技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種表膜。[課題]目的在于提供：FPD用途中使用分辨率2.0μm及以下的曝光機時使用的面積1000cm2以上的表膜，其為對圖案尺寸精度造成的影響少、被轉(zhuǎn)印的圖案中不產(chǎn)生不良情況的表膜。[解決手段]一種表膜，其包含：具備面積1000cm2以上的俯視矩形的開口部的表膜用框體；位于該表膜用框體的一個端面的以覆蓋前述開口部的方式張開而得到支撐的表膜用膜；以及位于前述表膜用框體的另一個端面的掩模粘合劑，前述表膜用膜的膜厚為1.0μm以上且3.0μm以下，前述表膜用膜面內(nèi)的膜厚波動為80nm以下。

技術(shù)研發(fā)人員：丸山公幸;中原辰典;藤川尊
受保護的技術(shù)使用者：旭化成株式會社
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.05
技術(shù)公布日：2017.10.20