技術(shù)編號(hào)：12862979
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明關(guān)于一種校正設(shè)備及校正方法，更特別的是關(guān)于用于對曝光機(jī)的發(fā)光均勻度進(jìn)行校正的發(fā)光均勻度校正設(shè)備及其校正方法。背景技術(shù)目前產(chǎn)業(yè)界制造電路板時(shí)普遍需利用到曝光機(jī)，而具有由多個(gè)光源組成的發(fā)光模塊的多光源曝光機(jī)也越來越受到重視，一般來說，該發(fā)光模塊的光源系由多個(gè)發(fā)光二極管所組成，但這些發(fā)光二極管由于其自身特性的不同(例如制程差異、使用時(shí)數(shù)不同等)而會(huì)造成各該發(fā)光二極管的發(fā)光強(qiáng)度不同，使該發(fā)光模塊發(fā)光不均勻，其會(huì)直接使得感光電路板吸收的光能不均，進(jìn)而造成當(dāng)下曝光的感光電路板報(bào)廢，因此確保多光源曝光機(jī)...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。