本發(fā)明關(guān)于一種校正設(shè)備及校正方法，更特別的是關(guān)于用于對曝光機(jī)的發(fā)光均勻度進(jìn)行校正的發(fā)光均勻度校正設(shè)備及其校正方法。

背景技術(shù)：

目前產(chǎn)業(yè)界制造電路板時(shí)普遍需利用到曝光機(jī)，而具有由多個(gè)光源組成的發(fā)光模塊的多光源曝光機(jī)也越來越受到重視，一般來說，該發(fā)光模塊的光源系由多個(gè)發(fā)光二極管所組成，但這些發(fā)光二極管由于其自身特性的不同(例如制程差異、使用時(shí)數(shù)不同等)而會造成各該發(fā)光二極管的發(fā)光強(qiáng)度不同，使該發(fā)光模塊發(fā)光不均勻，其會直接使得感光電路板吸收的光能不均，進(jìn)而造成當(dāng)下曝光的感光電路板報(bào)廢，因此確保多光源曝光機(jī)的發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度被視為一個(gè)重要的議題。

然而，目前現(xiàn)有的多光源曝光機(jī)，并未具有一個(gè)自動(dòng)化設(shè)備來自動(dòng)檢測以確保曝光機(jī)的發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度，而是讓作業(yè)人員透過一手持式檢測設(shè)備來對該發(fā)光模塊上的各個(gè)光源進(jìn)行手動(dòng)量測，使用上并不方便；更或者是直接利用該曝光機(jī)對一個(gè)質(zhì)地均勻的感光電路板進(jìn)行曝光作業(yè)后，分析該電路板各個(gè)位置的曝光程度來驗(yàn)證發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度，此種檢測方式非常耗時(shí)且成本過高。

因此，如何研發(fā)出一種發(fā)光均勻度校正設(shè)備及其校正方法，以確保曝光機(jī)的發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度進(jìn)而提升電路板的制造良率，將是本發(fā)明所欲積極公開之處。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的一目的在于提供一種能自動(dòng)更正曝光機(jī)的發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度的校正設(shè)備。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種校正曝光機(jī)的發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度的校正方法。

為達(dá)上述目的及其他目的，本發(fā)明提出一種發(fā)光均勻度校正設(shè)備，適用于對曝光機(jī)的一發(fā)光模塊進(jìn)行發(fā)光均勻度校正，且該發(fā)光模塊系具有多個(gè)發(fā)光單元以產(chǎn)生一面光源，該發(fā)光均勻度校正設(shè)備系包含一感測模塊、一移動(dòng)模塊、一處理模塊及一調(diào)整模塊。該感測模塊系與該發(fā)光模塊的發(fā)光面相對設(shè)置，并于對應(yīng)該發(fā)光面的多個(gè)取樣位置上對該發(fā)光面進(jìn)行光強(qiáng)度感測，且根據(jù)于各該取樣位置所感測的光線的強(qiáng)度而分別產(chǎn)生對應(yīng)的一光強(qiáng)度訊號；該移動(dòng)模塊系根據(jù)一取樣位置信息訊號，使該感測模塊與該發(fā)光模塊之間產(chǎn)生相對位移以于各該取樣位置間進(jìn)行移動(dòng)；該處理模塊系與該感測模塊及該移動(dòng)模塊相耦接，并輸出該取樣位置信息訊號且接收該感測模塊于各該取樣位置所產(chǎn)生的光強(qiáng)度訊號，并于該發(fā)光面的發(fā)光均勻度不符合一均勻度標(biāo)準(zhǔn)時(shí)產(chǎn)生對應(yīng)的一校正訊號；及該調(diào)整模塊系與該處理模塊及該發(fā)光模塊相耦接，系根據(jù)該校正訊號對應(yīng)地調(diào)整這些發(fā)光單元中的至少一者的發(fā)光強(qiáng)度。

于本發(fā)明的一實(shí)施例中，該調(diào)整模塊系根據(jù)該校正訊號分別調(diào)整對這些發(fā)光單元中的至少一者的供電量，以分別改變被調(diào)整的各該發(fā)光單元的發(fā)光強(qiáng)度。

于本發(fā)明的一實(shí)施例中，該處理模塊取得該面光源上具有異常光強(qiáng)度的區(qū)塊的一異常坐標(biāo)位置信息及一異常光強(qiáng)度信息，并將該異常坐標(biāo)位置信息及該異常光強(qiáng)度信息搭載于該校正訊號來輸出。

于本發(fā)明的一實(shí)施例中，該調(diào)整模塊系根據(jù)該異常坐標(biāo)位置信息來定位出發(fā)光異常的發(fā)光單元，并根據(jù)該異常光強(qiáng)度信息來調(diào)整被定位的發(fā)光單元的發(fā)光強(qiáng)度。

于本發(fā)明的一實(shí)施例中，該感測模塊系為光電轉(zhuǎn)換器。

于本發(fā)明的一實(shí)施例中，該光電轉(zhuǎn)換器系具有光電二極管。

為達(dá)上述目的及其他目的，本發(fā)明還提出一種發(fā)光均勻度校正方法，系使用上述的發(fā)光均勻度校正設(shè)備來對曝光機(jī)的發(fā)光模塊進(jìn)行發(fā)光均勻度校正，該發(fā)光均勻度校正方法系包含分辨率設(shè)定步驟、光強(qiáng)度感測步驟、均勻度分析步驟及均勻度校正步驟。該分辨率設(shè)定步驟系設(shè)定該曝光機(jī)的發(fā)光模塊的多個(gè)取樣位置的數(shù)量及坐標(biāo)；該光強(qiáng)度感測步驟系分別于這些取樣位置上對該曝光機(jī)的發(fā)光模塊的發(fā)光面進(jìn)行光強(qiáng)度感測；該均勻度分析步驟系根據(jù)各該取樣位置的光強(qiáng)度進(jìn)行分析并判斷各該取樣位置的光強(qiáng)度是否符合該均勻度標(biāo)準(zhǔn)，若不符合系進(jìn)入該均勻度校正步驟，若符合則結(jié)束該校正方法；及該均勻度校正步驟系根據(jù)光強(qiáng)度異常的取樣位置取得對應(yīng)該取樣位置的發(fā)光單元，并對該發(fā)光單元的發(fā)光強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)整。

于本發(fā)明的一實(shí)施例中，該均勻度校正步驟后更包含均勻度確保步驟，系再次分別于這些取樣位置上對該發(fā)光面進(jìn)行光強(qiáng)度感測，并判斷各該取樣位置的光強(qiáng)度是否符合該均勻度標(biāo)準(zhǔn)，若不符合系進(jìn)入該均勻度校正步驟，若符合則結(jié)束該校正方法。

由此，本發(fā)明的發(fā)光均勻度校正設(shè)備及其校正方法，系以自動(dòng)化設(shè)備來對該曝光機(jī)的發(fā)光模塊進(jìn)行發(fā)光均勻度校正，可迅速地且方便地針對于該發(fā)光模塊的發(fā)光強(qiáng)度有異常的區(qū)域各別進(jìn)行調(diào)整，以確保該發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度，進(jìn)而提升電路板的制造良率。

附圖說明

圖1a及圖1b為設(shè)置有本發(fā)明的發(fā)光均勻度校正設(shè)備的曝光機(jī)于不同視角的立體圖。

圖2為本發(fā)明發(fā)光均勻度校正設(shè)備的一實(shí)施例的功能方塊圖。

圖3a及圖3b為本發(fā)明的感測模塊分別以高分辨率及低分辨率對該發(fā)光模塊進(jìn)行感測的示意圖。

圖4為本發(fā)明的發(fā)光均勻度校正方法的流程圖。

附圖標(biāo)記為：

1曝光機(jī)

10發(fā)光均勻度校正設(shè)備

110感測模塊

120移動(dòng)模塊

120ax軸向移動(dòng)單元

120by軸向移動(dòng)單元

130處理模塊

140調(diào)整模塊

20發(fā)光模塊

210發(fā)光單元

210a發(fā)光單元

210b發(fā)光單元

s10～s18步驟

具體實(shí)施方式

為充分了解本發(fā)明的目的、特征及效果，現(xiàn)通過下述具體的實(shí)施例，并配合附圖，對本發(fā)明做一詳細(xì)說明，說明如后：

請參閱圖1a及圖1b，系為設(shè)置有本發(fā)明的發(fā)光均勻度校正設(shè)備的曝光機(jī)于不同視角的立體圖。該曝光機(jī)1的一側(cè)設(shè)置有該發(fā)光均勻度校正設(shè)備10，該發(fā)光均勻度校正設(shè)備10系透過一感測模塊110，來針對該曝光機(jī)1的發(fā)光模塊20所具有的多個(gè)發(fā)光單元210進(jìn)行檢測，并供發(fā)光單元210的光強(qiáng)度調(diào)整作業(yè)的進(jìn)行，以確保各該發(fā)光單元210所產(chǎn)生的光強(qiáng)度一致，進(jìn)而使該曝光機(jī)1能對一待曝光物(圖未示)進(jìn)行均勻的曝光作業(yè)。其中，每一個(gè)發(fā)光單元210系可由單個(gè)發(fā)光二極管或是多個(gè)發(fā)光二極管所組成。

請一并參閱圖2，系為本發(fā)明發(fā)光均勻度校正設(shè)備10的一實(shí)施例的功能方塊圖。該發(fā)光均勻度校正設(shè)備10具有該感測模塊110、一移動(dòng)模塊120、一處理模塊130及一調(diào)整模塊140。

該感測模塊110系用于在不同的取樣位置上對該發(fā)光模塊20的發(fā)光面(即這些發(fā)光單元210的投光面)進(jìn)行光強(qiáng)度感測，于本實(shí)施例中，該感測模塊110系為光電轉(zhuǎn)換器，其中該光電轉(zhuǎn)換器可具有一光電二極管，當(dāng)各該發(fā)光單元210所產(chǎn)生的光到達(dá)光電二極管的光敏感區(qū)域后，該感測模塊110即會根據(jù)所接收到的光的強(qiáng)度而產(chǎn)生對應(yīng)的一光強(qiáng)度訊號，本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者能了解的是，該光強(qiáng)度訊號可為根據(jù)光強(qiáng)度而對應(yīng)產(chǎn)生的一電流訊號或者一電壓訊號。

該移動(dòng)模塊120系根據(jù)一取樣位置信息訊號，以使該感測模塊110與該發(fā)光模塊20之間產(chǎn)生相對位移，于本實(shí)施例中，該移動(dòng)模塊120系包括一x軸向移動(dòng)單元120a及一y軸向移動(dòng)單元120b，該感測模塊110系設(shè)置于該x軸向移動(dòng)單元120a上而該發(fā)光模塊20系設(shè)置于該y軸向移動(dòng)單元120b上，使該感測模塊110能于x軸的延伸方向移動(dòng)而該發(fā)光模塊20能于y軸的延伸方向移動(dòng)，透過該x軸向移動(dòng)單元120a及該y軸向移動(dòng)單元120b的協(xié)動(dòng)作業(yè)，該移動(dòng)模塊120能使該感測模塊110能于各該取樣位置間移動(dòng)，并使該感測模塊110于各該取樣位置上分別地對該對該發(fā)光模塊20進(jìn)行感測。

該處理模塊130系與該感測模塊110及該移動(dòng)模塊120相耦接，當(dāng)一使用者(圖未示)透過一設(shè)定裝置(圖未示)輸入多個(gè)取樣位置坐標(biāo)至該處理模塊130后，該處理模塊130系產(chǎn)生對應(yīng)的取樣位置信息訊號并輸出至該移動(dòng)模塊120，值得注意的是，這些取樣位置坐標(biāo)的數(shù)量及密集程度系可根據(jù)用戶需求或是感光電路板所需的曝光精度需求而有所調(diào)整，若使用低分辨率(即這些取樣位置坐標(biāo)的數(shù)量少或密集程度松散)，可減少校正作業(yè)時(shí)間；若使用高分辨率(即這些取樣位置坐標(biāo)的數(shù)量多或密集程度緊密)，則可提高發(fā)光均勻度的校正精度。

再者，當(dāng)該處理模塊130接收到該感測模塊110于各該取樣位置所感測產(chǎn)生的光強(qiáng)度訊號后，該處理模塊130系根據(jù)這些光強(qiáng)度訊號來分析該發(fā)光模塊20的發(fā)光面的發(fā)光均勻度，并于該發(fā)光面的發(fā)光均勻度不符合一均勻度標(biāo)準(zhǔn)時(shí)產(chǎn)生對應(yīng)的一校正訊號，例如，該處理模塊130系可將于不同取樣位置所取得的光強(qiáng)度訊號進(jìn)行比較，以分析出該發(fā)光模塊20的發(fā)光面的哪個(gè)區(qū)塊有異常光強(qiáng)度的情事發(fā)生，并將該區(qū)塊的所在位置及光強(qiáng)度的異常程度轉(zhuǎn)換成一異常坐標(biāo)位置信息及一異常光強(qiáng)度信息，并將該異常坐標(biāo)位置信息及該異常光強(qiáng)度信息搭載于該校正訊號來輸出。值得注意的是，上述的均勻度標(biāo)準(zhǔn)系可為預(yù)先搭載于該處理模塊130中的均勻度判斷標(biāo)準(zhǔn)，亦可為由這些光強(qiáng)度訊號進(jìn)行分析演算后所獲得的均勻度判斷標(biāo)準(zhǔn)。

該調(diào)整模塊140系與該處理模塊130及該發(fā)光模塊20相耦接，該調(diào)整模塊140根據(jù)該處理模塊130所輸出的校正訊號，對應(yīng)地調(diào)整該發(fā)光模塊20的各該發(fā)光單元210中的至少一者的發(fā)光強(qiáng)度。例如，該調(diào)整模塊140系根據(jù)該校正訊號中所搭載的異常坐標(biāo)位置信息來定位出發(fā)光異常的發(fā)光單元210，并根據(jù)該校正訊號中所搭載的異常光強(qiáng)度信息來調(diào)整改變被定位的發(fā)光單元210的發(fā)光強(qiáng)度，以這些發(fā)光單元210由發(fā)光二極管所組成為例，由于發(fā)光二極管的發(fā)光強(qiáng)度系于其所接收到的電量多寡呈現(xiàn)接近線性關(guān)系，因此透過分別改變對這些發(fā)光單元210的供電量，即可分別改變各該發(fā)光單元210的發(fā)光強(qiáng)度，進(jìn)而改善該發(fā)光模塊20的發(fā)光均勻度。

請參閱圖3a及圖3b，系為本發(fā)明的感測模塊110于各該取樣位置對該發(fā)光模塊20進(jìn)行感測的示意圖，其中圖3a系以高分辨率進(jìn)行感測作業(yè)的示意圖，圖3b以低分辨率進(jìn)行感測作業(yè)的示意圖，且于這些圖式中的「·」及「▲」個(gè)別代表一個(gè)取樣位置，而箭頭所指方向?yàn)樵摳袦y模塊110與該發(fā)光模塊20之間產(chǎn)生相對移動(dòng)的路徑。

透過該x軸向移動(dòng)單元120a及該y軸向移動(dòng)單元120b的協(xié)動(dòng)作業(yè)，使該感測模塊110能夠相對的于散布在該發(fā)光模塊20的發(fā)光面上的各該取樣位置間移動(dòng)，用戶可使用如圖3a的高分辨率(即取樣位置的數(shù)量多或密集程度緊密)并以s形路徑移動(dòng)的方式進(jìn)行感測作業(yè)，亦可使用如圖3b的低分辨率(即取樣位置的數(shù)量少或密集程度松散)并以環(huán)繞形路徑移動(dòng)的方式進(jìn)行感測作業(yè)，由此，該處理模塊130可根據(jù)該感測模塊110于各個(gè)取樣位置所產(chǎn)生的光強(qiáng)度訊號來分析該發(fā)光模塊20的發(fā)光面的發(fā)光均勻度，若該處理模塊110判斷于「▲」取樣位置的發(fā)光強(qiáng)度異常(光強(qiáng)度相較于其他位置過強(qiáng)或是過弱)，該處理模塊110即透過該調(diào)整模塊140來對「▲」取樣位置所對應(yīng)的發(fā)光單元210a，210b進(jìn)行發(fā)光強(qiáng)度的調(diào)整，進(jìn)而改善該發(fā)光模塊20的發(fā)光均勻度。

值得注意的是，這些取樣位置的數(shù)量、密集程度或是該感測模塊相對于該發(fā)光模塊的行進(jìn)路徑，皆可根據(jù)用戶的使用需求或是感光電路板所需的曝光精度需求而有所調(diào)整搭配，不應(yīng)以此實(shí)施例為限。

請參閱圖4，系為本發(fā)明的發(fā)光均勻度校正方法的流程圖，該發(fā)光均勻度校正方法系包含：

s10：分辨率設(shè)定步驟，設(shè)定這些取樣位置的數(shù)量及坐標(biāo)；

s12：光強(qiáng)度感測步驟，分別于這些取樣位置上對該發(fā)光面進(jìn)行光強(qiáng)度感測；

s14：均勻度分析步驟，根據(jù)各該取樣位置的光強(qiáng)度進(jìn)行分析并判斷各該取樣位置的光強(qiáng)度是否符合該均勻度標(biāo)準(zhǔn)，若不符合進(jìn)入步驟s16，若符合則結(jié)束該校正方法；及

s16：均勻度校正步驟，根據(jù)光強(qiáng)度異常的取樣位置取得對應(yīng)該取樣位置的發(fā)光單元，并對該發(fā)光單元的發(fā)光強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)整。

為確保第一次校正完成的發(fā)光模塊是否已達(dá)到所需求的發(fā)光均勻度，步驟s16后還包含：

s18：均勻度確保步驟，再次分別于這些取樣位置上對該發(fā)光面進(jìn)行光強(qiáng)度感測，并判斷各該取樣位置的光強(qiáng)度是否符合該均勻度標(biāo)準(zhǔn)，若不符合系進(jìn)入步驟s16，若符合則結(jié)束該校正方法。

由此，本發(fā)明的發(fā)光均勻度校正設(shè)備及其校正方法，以自動(dòng)化設(shè)備來對該曝光機(jī)的發(fā)光模塊進(jìn)行發(fā)光均勻度校正，可迅速地且方便地針對于該發(fā)光模塊的發(fā)光強(qiáng)度有異常的區(qū)域各別進(jìn)行調(diào)整，以確保該發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度，進(jìn)而提升電路板的制造良率。

本發(fā)明在上文中已以優(yōu)選實(shí)施例公開，然本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解的是，該實(shí)施例僅用于描繪本發(fā)明，而不應(yīng)解讀為限制本發(fā)明的范圍。應(yīng)注意的是，舉凡與該實(shí)施例等效的變化與置換，均應(yīng)落入本發(fā)明的范疇內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)以權(quán)利要求書限定。