3空氣懸浮單元75上面相同高度后，基板pa與上述第8實(shí)施形態(tài)同樣地從第1空氣懸浮單元69上被搬送至第3空氣懸浮單元75上(參照?qǐng)D31(c))。

此處，雖未圖示，但第2空氣懸浮單元70構(gòu)成為能微幅驅(qū)動(dòng)于上下方向，基板pb與上述第8實(shí)施形態(tài)同樣地被保持于移動(dòng)至(位于)第2空氣懸浮單元70上的基板保持框56。接著，在基板pa移動(dòng)至第3空氣懸浮單元75后(更詳細(xì)言的，系基板pa從第1空氣懸浮單元69上脫離后)，第1空氣懸浮單元69上升而位于上述第1位置，且保持有基板pb的基板保持框56被往-x側(cè)驅(qū)動(dòng)，基板pb沿藉由第2空氣懸浮單元70上面與第1空氣懸浮單元69上面形成的水平面(移動(dòng)面)從第2空氣懸浮單元70上搬送至第1空氣懸浮單元69上(參照?qǐng)D31(d))。搬送至第1空氣懸浮單元69上的基板pb與上述第1實(shí)施形態(tài)同樣地被基板保持框56保持(參照?qǐng)D31(e))。其后，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量、步進(jìn)掃描方式的曝光處理。此外，被搬送至第3空氣懸浮單元75上的基板pa，藉由未圖示的基板搬送裝置搬送至例如涂布顯影機(jī)裝置等外部裝置。

根據(jù)本第9實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，由于將基板pb在第2空氣懸浮單元70上保持于基板保持框56的狀態(tài)下朝向第1空氣懸浮單元69上搬送，因此與如上述第8實(shí)施形態(tài)使用皮帶驅(qū)動(dòng)式的情形相較能迅速地(上述第8實(shí)施形態(tài)中，由于系在xy方向不受拘束的狀態(tài)下搬送因此難以高速搬送)使基板pb移動(dòng)。因此，能較上述第8實(shí)施形態(tài)縮短基板交換的循環(huán)時(shí)間。

又，相較于上述第8實(shí)施形態(tài)，能不變更基板保持框56的控制系統(tǒng)及測(cè)量系統(tǒng)而僅將x線(xiàn)性馬達(dá)的固定子90于+x方向延長(zhǎng)(亦即抑制成本上升)即能使基板保持框56移動(dòng)至第2空氣懸浮單元70上。又，于基板搬入裝置50a不需設(shè)置基板進(jìn)給裝置73。

《第10實(shí)施形態(tài)》

其次，根據(jù)圖32(a)～圖32(c)說(shuō)明第10實(shí)施形態(tài)。此處，系針對(duì)與前述第8實(shí)施形態(tài)相異的點(diǎn)進(jìn)行說(shuō)明，對(duì)與上述第8實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)件使用相同或類(lèi)似的符號(hào)，簡(jiǎn)略或省略其說(shuō)明。

本第10實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，如圖32(a)所示，具有前述基板保持框156作為基板保持框。基板保持框156剛性較基板保持框56高?；灞３挚?56以其一對(duì)x框構(gòu)件80x與其一對(duì)y框構(gòu)件80y包圍基板p四方(外周)的狀態(tài)藉由4個(gè)支承部82支承基板p。

又，第10實(shí)施形態(tài)，如圖32(b)所示，第2空氣懸浮單元70配置于其上面較基板保持框156高的位置。

第10實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，在基板交換時(shí)，如圖32(b)所示，與上述第8實(shí)施形態(tài)同樣地在第1空氣懸浮單元69上解除基板保持框156對(duì)基板pa的保持后，支承基板pa的第1空氣懸浮單元69上升而位于上述第2位置。接著，基板pa從第1空氣懸浮單元69上被搬送至第3空氣懸浮單元75上后，第1空氣懸浮單元69下降。接著，如圖32(c)所示，在第1空氣懸浮單元69上面成為與第2空氣懸浮單元70上面相同高度時(shí)(將此時(shí)的第1空氣懸浮單元69的z位置稱(chēng)為第3位置)，第1空氣懸浮單元69即停止，而與上述第8實(shí)施形態(tài)同樣地基板pb從第2空氣懸浮單元70上被搬送至第1空氣懸浮單元69上。其次，支承基板pb的第1空氣懸浮單元69下降而位于上述第1位置，基板pb與上述第8實(shí)施形態(tài)同樣地保持于基板保持框156。其后，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量、步進(jìn)掃描方式的曝光處理。此外，被搬送至第3空氣懸浮單元75上的基板pa，藉由未圖示的基板搬送裝置搬送至例如涂布顯影機(jī)裝置等外部裝置。

如以上所說(shuō)明，由于本第10實(shí)施形態(tài)與上述第8及第9的各實(shí)施形態(tài)相異，基板保持框156系以包圍基板四方(外周)的狀態(tài)保持基板，因此無(wú)法藉由使基板保持框156與基板于水平方向相對(duì)移動(dòng)而直接將基板搬入基板保持框156內(nèi)。因此，第10實(shí)施形態(tài)中，如上所述將第1及第2空氣懸浮單元69、70間的基板搬送路徑設(shè)定為從基板保持框156的z位置脫離的位置，而能藉由使第1空氣懸浮單元69相對(duì)基板保持框156上下移動(dòng)，將基板搬入基板保持框156內(nèi)。

《第11實(shí)施形態(tài)》

其次，根據(jù)圖33(a)及圖33(b)說(shuō)明第11實(shí)施形態(tài)。相較于上述第8～第10的各實(shí)施形態(tài)中基板的搬入路徑與搬出路徑的高度相異，第11實(shí)施形態(tài)中，如圖33(a)所示，基板的搬入路徑與搬出路徑的高度設(shè)定為相同高度。

第11實(shí)施形態(tài)的基板交換裝置250中，如圖33(a)所示，基板搬入裝置50a的第2空氣懸浮單元70及基板搬出裝置50b的第3空氣懸浮單元75，分別于基板保持框56的+y側(cè)及-y側(cè)的斜上方配置成各自的上面位于相同水平面上。

本第11實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，在基板交換時(shí)，在位于上述第1位置的第1空氣懸浮單元69上解除基板保持框56對(duì)基板pa的保持后，使支承基板pa的第1空氣懸浮單元69(參照?qǐng)D33(a))上升，使第1空氣懸浮單元69位于第2及第3空氣懸浮單元70、75間而其上面與第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的上面成為相同高度(位于相同水平面上)(參照?qǐng)D33(b))。接著，在基板pa與上述第8實(shí)施形態(tài)同樣地從第1空氣懸浮單元69上往第3空氣懸浮單元75上開(kāi)始搬送的同時(shí)，基板pb與上述第8實(shí)施形態(tài)同樣地從第2空氣懸浮單元70上往第1空氣懸浮單元69上開(kāi)始搬送。此處，基板pa及基板pb的搬送速度設(shè)定為相同，基板pa及基板pb系保持一定間隔(基板pb追隨基板pa)往相同方向(在圖33(a)中為-y方向)搬送。其次，支承基板pb的第1空氣懸浮單元69下降而位于上述第1位置，基板pb與上述第8實(shí)施形態(tài)同樣地保持于基板保持框56。其后，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量、步進(jìn)掃描方式的曝光處理。此外，被搬送至第3空氣懸浮單元75上的基板pa，藉由未圖示的基板搬送裝置搬送至例如涂布顯影機(jī)裝置等外部裝置。

根據(jù)第11實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，由于在基板交換時(shí)第1空氣懸浮單元69位于與第2及第3空氣懸浮單元70、75兩者相鄰的位置，因此能并行地(同步)進(jìn)行從第1空氣懸浮單元69上往第3空氣懸浮單元75的基板搬出及從第2空氣懸浮單元70上往第1空氣懸浮單元69上的基板搬入。因此，能極迅速地進(jìn)行在第1空氣懸浮單元69與基板交換裝置50之間的基板交換。

此外，上述第8～第11的各實(shí)施形態(tài)的構(gòu)成能適當(dāng)變更。例如，上述第8～第10的各實(shí)施形態(tài)中，基板交換裝置50雖系在第1空氣懸浮單元69位于上述第1位置(或上述第3位置)時(shí)搬入基板，在位于上述第2位置時(shí)搬出基板，但亦可相反。此情形下，次一基板pb準(zhǔn)備于第3空氣懸浮單元75上。接著，基板pa從第1空氣懸浮單元69上往第2空氣懸浮單元70上水平移動(dòng)搬出(使用如上述第8及第10實(shí)施形態(tài)的基板進(jìn)給裝置73，或如上述第9實(shí)施形態(tài)使用基板保持框56)，其次基板pb沿藉由第1及第3空氣懸浮單元69、75各自的上面形成的水平面(移動(dòng)面)被搬送(搬入)。此外，上述第8及第9的各實(shí)施形態(tài)中，在基板pa與支承部82之間的摩擦抵抗較高時(shí)，亦可例如以圖28(c)～圖28(a)的順序使支承部82退離后，將基板pa從第1空氣懸浮單元69上往第2空氣懸浮單元70上搬送。藉此，防止基板pa受損。

上述第8及第10的各實(shí)施形態(tài)中，雖第3空氣懸浮單元75配置于第2空氣懸浮單元70上方，但亦可配置于下方。此情形下，上述第8實(shí)施形態(tài)中，由于無(wú)須使第1空氣懸浮單元69的上面位于較基板保持框高的位置，因此基板保持框與第1空氣懸浮單元69上下重迭亦無(wú)妨。因此，提升基板保持框的設(shè)計(jì)及基板保持框?qū)Φ?空氣懸浮單元69的配置的自由度。不過(guò)，此情形下，在使支承基板的第1空氣懸浮單元69相對(duì)基板保持框56上下移動(dòng)時(shí)，需先使支承部82退離。

上述第9實(shí)施形態(tài)中，第3空氣懸浮單元75雖配置于第2空氣懸浮單元70下方，但亦可配置于上方。此情形下，例如首先在上述第1位置使支承基板pa的第1空氣懸浮單元69上升而位于上述第2位置，且將基板保持框56往+x方向驅(qū)動(dòng)而位于第2空氣懸浮單元70上。此情形下，第1空氣懸浮單元69的上下移動(dòng)機(jī)構(gòu)部，亦可構(gòu)成為與基板保持框56不干涉地從上垂吊。其次，基板pa從第1空氣懸浮單元69上被搬出至第3空氣懸浮單元75上，而在第2空氣懸浮單元70上基板pb保持于基板保持框56。其后，第1空氣懸浮單元69下降而位于上述第1位置，且保持基板pb的基板保持框56被往-x方向驅(qū)動(dòng)而基板pb從第2空氣懸浮單元70上搬入至第1空氣懸浮單元69上。

上述第10實(shí)施形態(tài)中，第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的上面雖位于較基板保持框156高的位置，但亦可位于較第1空氣懸浮單元69低的位置(更詳言的，當(dāng)于第2及第3空氣懸浮單元70、75的上面載置有基板時(shí)，該基板的z位置較基板保持框156低的位置)。此情形下，由于無(wú)需使第1空氣懸浮單元69的上面位于較基板保持框高的位置，因此基板保持框與第1空氣懸浮單元69上下重迭亦無(wú)妨。因此，提升基板保持框的設(shè)計(jì)及基板保持框?qū)Φ?空氣懸浮單元69的配置的自由度。不過(guò)，在使支承基板的第1空氣懸浮單元69相對(duì)基板保持框56上下移動(dòng)時(shí)，需先使支承部82退離。

雖上述第8～第10的各實(shí)施形態(tài)中，第2空氣懸浮單元70與第3空氣懸浮單元75系于上下方向重迭配置(基板pa及基板pb被往在z軸方向分離的彼此平行的一對(duì)水平軸方向各一側(cè)及另一側(cè)搬送)，但例如亦可第2空氣懸浮單元70于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)且第3空氣懸浮單元75于第1空氣懸浮單元69的+y側(cè)(或-y側(cè))配置成第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的上面的高度相異。此情形下，搬入對(duì)象的基板pb被往-x方向搬送，搬出對(duì)象的基板pa在與基板pa相異的z位置被往+y方向(或-y方向)搬送。亦即，基板pa及基板pb被往在俯視下彼此正交的方向搬送。又，亦可第3空氣懸浮單元75于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)且第2空氣懸浮單元70于第1空氣懸浮單元69的+y側(cè)(或-y側(cè))配置成第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的上面的高度相異。此情形下，基板pb被往-y方向(或+y方向)搬送，基板pa被往+x方向搬送。亦即，基板pa及基板pb被往在俯視下彼此正交的方向搬送。此外，上述情形下，在將基板搬送于y軸方向時(shí)，需將第2或第3空氣懸浮單元70、75的z位置設(shè)定成能在從基板保持框(x框構(gòu)件80x)的z位置脫離的高度搬送基板。

上述第11實(shí)施形態(tài)中，雖基板的搬入及搬出方向?yàn)?y方向，但例如亦可系+y方向、+x方向或-x方向。當(dāng)將基板的搬入及搬出方向設(shè)為+x方向或-x方向時(shí)，例如使第2及第3空氣懸浮單元70、75的一方位于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)斜上方，使另一方位于第1空氣懸浮單元69的-x側(cè)斜上方，且將基板保持框56的y框構(gòu)件80y固定于例如一對(duì)x框構(gòu)件80x各自的上面等，而能將基板從對(duì)基板保持框56的x軸方向兩側(cè)搬入及搬出。

上述第11實(shí)施形態(tài)中，雖第2及第3空氣懸浮單元70、75均配置于位于上述第1位置的第1空氣懸浮單元69斜上方，但亦可配置于例如位于上述第1位置的第1空氣懸浮單元69斜下方。此情形下，由于無(wú)需使第1空氣懸浮單元69的上面位于基板保持框56上方，因此提升基板保持框的設(shè)計(jì)及對(duì)第1空氣懸浮單元69的配置的自由度。

上述第11實(shí)施形態(tài)中，雖第2及第3空氣懸浮單元70、75配置于第1空氣懸浮單元69的+y側(cè)及-y側(cè)、亦即于y軸方向分離配置(基板pa及基板pb往相同方向(例如-y方向)移動(dòng))，但例如亦可第2空氣懸浮單元70于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)且第3空氣懸浮單元75于第1空氣懸浮單元69的+y側(cè)(或-y側(cè))配置成第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的上面的高度相同。此情形下，基板pa被往+y方向(或-y方向)搬送，基板pb在與基板pa相同的z位置被往-x方向搬送。亦即，基板pa及基板pb被往在俯視下彼此正交的方向搬送。又，亦可第3空氣懸浮單元75于第1空氣懸浮單元69的+x側(cè)且第2空氣懸浮單元70于第1空氣懸浮單元69的+y側(cè)(或-y側(cè))配置成第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的上面的高度相同。此情形下，基板pa被往+x方向搬送，基板pb在與基板pa相同的z位置被往-y方向或+y方向搬送。亦即，基板pa及基板pb被往彼此正交的方向搬送。

上述第8～第11的各實(shí)施形態(tài)中，雖在藉由基板保持框保持基板時(shí)，系使第1空氣懸浮單元69上下移動(dòng)(參照?qǐng)D28(a)～圖28(c))或使第2空氣懸浮單元70上下移動(dòng)，但亦可在基板保持框?qū)⒅С胁?2構(gòu)成為能上下移動(dòng)，且藉由使支承部82上下移動(dòng)而使基板保持于基板保持框。

上述第8～第11的各實(shí)施形態(tài)中，雖在藉由基板保持框保持基板時(shí)，系使第1空氣懸浮單元69上下移動(dòng)或使第2空氣懸浮單元70上下移動(dòng)，但亦可取代此方式，例如使第1空氣懸浮單元69或第2空氣懸浮單元70的基板的懸浮量增減。

上述第10實(shí)施形態(tài)中，雖系將第2空氣懸浮單元70配置成支承于其上面的基板pb的z位置為從基板保持框156的z位置脫離的高度，但亦可取代此方式，例如使基板保持框156為可上下移動(dòng)，且與上述第8及第9的各實(shí)施形態(tài)同樣地使第2空氣懸浮單元70上面位于與位于上述第1位置的第1空氣懸浮單元69上面相同高度。藉此，使基板保持框156位于從第2空氣懸浮單元70上的基板pb的z位置脫離的高度，而能使基板pb從第2空氣懸浮單元70上往位于上述第1位置的第1空氣懸浮單元69上移動(dòng)。

上述第8實(shí)施形態(tài)中，第3空氣懸浮單元75上面雖位于與位于較基板保持框56高的位置的第1空氣懸浮單元69上面相同的高度，但亦可取代此方式，使第3空氣懸浮單元75上面位于與于基板保持框56內(nèi)(一對(duì)x框構(gòu)件80x間)處于插通狀態(tài)的第1空氣懸浮單元69上面相同高度。此情形下，系在第1空氣懸浮單元69插通于基板保持框56的狀態(tài)下第1空氣懸浮單元69上面位于與第3空氣懸浮單元75上面相同高度后，基板從第1空氣懸浮單元69上被搬送至第3空氣懸浮單元75上。因此，由于能縮短第1空氣懸浮單元69的z軸方向的移動(dòng)行程，因此能在第1空氣懸浮單元69與基板交換裝置250之間迅速地交換基板。

上述第11實(shí)施形態(tài)中，第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的上面雖位于與位于較基板保持框56高的位置的第1空氣懸浮單元69上面相同的高度，但亦可取代此方式，使第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的上面位于與于基板保持框56處于插通狀態(tài)的第1空氣懸浮單元69上面相同高度。藉此，由于能縮短第1空氣懸浮單元69的z軸方向的移動(dòng)行程，因此能在第1空氣懸浮單元69與基板交換裝置250之間迅速地交換基板。

上述第9實(shí)施形態(tài)中，雖基板pb在被基板保持框56保持的狀態(tài)下搬入至第1空氣懸浮單元69上，但亦可取代此方式，將基板pa在被基板保持框56保持的狀態(tài)下從第1空氣懸浮單元69上搬出。此情形下，例如于第3空氣懸浮單元75上準(zhǔn)備基板pb，在位于上述第1位置的第1空氣懸浮單元69上保持基板pa的基板保持框56被搬送至第2空氣懸浮單元70上后，第1空氣懸浮單元69即下降而位于上述第2位置。其次，在第2空氣懸浮單元70上解除基板pa的保持，且基板pb從第3空氣懸浮單元75上搬入第1空氣懸浮單元69上。接著，在基板保持框56被搬送至第1空氣懸浮單元69上后，支承基板pb的第1空氣懸浮單元69即上升而位于上述第1位置而基板pb位于基板保持框56內(nèi)。

上述第8及第9的各實(shí)施形態(tài)中，雖藉由僅使基板pb往基板保持框水平移動(dòng)或使基板保持框往基板pb水平移動(dòng)，而使基板pb位于基板保持框內(nèi)，但亦可取代此方式，例如使第1空氣懸浮單元69上升或下降而位于從基板pb及第2空氣懸浮單元70的z位置脫離的位置后，使支承基板pb的第2空氣懸浮單元70往基板保持框水平移動(dòng)以使基板pb位于基板保持框內(nèi)。

上述第8～第11的各實(shí)施形態(tài)中，雖第1空氣懸浮單元69一邊被維持成其上面為水平一邊被驅(qū)動(dòng)于上下方向(垂直方向)，但并不限于此，例如亦可將第1空氣懸浮單元69一邊將其上面維持成水平一邊驅(qū)動(dòng)于相對(duì)水平面的傾斜方向(與水平面交叉的方向)。

上述第11實(shí)施形態(tài)中，雖使搬出對(duì)象的基板pa與搬入對(duì)象的基板pb的搬送開(kāi)始時(shí)點(diǎn)為相同，但亦可錯(cuò)開(kāi)。例如在使基板pa的搬送開(kāi)始時(shí)點(diǎn)較基板pb早時(shí)，最好使基板pb的搬送速度較基板pa快(以追不上基板pa的程度)。另一方面，例如在使基板pa的搬送開(kāi)始時(shí)點(diǎn)較基板pb晚時(shí)，需將基板pa的搬送速度設(shè)為基板pb的搬送速度以上(以追不上基板pb的程度)。

上述第11實(shí)施形態(tài)中，雖使基板pa與基板pb的搬送速度相同，但亦可使的相異。不過(guò)，基板pa與基板pb的搬送速度根據(jù)基板pa與基板pb的搬送開(kāi)始時(shí)點(diǎn)、基板pa與基板pb起初之間隔設(shè)定為基板pb無(wú)法追上基板pa。

《第12實(shí)施形態(tài)》

其次，根據(jù)圖34～圖40(c)說(shuō)明第12實(shí)施形態(tài)。此處，系對(duì)與上述第1實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)件使用相同或類(lèi)似的符號(hào)，簡(jiǎn)略或省略其說(shuō)明。

圖34系概略顯示本第12實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置310構(gòu)成。

液晶曝光裝置310與前述第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10相異點(diǎn)在于，系取代前述的基板交換裝置50而設(shè)有基板交換裝置350(參照?qǐng)D35)，對(duì)應(yīng)于此，取代藉由前述的復(fù)數(shù)個(gè)z線(xiàn)性致動(dòng)器74而上下移動(dòng)的第1空氣懸浮單元69而設(shè)有后述的第1空氣懸浮單元169，以及取代基板保持框56而設(shè)有基板保持框256，且空氣懸浮裝置54的配置及數(shù)目亦相異，其他部分的構(gòu)成則與液晶曝光裝置10相同。以下，以相異點(diǎn)為中心進(jìn)行說(shuō)明。

如圖35所示，復(fù)數(shù)個(gè)(例如34臺(tái))的空氣懸浮裝置54系從下方以非接觸方式將基板p(不過(guò)系除了保持于定點(diǎn)載臺(tái)52(參照?qǐng)D36)的基板p的被曝光部位以外的區(qū)域)支承成基板p與水平面大致平行。

本第12實(shí)施形態(tài)中，于y軸方向以既定間隔排列的8臺(tái)的空氣懸浮裝置54所構(gòu)成的空氣懸浮裝置群系于x軸方向以既定間隔配置有4列。以下，為了說(shuō)明方便，將構(gòu)成空氣懸浮裝置群的8臺(tái)空氣懸浮裝置54從-y側(cè)起稱(chēng)為第1～第8臺(tái)。又，為了說(shuō)明方便，將4列空氣懸浮裝置群從-x側(cè)依序稱(chēng)為第1～第4列。又，于第2列的空氣懸浮裝置群與第3列的空氣懸浮裝置群之間，系有y柱36通過(guò)，于搭載于該y柱36上的定點(diǎn)載臺(tái)52的+y側(cè)及-y側(cè)分別配置有各1臺(tái)空氣懸浮裝置54。

復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮裝置54均系藉由從其上面噴出加壓氣體(例如空氣)而以非接觸方式支承基板p，以防止基板p在沿xy平面移動(dòng)時(shí)基板p的下面受損。此外，復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮裝置54各自的上面與基板p下面間的距離，設(shè)定為較前述定點(diǎn)載臺(tái)52的空氣夾頭裝置62上面與基板p下面間的距離長(zhǎng)(參照?qǐng)D34)。將復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮裝置群中第3列及第4列各自的空氣懸浮裝置54的第3～6臺(tái)空氣懸浮裝置54(合計(jì)8臺(tái)空氣懸浮裝置54)總稱(chēng)為第1空氣懸浮裝置群81，將第1列及第2列各自的空氣懸浮裝置54的第3～6臺(tái)空氣懸浮裝置54(合計(jì)8臺(tái)空氣懸浮裝置54)總稱(chēng)為第2空氣懸浮裝置群83。又，將第1及第2空氣懸浮裝置群81、83合稱(chēng)為第1空氣懸浮單元169。復(fù)數(shù)個(gè)(例如34臺(tái))的空氣懸浮裝置54如圖34及圖36所示，均透過(guò)各兩支的柱狀支承構(gòu)件72于定盤(pán)12上固定成其上面位于彼此相同的水平面上。亦即，第1空氣懸浮單元169無(wú)法上下移動(dòng)。

基板保持框256，如圖37(a)所示，包含由俯視矩形的框狀構(gòu)件構(gòu)成的本體部280與從下方支承基板p的復(fù)數(shù)個(gè)、例如為4個(gè)的支承部82。本體部280具有一對(duì)x框構(gòu)件80x與一對(duì)y框構(gòu)件80y。一對(duì)x框構(gòu)件80x由以x軸方向?yàn)殚L(zhǎng)度方向的平行于xy平面的板狀構(gòu)件構(gòu)成，于y軸方向以既定間隔(較基板p的y軸方向尺寸寬廣之間隔)彼此平行配置。一對(duì)y框構(gòu)件80y均由以y軸方向?yàn)殚L(zhǎng)度方向的平行于xy平面的板狀構(gòu)件構(gòu)成，于x軸方向以既定間隔(較基板p的x軸方向尺寸寬廣之間隔)彼此平行配置。如圖36及圖37(a)所示，+x側(cè)的y框構(gòu)件80y固定于一對(duì)x框構(gòu)件80x各自的+x側(cè)端部的上面，-x側(cè)的y框構(gòu)件80y固定于一對(duì)x框構(gòu)件80x各自的-x側(cè)端部的上面。如此，基板保持框256中，一對(duì)x框構(gòu)件80x藉由一對(duì)y框構(gòu)件80y連結(jié)。如圖37(a)所示，于-y側(cè)的x框構(gòu)件80x的-y側(cè)側(cè)面安裝有具有正交于y軸的反射面的y移動(dòng)鏡84y，于-x側(cè)的y框構(gòu)件80y的-x側(cè)側(cè)面安裝有具有正交于x軸的反射面的x移動(dòng)鏡84x。

4個(gè)支承部82中的2個(gè)以于x軸方向分離既定間隔(較基板p的x軸方向尺寸狹窄之間隔)的狀態(tài)安裝于-y側(cè)的x框構(gòu)件80x，其他2個(gè)以于x軸方向分離既定間隔的狀態(tài)安裝于+y側(cè)的x框構(gòu)件80x。支承部82由yz剖面l字形的構(gòu)件構(gòu)成(參照?qǐng)D38(a))，藉由平行于xy平面的部分從下方支承基板p。支承部82，于與基板p的對(duì)向面具有未圖示的吸附墊，以例如真空吸附保持基板p。4個(gè)支承部82分別透過(guò)未圖示的z致動(dòng)器(以z軸方向?yàn)轵?qū)動(dòng)方向的致動(dòng)器)安裝于+y側(cè)或-y側(cè)x框構(gòu)件80x。藉此，4個(gè)支承部82，如圖38(a)及圖38(b)所示，能相對(duì)安裝有該等的x框構(gòu)件80x移動(dòng)于上下方向。z致動(dòng)器包含例如線(xiàn)性馬達(dá)、氣缸等。

如以上構(gòu)成的基板保持框256，如圖37(a)所示，藉由在俯視下以該一對(duì)x框構(gòu)件80x及一對(duì)y框構(gòu)件80y包圍基板p四方(外周)的狀態(tài)藉由4個(gè)支承部82均等地支承基板p的例如四角。因此，基板保持框256能將基板p以良好平衡性保持。

基板保持框256、亦即基板p在xy平面內(nèi)(包含θz方向)的位置信息如圖35所示，藉由包含對(duì)x移動(dòng)鏡84x照射測(cè)距光束的x干涉儀65x及對(duì)y移動(dòng)鏡84y照射測(cè)距光束的y干涉儀65y的基板干涉儀系統(tǒng)求出。

比較圖37(a)及圖37(b)與圖4(a)及圖4(b)后可知，將基板保持框256于x軸方向及y軸方向以既定行程(沿xy平面)驅(qū)動(dòng)(及于θz方向微幅驅(qū)動(dòng))的驅(qū)動(dòng)單元58的構(gòu)成與前述第1實(shí)施形態(tài)相同。因此，本第12實(shí)施形態(tài)的驅(qū)動(dòng)單元58的詳細(xì)說(shuō)明系省略。

基板交換裝置350如圖35所示，系在與第1空氣懸浮單元169之間進(jìn)行基板交換的裝置，包含基板搬入裝置50a及基板搬出裝置50b。

基板搬入裝置50a于第2空氣懸浮裝置群83的-x側(cè)具有包含與第1及第2空氣懸浮裝置群81、83的各個(gè)相同構(gòu)成的空氣懸浮裝置群的第2空氣懸浮單元70?；灏岢鲅b置50b，于第2空氣懸浮裝置群83的+x側(cè)具有包含與第1及第2空氣懸浮裝置群81、83的各個(gè)相同構(gòu)成的空氣懸浮裝置群的第3空氣懸浮單元75。亦即，第2及第3空氣懸浮單元70、75分別具有搭載于底座構(gòu)件68(由與xy平面平行的平板狀構(gòu)件構(gòu)成)上的復(fù)數(shù)臺(tái)、例如8臺(tái)的空氣懸浮裝置99(參照?qǐng)D35)。此外，空氣懸浮裝置99系與空氣懸浮裝置54實(shí)質(zhì)上相同者。第3空氣懸浮單元75所具有的例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99的上面，如圖39(a)及圖39(b)所示位于與構(gòu)成第1空氣懸浮裝置群81的例如8臺(tái)的空氣懸浮裝置54上面(第1空氣懸浮裝置群81的上面)相同水平面上。同樣地，第2空氣懸浮單元70所具有的例如8臺(tái)空氣懸浮裝置99的上面，位于與構(gòu)成第2空氣懸浮裝置群83的例如8臺(tái)的空氣懸浮裝置54上面(第2空氣懸浮裝置群83的上面)相同水平面上。

又，如圖39(a)及圖39(b)所示，基板搬出裝置50b具有包含皮帶73a的基板進(jìn)給裝置73(圖39(a)及圖39(b)外的其他圖并未圖示)。皮帶73a卷掛于一對(duì)滑輪73b，藉由一對(duì)滑輪73b被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)而被驅(qū)動(dòng)。于皮帶73a上面固定有墊73c。

基板進(jìn)給裝置73設(shè)為能藉由未圖示的升降裝置相對(duì)第1空氣懸浮裝置群81上下移動(dòng)。詳言的，基板進(jìn)給裝置73能在固定于皮帶73a上面的墊73c較第1空氣懸浮裝置群81上面往上方突出的上方移動(dòng)極限位置(參照?qǐng)D39(b))與墊73c較第1空氣懸浮裝置群81上面位于下方的下方移動(dòng)極限位置(參照?qǐng)D39(a))之間上下移動(dòng)。此外，上述皮帶73a及滑輪73b例如配置于第1空氣懸浮裝置群81的+y側(cè)及-y側(cè)(或者復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮裝置54之間)等，基板進(jìn)給裝置73能不接觸于第1空氣懸浮裝置群81地上下移動(dòng)。

基板搬出裝置50b，在基板p載置于第1空氣懸浮裝置群81上的狀態(tài)下驅(qū)動(dòng)位于上述上方移動(dòng)極限位置的基板進(jìn)給裝置73(參照?qǐng)D39(b))的皮帶73a后，即藉由墊73c按壓基板p，而使的沿第1空氣懸浮裝置群81上面移動(dòng)(將基板p從第1空氣懸浮裝置群81上壓出至第3空氣懸浮單元75上)。此外，雖圖示省略，但基板搬入裝置50a亦具有與基板搬出裝置50b的基板進(jìn)給裝置73相同構(gòu)成的基板進(jìn)給裝置(未圖示)。

以上述方式構(gòu)成的液晶曝光裝置310(參照?qǐng)D34)，系在主控制裝置20(參照?qǐng)D7)的管理下，藉由未圖示的掩膜裝載器將掩膜m裝載于掩膜載臺(tái)mst，以及藉由基板搬入裝置50a(圖34中未圖示，參照?qǐng)D35)將基板p裝載于基板載臺(tái)裝置pst。其后，藉由主控制裝置20使用未圖示的對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)執(zhí)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量，在對(duì)準(zhǔn)測(cè)量結(jié)束后，即進(jìn)行步進(jìn)掃描方式的曝光動(dòng)作。

上述的曝光動(dòng)作時(shí)的基板載臺(tái)裝置pst的動(dòng)作由于與前述的第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10相同，因此其說(shuō)明省略。

本實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置310，在上述步進(jìn)掃描方式的曝光動(dòng)作結(jié)束后，曝光完畢的基板p系從基板保持框256被搬出，其他基板p被搬入基板保持框256，藉此進(jìn)行基板保持框256所保持的基板p的交換。此基板p的交換，系在主控制裝置20的管理下進(jìn)行。以下，根據(jù)圖40(a)～圖40(c)說(shuō)明基板p的交換動(dòng)作一例。此外，為了簡(jiǎn)化圖式，圖40(a)～圖40(c)中，基板進(jìn)給裝置73(參照?qǐng)D39(a)及圖39(b))等的圖示系省略。又，將從基板保持框256搬出的搬出對(duì)象的基板稱(chēng)為pa，將其次搬入基板保持框256的搬入對(duì)象稱(chēng)為pb來(lái)說(shuō)明?；錺b于基板搬入裝置50a的第2空氣懸浮單元70上，以其+x側(cè)端部(基板搬入方向上游側(cè)的端部)抵接于基板搬入裝置50a的基板進(jìn)給裝置73的墊(未圖示)的狀態(tài)下被載置。又，在此狀態(tài)下，基板pb被進(jìn)行在第2空氣懸浮單元70上的位置調(diào)整，而在y軸方向位于基板保持框256的+y側(cè)支承部82及-y側(cè)支承部82的各自與xy平面正交的部分之間。又，基板搬入裝置50a及基板搬出裝置50b各自的基板進(jìn)給裝置，均位于上述下方移動(dòng)極限位置(參照?qǐng)D39(a))。在此狀態(tài)下，于基板搬出裝置50b，如圖39(a)所示，該墊73c的位置被調(diào)整成其x位置位于較基板pa的-x側(cè)端部略靠-x側(cè)。

在曝光處理結(jié)束后，基板pa，藉由于與xy平面平行的方向驅(qū)動(dòng)基板保持框256，而如圖40(a)所示于第1空氣懸浮單元69上移動(dòng)。此時(shí)，如圖40(a)及圖38(a)所示，基板保持框256的y軸方向的位置被定位成其4個(gè)支承部82不位于第1空氣懸浮單元69上方(于上下方向不重迭)。其次，解除基板保持框256的4個(gè)支承部82對(duì)基板p的吸附保持，且基板搬入裝置50a及基板搬出裝置50b各自的基板進(jìn)給裝置從上述下方移動(dòng)極限位置上升至上述上方移動(dòng)極限位置。此后，如圖38(b)所示，在基板保持框256中4個(gè)支承部82相對(duì)本體部280被往下方驅(qū)動(dòng)而從基板pa離開(kāi)。此后，如圖40(a)所示，基板pa被基板搬出裝置50b的基板進(jìn)給裝置73(參照?qǐng)D39(b))往+x方向驅(qū)動(dòng)，而沿以第1空氣懸浮裝置群81的上面與第3空氣懸浮單元75的上面形成的水平面(移動(dòng)面)從第1空氣懸浮裝置群81上被搬送往第3空氣懸浮單元75上，且基板保持框256被驅(qū)動(dòng)單元58往-x方向驅(qū)動(dòng)。又，與此同時(shí)地，基板pb被基板搬入裝置50a的基板進(jìn)給裝置往+x方向驅(qū)動(dòng)，而沿以第2空氣懸浮單元70的上面與第2空氣懸浮裝置群83的上面形成的水平面(移動(dòng)面)從第2空氣懸浮單元70上被搬送往第2空氣懸浮裝置群83上?；灞３挚?56在位于第2空氣懸浮裝置群83上時(shí)停止。

此外，基板保持框256中，由于如上所述一對(duì)y框構(gòu)件80y配置于一對(duì)x框構(gòu)件80x上(參照?qǐng)D38(a))，因此容許基板對(duì)基板保持框256于x軸方向的通過(guò)。因此，在如上述般，基板pa與基板保持框256于x軸方向(于彼此分離的方向)相對(duì)移動(dòng)時(shí)，基板pa系通過(guò)基板保持框256的+x側(cè)的y框構(gòu)件80y下方而從一對(duì)x框構(gòu)件80x間脫離。又，在如上述般，基板pb與基板保持框256于x軸方向(于彼此接近的方向)相對(duì)移動(dòng)時(shí)，基板pb系通過(guò)基板保持框256的-x側(cè)的y框構(gòu)件80y下方而插入一對(duì)x框構(gòu)件80x間。

在基板pb及基板保持框256位于第2空氣懸浮裝置群83上的狀態(tài)下(參照?qǐng)D40(c))，基板pb如圖38(b)所示，位于基板保持框256的+y側(cè)及-y側(cè)的支承部82的各自與xy平面正交的部分間。此處，4個(gè)支承部82相對(duì)本體部280被往上方驅(qū)動(dòng)，基板pb藉由被4個(gè)支承部82支承及真空吸附而保持于基板保持框256(參照?qǐng)D38(a))。其后，其后，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量、步進(jìn)掃描方式的曝光處理。又，于已對(duì)第1空氣懸浮裝置群81移交了基板pb的第2空氣懸浮單元70上，載置次一基板pb。此外，由于在此曝光處理前，基板搬入裝置50a及基板搬出裝置50b的基板進(jìn)給裝置系從上述上方移動(dòng)極限位置下降至上述下方移動(dòng)極限位置，因此不會(huì)有因基板進(jìn)給裝置妨礙曝光處理時(shí)的基板載臺(tái)裝置pst的動(dòng)作的情形。又，搬送至第3空氣懸浮單元75上的基板pa藉由未圖示的基板搬送裝置搬送至例如涂布顯影機(jī)裝置等外部裝置。

如上所述，本第12實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置310，藉由反復(fù)進(jìn)行上述圖40(a)～圖40(c)所示的基板的交換動(dòng)作，而對(duì)復(fù)數(shù)個(gè)基板連續(xù)進(jìn)行曝光動(dòng)作等。

如以上所說(shuō)明，根據(jù)本第12實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置310，能得到與前述的第1實(shí)施形態(tài)同等的效果。又，藉由液晶曝光裝置310，由于系使第2及第3空氣懸浮單元70、75的上面位于與相鄰于第2及第3空氣懸浮單元70、75的第1空氣懸浮單元169的上面相同的高度，因此僅使位于第1空氣懸浮單元169上的基板pa往第3空氣懸浮單元75上水平移動(dòng)即能從第1空氣懸浮單元169上搬出，僅使位于第2空氣懸浮單元70上的基板pb往第1空氣懸浮單元169上水平移動(dòng)即能搬入第1空氣懸浮單元169上。

亦即，由于基板pa在曝光處理時(shí)系從支承基板的第1空氣懸浮單元169上水平移動(dòng)而直接搬出至第3空氣懸浮單元75上，基板pb系從第2空氣懸浮單元70上水平移動(dòng)而直接搬入至第1空氣懸浮單元169上，因此能在短時(shí)間進(jìn)行曝光處理動(dòng)作與基板交換動(dòng)作。

在基板搬出時(shí)，由于系在支承基板pa的第1空氣懸浮裝置群81上使支承部82從基板pa離開(kāi)后，將基板pa搬送至第3空氣懸浮單元75上，因此可防止基板pa受損。

《第13實(shí)施形態(tài)》

其次，根據(jù)圖41(a)～圖41(d)說(shuō)明第13實(shí)施形態(tài)。此處，系針對(duì)與前述第12實(shí)施形態(tài)相異的點(diǎn)進(jìn)行說(shuō)明，對(duì)與上述第12實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)件使用相同或類(lèi)似的符號(hào)，簡(jiǎn)略或省略其說(shuō)明。

相較于上述第12實(shí)施形態(tài)中基板的搬入路徑與搬出路徑設(shè)定為相同高度，第13實(shí)施形態(tài)中，基板的搬入路徑與搬出路徑設(shè)定為相異高度。

第13實(shí)施形態(tài)的基板交換裝置250’中，如圖41(a)～圖41(d)所示，第2及第3空氣懸浮單元70、75系于第1空氣懸浮裝置群81的+x側(cè)以上下分離既定距離的狀態(tài)配置，且能藉由未圖示的升降裝置一體上下移動(dòng)。以下，將第2及第3空氣懸浮單元70、75合并稱(chēng)為空氣懸浮單元對(duì)85來(lái)說(shuō)明?？諝鈶腋卧獙?duì)85中，第3空氣懸浮單元75位于第2空氣懸浮單元70上方，第2及第3空氣懸浮單元70、75的上面均為水平。

在圖41(a)所示狀態(tài)下，于空氣懸浮單元對(duì)85中第3空氣懸浮單元75的上面位于與第1空氣懸浮裝置群81上面相同高度(將此時(shí)的空氣懸浮單元對(duì)85的z位置稱(chēng)為第1位置)。

本第13實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，在基板交換時(shí)，首先在第1空氣懸浮裝置群81上與上述第12實(shí)施形態(tài)同樣地解除基板保持框256對(duì)基板pa的保持(參照?qǐng)D41(a))。其次，基板pa從第1空氣懸浮裝置群81上往第3空氣懸浮單元75上與上述第12實(shí)施形態(tài)同樣地被搬送(參照?qǐng)D41(b))。接著，在基板pa位于第3空氣懸浮單元75上后(更詳言的，基板pa整體通過(guò)基板保持框256的+x側(cè)y框構(gòu)件80y下方后)，空氣懸浮單元對(duì)85上升而第2空氣懸浮單元70的上面在成為與第1空氣懸浮裝置群81上面相同高度時(shí)停止(參照?qǐng)D41(c)，將此時(shí)的空氣懸浮單元對(duì)85的z位置稱(chēng)為第2位置)。其后，基板pb從第2空氣懸浮單元70上往第1空氣懸浮裝置群81上沿著以第2空氣懸浮單元70上面與第1空氣懸浮裝置群81上面形成的水平面(移動(dòng)面)被搬送(參照?qǐng)D41(d))。此時(shí)，基板pb一邊被插入基板保持框256的+y側(cè)及-y側(cè)的支承部82正交于xy平面的部分間、一邊被搬送。位于第1空氣懸浮裝置群81上的基板pb與上述第12實(shí)施形態(tài)同樣地保持于基板保持框256。其后，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量、步進(jìn)掃描方式的曝光處理。于已將基板pb移交至第1空氣懸浮裝置群81的第2空氣懸浮單元70上載置次一基板pb。又，位于第3空氣懸浮單元75上的基板pa藉由未圖示的基板搬送裝置搬送至例如涂布顯影機(jī)裝置等外部裝置。其后，空氣懸浮單元對(duì)85下降而位于上述第1位置，預(yù)備次一基板pa的搬出。

根據(jù)本第13實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，由于第2及第3空氣懸浮單元70、75于第1空氣懸浮裝置群81(定盤(pán)12)的+x側(cè)排列配置于上下，因此與第2及第3空氣懸浮單元70、75各自配置于定盤(pán)12的+x側(cè)及-x側(cè)的上述第12實(shí)施形態(tài)相較，能縮短液晶曝光裝置整體的x軸方向尺寸。

又，以?xún)H使由第2及第3空氣懸浮單元70、75構(gòu)成的空氣懸浮單元對(duì)85相對(duì)第1空氣懸浮裝置群81上下移動(dòng)的簡(jiǎn)易構(gòu)成，即能在第1空氣懸浮裝置群81與第2空氣懸浮單元70之間、以及第1空氣懸浮裝置群81與第3空氣懸浮單元75之間進(jìn)行基板的搬送。而且，由于僅單純使空氣懸浮單元對(duì)85在z軸方向的兩位置間上下移動(dòng)即可，其控制為簡(jiǎn)單。

又，由于在基板pa位于第1空氣懸浮裝置群81上時(shí)，第3空氣懸浮單元75上面位于與第1空氣懸浮裝置群81上面相同高度，因此能將基板pa從第1空氣懸浮裝置群81上水平移動(dòng)而直接搬送至第3空氣懸浮單元75上。亦即，能從曝光動(dòng)作立即移行至基板搬出動(dòng)作。

此外，本第13實(shí)施形態(tài)中，由于基板保持框256具有+x側(cè)的y框構(gòu)件80y，因此無(wú)法使空氣懸浮單元對(duì)85上升至基板p整體通過(guò)+x側(cè)的y框構(gòu)件80y下方。因此，例如亦可將基板保持框作成自基板保持框256去除+x側(cè)y框構(gòu)件80y的構(gòu)成(俯視u字形的構(gòu)成)。此種情形下，能在基板p的搬送中使空氣懸浮單元對(duì)85上升。接著，亦可配合空氣懸浮單元對(duì)85的上升開(kāi)始基板pb的搬入動(dòng)作。藉此，能將基板對(duì)基板保持框256的搬出動(dòng)作與搬入動(dòng)作一部分并行地進(jìn)行，能縮短基板交換的循環(huán)時(shí)間。

《第14實(shí)施形態(tài)》

其次，根據(jù)圖42(a)及圖42(b)說(shuō)明第14實(shí)施形態(tài)。此處，系針對(duì)與前述第12實(shí)施形態(tài)相異的點(diǎn)進(jìn)行說(shuō)明，對(duì)與上述第12實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)件使用相同或類(lèi)似的符號(hào)，簡(jiǎn)略或省略其說(shuō)明。

相較于上述第12實(shí)施形態(tài)中使基板保持框256移動(dòng)于x軸方向(掃描方向)而進(jìn)行基板對(duì)基板保持框256的搬入，第14實(shí)施形態(tài)中，系使基板保持框256移動(dòng)于y軸方向方向(步進(jìn)方向)而進(jìn)行基板對(duì)基板保持框256的搬入。以下，將第3列及第4列的空氣懸浮裝置群各自的第5～第8臺(tái)的空氣懸浮裝置54(合計(jì)8臺(tái)空氣懸浮裝置54)總稱(chēng)為第3空氣懸浮裝置群87，將第3列及第4列空氣懸浮裝置54各自的第1～4臺(tái)空氣懸浮裝置54(合計(jì)8臺(tái)空氣懸浮裝置54)總稱(chēng)為第4空氣懸浮裝置群83，將第3及第4空氣懸浮裝置群87、89合稱(chēng)為第1空氣懸浮單元269。

本第14實(shí)施形態(tài)的基板交換裝置450，第2及第3空氣懸浮單元70、75如圖42(a)所示于定盤(pán)12(第1空氣懸浮單元269)的+x側(cè)排列配置于y軸方向。詳言的，第2及第3空氣懸浮單元70、75分別與第4及第3空氣懸浮裝置群89、87相鄰配置。亦即，第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的y位置位于基板保持框256在y軸方向的移動(dòng)行程的范圍內(nèi)。又，第2及第3空氣懸浮單元70、75各自的上面位于與第1空氣懸浮單元269的復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮裝置54上面相同水平面上。

本第14實(shí)施形態(tài)的基板交換裝置，在基板交換時(shí)，保持于基板保持框256的基板pa位于第3空氣懸浮裝置群87上。其次，在第3空氣懸浮裝置群87上解除基板保持框256對(duì)基板pa的保持后，基板pa從第3空氣懸浮裝置群87上往第3空氣懸浮單元75上搬送(參照?qǐng)D42(a))?；錺a位于第3空氣懸浮單元75上后(更詳言的，基板pa整體位于較+x側(cè)支承部82更靠+x側(cè)的位置后)，基板保持框256被往-y方向驅(qū)動(dòng)而位于第4空氣懸浮裝置群89上。接著，基板pb從第2空氣懸浮單元70上往第4空氣懸浮裝置群89上搬送(參照?qǐng)D42(b))，在第4空氣懸浮裝置群89上保持于基板保持框256。其后，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量、步進(jìn)掃描方式的曝光處理。此外，搬送至第3空氣懸浮單元75上的基板pa藉由未圖示的基板搬送裝置搬送至例如涂布顯影機(jī)裝置等外部裝置。

根據(jù)本第14實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，由于在基板交換時(shí)系將基板保持框256往y軸方向、亦即步進(jìn)方向(移動(dòng)行程較掃描方向的x軸方向短)驅(qū)動(dòng)，因此與上述第12實(shí)施形態(tài)相較，能縮短基板保持框256的移動(dòng)行程。因此，能縮短從基板保持框256的基板pa的搬出結(jié)束時(shí)至基板pb往基板保持框256的搬入開(kāi)始時(shí)的時(shí)間，藉此能謀求對(duì)基板保持框256的基板交換的迅速。

又，根據(jù)本第14實(shí)施形態(tài)，由于第2及第3空氣懸浮單元70、75配置于+x側(cè)，因此與第2及第3空氣懸浮單元70、75分別配置于定盤(pán)12的+x側(cè)及-x側(cè)的上述第12實(shí)施形態(tài)相較，能縮短液晶曝光裝置整體的x軸方向的尺寸。

此外，上述第12～第14的各實(shí)施形態(tài)的構(gòu)成能適當(dāng)變更。例如，上述第12～第14的各實(shí)施形態(tài)中，基板交換裝置雖系從第1空氣懸浮單元上往第3空氣懸浮單元75上搬出基板，從第2空氣懸浮單元70上往第1空氣懸浮單元上搬入基板，但亦可相反。此情形下，搬入對(duì)象的基板pb準(zhǔn)備于第3空氣懸浮單元75上。接著，基板pa從第1空氣懸浮單元上水平移動(dòng)而被搬出至第2空氣懸浮單元70，其次基板pb從第3空氣懸浮單元75上水平移動(dòng)而被搬入至第1空氣懸浮單元上。

上述第13實(shí)施形態(tài)中，第2空氣懸浮單元70雖配置于第3空氣懸浮單元75下方，但亦可配置于上方。此情形下，系在基板pa從第1空氣懸浮裝置群81上水平移動(dòng)而被搬出至第3空氣懸浮單元75上后，空氣懸浮單元對(duì)85下降使基板pb從第2空氣懸浮單元70上水平移動(dòng)而被搬入至第1空氣懸浮裝置群81上。

上述第12及第14的各實(shí)施形態(tài)中，雖基板的搬出方向及搬入方向兩者為x軸方向，但亦可例如使基板的搬出方向及搬入方向兩者為y軸方向。具體而言，例如將第2及第3空氣懸浮單元70、75配置于在y軸方向夾著第1空氣懸浮單元的位置，并使基板的搬出方向及搬入方向?yàn)橄嗤较?使兩者為+y方向或-y方向)。又，例如將第2及第3空氣懸浮單元70、75于第1空氣懸浮單元的+y側(cè)(或-y側(cè))排列配置于x軸方向，并使基板的搬出方向及搬入方向?yàn)橄喾捶较?使一方為+y方向，另一方為-y方向)。不過(guò)，為了將基板搬送于y軸方向，例如需將基板保持框256作成繞通過(guò)其中心而與z軸平行的軸線(xiàn)旋轉(zhuǎn)90°的構(gòu)成(不過(guò)，需將x框構(gòu)件80x與y框構(gòu)件80y的尺寸調(diào)換)，而作成能使基板于y軸方向?qū)灞３挚蜻M(jìn)出。

上述第13實(shí)施形態(tài)中，雖使基板的搬出方向及搬入方向兩者為x軸方向，但亦可例如使基板的搬出方向及搬入方向兩者為y軸方向。具體而言，例如將空氣懸浮單元對(duì)85可上下移動(dòng)地設(shè)于第1空氣懸浮單元的+y側(cè)(或-y側(cè))，并使基板的搬出方向及搬入方向?yàn)橄喾捶较?使一方為+y方向，另一方為-y方向)。不過(guò)，為了將基板搬送于y軸方向，例如需作成能使基板于y軸方向?qū)灞３挚蜻M(jìn)出。

上述第12及第14的各實(shí)施形態(tài)中，雖基板的搬出方向及搬入方向兩者為x軸方向，但亦可例如使基板的搬出方向及搬入方向的一方為x軸方向、使另一方為y軸方向。具體而言，將第2及第3空氣懸浮單元70、75的一方配置于第1空氣懸浮單元的+x側(cè)(或-x側(cè))，并將另一方配置于第3空氣懸浮單元的+y側(cè)(或-y側(cè))。不過(guò)，為了將基板搬送于x軸方向及y軸方向，需作成能使基板于x軸方向及y軸方向?qū)灞３挚蜻M(jìn)出。

上述第12及第14的各實(shí)施形態(tài)中，雖在從基板保持框搬出基板時(shí)及使基板保持于基板保持框時(shí)使支承部82上下移動(dòng)(參照?qǐng)D38(a)及圖38(b))，但亦可將第1空氣懸浮單元的空氣懸浮裝置群構(gòu)成為能上下移動(dòng)，并使此空氣懸浮裝置群上下移動(dòng)。

上述第12及第14的各實(shí)施形態(tài)中，雖在從基板保持框搬出基板時(shí)及使基板保持于基板保持框時(shí)使支承部82上下移動(dòng)(參照?qǐng)D38(a)及圖38(b))，但亦可如圖38(b)及圖38(c)所示使支承部82移動(dòng)于水平方向。

上述第12及第14的各實(shí)施形態(tài)中，雖在從基板保持框搬出基板時(shí)及使基板保持于基板保持框時(shí)使支承部82上下移動(dòng)，但亦可使第1空氣懸浮單元的空氣懸浮裝置群對(duì)基板的懸浮量增減。

上述第13實(shí)施形態(tài)中，空氣懸浮單元對(duì)85雖被驅(qū)動(dòng)于上下方向(垂直方向)，但亦可被驅(qū)動(dòng)于相對(duì)水平面的傾斜方向(與水平面交叉的方向)。此情形下，為了使構(gòu)成空氣懸浮單元對(duì)85的第2及第3空氣懸浮單元70、75各自能個(gè)別移動(dòng)至與第1空氣懸浮裝置群81相鄰的位置，需使第2及第3空氣懸浮單元70、75在平行于xy平面(水平面)的方向的位置適當(dāng)錯(cuò)開(kāi)。

上述第13實(shí)施形態(tài)中，第2及第3空氣懸浮單元70、75雖系一體上下移動(dòng)，但亦可個(gè)別驅(qū)動(dòng)于相對(duì)上下方向或水平面的交叉方向。

上述第12實(shí)施形態(tài)中，雖在第1及第2空氣懸浮單元169、70間、及第1及第3空氣懸浮單元169、75間的兩者使用基板進(jìn)給裝置73搬送基板，但亦可在此等的至少一方使用基板保持框256來(lái)搬送基板(在使基板保持于基板保持框256的狀態(tài)下搬送)。藉此，與如上述第12實(shí)施形態(tài)的基板進(jìn)給裝置73般使用皮帶驅(qū)動(dòng)式的情形相較能更迅速地(上述第12實(shí)施形態(tài)中，由于系在于xy方向不被拘束的狀態(tài)下搬送，因此難以高速搬送)使基板移動(dòng)。因此，能較上述第12實(shí)施形態(tài)縮短基板交換的循環(huán)時(shí)間。又，不需于基板搬入裝置50a及基板搬出裝置50b的至少一方設(shè)置基板進(jìn)給裝置73。具體而言，如圖43(a)及圖43(b)所示，藉由使用以將基板保持框256驅(qū)動(dòng)于x軸方向的x線(xiàn)性馬達(dá)的固定子90較上述第12實(shí)施形態(tài)于+x側(cè)及-x側(cè)的至少一方增長(zhǎng)，而能使基板保持框256移動(dòng)至第2及第3空氣懸浮單元70、75上的至少一方(圖43(a)及圖43(b)中，x固定子90于+x側(cè)及-x側(cè)的兩者增長(zhǎng))。此時(shí)，相較于上述第12實(shí)施形態(tài)，由于不需變更基板保持框256的控制系統(tǒng)及測(cè)量系統(tǒng)，因此能抑制成本上升。在基板搬出時(shí)使用基板保持框256時(shí)，系如圖43(a)所示，使保持搬出對(duì)象的基板pa的基板保持框256從第1空氣懸浮單元169上移動(dòng)至第3空氣懸浮單元75上，在第3空氣懸浮單元75上解除基板保持框256對(duì)基板pa的保持。接著，僅使基板保持框256從第3空氣懸浮單元75上移動(dòng)至第1空氣懸浮單元169上。在基板搬入時(shí)使用基板保持框256時(shí)，系如圖43(b)所示，使基板保持框256從第1空氣懸浮單元上移動(dòng)至保持搬入對(duì)象的基板pb的第2空氣懸浮單元70上，在第2空氣懸浮單元70上使基板pb保持于基板保持框256。接著，使保持有基板pb的基板保持框256從第2空氣懸浮單元70上移動(dòng)至第1空氣懸浮單元169。此外，在基板搬出時(shí)即基板搬入時(shí)的兩者使用基板保持框256時(shí)，例如，基板保持框256系在保持有基板pa的狀態(tài)下從第1空氣懸浮單元169移動(dòng)至第3空氣懸浮單元75，在第3空氣懸浮單元75上解除基板pa的保持后，從第3空氣懸浮單元75上經(jīng)由第1空氣懸浮單元169上移動(dòng)至第2空氣懸浮單元70上，在第2空氣懸浮單元70上保持有基板pb后，從第2空氣懸浮單元70上移動(dòng)至第1空氣懸浮單元169上。

上述第14實(shí)施形態(tài)中，雖在第1及第2空氣懸浮單元269、70間、以及第1及第3空氣懸浮單元269、75間的兩者使用基板進(jìn)給裝置73搬送基板，但亦可在此等的至少一方使用基板保持框256來(lái)搬送基板(在使基板保持于基板保持框256的狀態(tài)下搬送)。具體而言，藉由使用以將基板保持框256驅(qū)動(dòng)于x軸方向的x線(xiàn)性馬達(dá)的固定子較上述第12實(shí)施形態(tài)于+x側(cè)增長(zhǎng)，而能使基板保持框256移動(dòng)至第2及第3空氣懸浮單元70、75上的至少一方。

上述第13實(shí)施形態(tài)中，雖在第1及第2空氣懸浮單元169、70間、以及第1及第3空氣懸浮單元169、75間的兩者使用基板進(jìn)給裝置73搬送基板，但亦可在此等的至少一方使用基板保持框256來(lái)搬送基板(在使基板保持于基板保持框256的狀態(tài)下搬送)。

上述第12及第14的各實(shí)施形態(tài)中，基板保持框雖使用俯視矩形框狀，但并不限于此，亦可系例如俯視u字形、橢圓框狀、菱形框狀者等。不過(guò)，不論是何者，均需于基板保持框形成容許基板在x軸方向的通過(guò)的開(kāi)口(在上述第12實(shí)施形態(tài)的情形，需于基板保持框的+x端及-x端形成上述開(kāi)口，在上述第13及第14的各實(shí)施形態(tài)的情形，需于基板保持框的+x端形成上述開(kāi)口)。

上述第14實(shí)施形態(tài)中，在進(jìn)行基板對(duì)基板保持框256的進(jìn)出時(shí)，雖系使基板保持框256相對(duì)第2及第3空氣懸浮單元70、75于y軸方向移動(dòng)，但亦可取代此方式或進(jìn)一步地使第2及第3空氣懸浮單元70、75相對(duì)基板保持框256于y軸方向移動(dòng)。

此外，上述第1～第14的各實(shí)施形態(tài)(以下標(biāo)記為上述各實(shí)施形態(tài))的基板搬入裝置50a及基板搬出裝置50b(不過(guò)，除了第9實(shí)施形態(tài)的基板搬入裝置以外)，雖均系藉由包含皮帶73a的基板進(jìn)給裝置73來(lái)搬送基板，但只要能在空氣懸浮單元上將基板驅(qū)動(dòng)于一軸方向，驅(qū)動(dòng)裝置的構(gòu)成則不限于此，例如亦可使用汽缸等其他的單軸致動(dòng)器驅(qū)動(dòng)基板。又，亦可使用夾頭裝置等在把持基板的狀態(tài)下搬送。

又，上述各實(shí)施形態(tài)中，雖系使用復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮裝置以非接觸方式支承基板，但只要能在使基板沿水平面移動(dòng)時(shí)基板下面受損，即能在滾珠軸承等的滾動(dòng)體上使基板移動(dòng)。

又，上述各實(shí)施形態(tài)的移動(dòng)體裝置(基板載臺(tái)裝置pst)亦能適用于曝光裝置以外。例如使用于基板檢查裝置等。又，定點(diǎn)載臺(tái)52亦可不一定要設(shè)置?；灞３挚蛞嗫蔁o(wú)法旋轉(zhuǎn)于θz方向(亦可于x可動(dòng)子固定有保持框)。

又，上述各實(shí)施形態(tài)中，基板保持框在xy平面內(nèi)的位置信息，系藉由包含雷射干涉儀(對(duì)設(shè)于基板保持框的移動(dòng)鏡照射測(cè)距光束)的雷射干涉儀系統(tǒng)來(lái)求出，但作為基板保持框的位置測(cè)量裝置不限于此，亦可使用例如二維編碼器系統(tǒng)。此情形下，例如可于基板保持框設(shè)置標(biāo)尺，藉由固定于機(jī)體等的讀頭求出基板保持框的位置信息，或亦可于基板保持框設(shè)置讀頭，使用固定于例如機(jī)體等的標(biāo)尺求出基板保持框的位置信息。

又，照明光，不限于arf準(zhǔn)分子雷射光(波長(zhǎng)193nm)，亦能使用krf準(zhǔn)分子雷射光(波長(zhǎng)248nm)等紫外光、f2雷射光(波長(zhǎng)157nm)等真空紫外光。另外，作為照明光，可使用例如諧波，其系以摻有鉺(或鉺及鐿兩者)的光纖放大器，將從dfb半導(dǎo)體雷射或纖維雷射振蕩出的紅外線(xiàn)區(qū)或可見(jiàn)區(qū)的單一波長(zhǎng)雷射光放大，并以非線(xiàn)形光學(xué)結(jié)晶將其轉(zhuǎn)換波長(zhǎng)成紫外光。又，亦可使用固態(tài)雷射(波長(zhǎng)：355nm、266nm)等。

又，上述各實(shí)施形態(tài)中，雖已說(shuō)明投影光學(xué)系統(tǒng)pl系具備復(fù)數(shù)支投影光學(xué)系統(tǒng)的多透鏡方式的投影光學(xué)系統(tǒng)，但投影光學(xué)系統(tǒng)的支數(shù)不限于此，只要有一支已上即可。又，不限于多透鏡方式的投影光學(xué)系統(tǒng)，亦可系使用了offner型的大型反射鏡的投影光學(xué)系統(tǒng)等。

又，上述各實(shí)施形態(tài)中，雖系說(shuō)明使用投影倍率為等倍系統(tǒng)者來(lái)作為投影光學(xué)系統(tǒng)pl，但并不限于此，投影光學(xué)系統(tǒng)亦可系放大系統(tǒng)及縮小系統(tǒng)的任一者。

又，上述各實(shí)施形態(tài)中，雖說(shuō)明了曝光裝置為掃描步進(jìn)機(jī)的情形，但并不限于此，亦可將上述各實(shí)施形態(tài)適用于合成照射區(qū)域與照射區(qū)域的步進(jìn)接合方式的投影曝光裝置。又，亦能適用于不使用投影光學(xué)系統(tǒng)的近接方式的曝光裝置。

又，上述各實(shí)施形態(tài)中，雖使用于具光透射性的基板上形成既定遮光圖案(或相位圖案，減光圖案)的光透射性掩膜(標(biāo)線(xiàn)片)，但亦可使用例如美國(guó)發(fā)明專(zhuān)利第6,778,257號(hào)說(shuō)明書(shū)所揭示的電子掩膜來(lái)代替此標(biāo)線(xiàn)片，該電子掩膜(可變成形掩膜)系根據(jù)欲曝光圖案的電子資料來(lái)形成透射圖案、反射圖案、或發(fā)光圖案，其系使用例如非發(fā)光型影像顯示元件(亦稱(chēng)為空間光調(diào)變器)的一種的dmd(digitalmicro-mirrordevice)的可變成形掩膜。

又，曝光裝置用途并不限定于將液晶顯示元件圖案轉(zhuǎn)印至角型玻璃板的液晶用曝光裝置，亦可廣泛適用于用來(lái)制造例如半導(dǎo)體制造用的曝光裝置、薄膜磁頭、微型機(jī)器及dna晶片等的曝光裝置。又，除了制造半導(dǎo)體元件等微型元件以外，為了制造用于光曝光裝置、euv曝光裝置、x射線(xiàn)曝光裝置及電子射線(xiàn)曝光裝置等的掩膜或標(biāo)線(xiàn)片，亦能將上述各實(shí)施形態(tài)適用于用以將電路圖案轉(zhuǎn)印至玻璃基板或硅晶圓等的曝光裝置。

此外，作為曝光對(duì)象的物體并不限玻璃板，亦可系例如晶圓、陶瓷基板、膜構(gòu)件、或者空白掩膜等其他物體。又，曝光對(duì)象物為平板顯示器用的基板時(shí)，該基板的厚度不特別限定，亦包含例如膜狀(具有可撓性的片狀構(gòu)件)者。

此外，上述各實(shí)施形態(tài)的曝光裝置，在一邊長(zhǎng)度為500mm以上的基板為曝光對(duì)象物時(shí)，特別有效。

此外，援用與至此為止的說(shuō)明中所引用的曝光裝置等相關(guān)的所有公報(bào)、國(guó)際公開(kāi)公報(bào)、美國(guó)發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)說(shuō)明書(shū)及美國(guó)發(fā)明專(zhuān)利說(shuō)明書(shū)的揭示作為本說(shuō)明書(shū)記載的一部分。

《元件制造方法》

其次，說(shuō)明在微影步驟使用上述各實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的微型元件的制造方法。上述各實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，可藉由在板體(玻璃基板)上形成既定圖案(電路圖案、電極圖案等)而制得作為微型元件的液晶顯示元件。

<圖案形成步驟>

首先，系執(zhí)行使用上述各實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置將圖案像形成于感光性基板(涂布有光阻的玻璃基板等)的所謂光微影步驟。藉由此光微影步驟，于感光性基板上形成包含多數(shù)個(gè)電極等的既定圖案。其后，經(jīng)曝光的基板，藉由經(jīng)過(guò)顯影步驟、蝕刻步驟、光阻剝離步驟等各步驟而于基板上形成既定圖案。

<彩色濾光片形成步驟>

其次，形成與r(red)、g(green)、b(blue)對(duì)應(yīng)的三個(gè)點(diǎn)的組多數(shù)個(gè)排列成矩陣狀、或?qū)、g、b的三條條紋的濾光器組復(fù)數(shù)個(gè)排列于水平掃描線(xiàn)方向的彩色濾光片。

<單元組裝步驟>

接著，使用在圖案形成步驟制得的具有既定圖案的基板、以及在彩色濾光片形成步驟制得的彩色濾光片等組裝液晶面板(液晶單元)。例如于在圖案形成步驟制得的具有既定圖案的基板與在彩色濾光片形成步驟制得的彩色濾光片之間注入液晶，而制造液晶面板(液晶單元)。

<模組組裝步驟>

其后，安裝用以進(jìn)行已組裝完成的液晶面板(液晶單元)的顯示動(dòng)作的電路、背光等各零件，而完成液晶顯示元件。

此時(shí)，在圖案形成步驟中，由于系使用上述各實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置而能以高產(chǎn)能且高精度進(jìn)行板體的曝光，其結(jié)果能提升液晶顯示元件的生產(chǎn)性。