技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)一種發(fā)光均勻度校正設(shè)備，適用于對(duì)曝光機(jī)的發(fā)光模塊進(jìn)行發(fā)光均勻度校正。透過(guò)感測(cè)模塊于對(duì)應(yīng)發(fā)光模塊所分布的各個(gè)取樣位置感測(cè)產(chǎn)生光強(qiáng)度訊號(hào)，處理模塊根據(jù)這些光強(qiáng)度訊號(hào)來(lái)分析該發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度，并于該發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度不符合一均勻度標(biāo)準(zhǔn)時(shí)產(chǎn)生對(duì)應(yīng)的一校正訊號(hào)，而調(diào)整模塊系根據(jù)校正訊號(hào)對(duì)應(yīng)地調(diào)整該發(fā)光模塊所具有的發(fā)光單元中的至少一者的發(fā)光強(qiáng)度。由此，透過(guò)自動(dòng)化設(shè)備來(lái)對(duì)該發(fā)光模塊進(jìn)行發(fā)光均勻度校正，可迅速方便地針對(duì)發(fā)光強(qiáng)度有異常的區(qū)域各別進(jìn)行調(diào)整來(lái)確保發(fā)光均勻度，進(jìn)而提升電路板的制造良率。

技術(shù)研發(fā)人員：張鴻明
受保護(hù)的技術(shù)使用者：川寶科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.04.27
技術(shù)公布日：2017.11.03