本發(fā)明涉及表膜。

背景技術(shù)：

以往，半導(dǎo)體電路圖案等的制造中，一般進(jìn)行如下操作：使用被稱(chēng)為表膜的防塵手段來(lái)防止異物附著于光掩模、標(biāo)線(xiàn)上。表膜如下：例如在具有與光掩?；驑?biāo)線(xiàn)的形狀吻合的形狀的厚度數(shù)毫米左右的框體的上緣面上，將厚度10μm以下的硝化纖維素或纖維素衍生物或氟聚合物等的透明的高分子膜(以下，稱(chēng)為“表膜用膜”)張開(kāi)并粘接，且在該框體的下緣面上涂覆粘合劑，并且在該粘合劑上以規(guī)定的粘接力粘合保護(hù)膜，從而得到。

上述粘合劑用于使表膜固著于光掩?；驑?biāo)線(xiàn)，另外，保護(hù)膜保護(hù)該粘合劑的粘接面，用來(lái)維持該粘合劑的粘接力直至該粘合劑被供以使用。

這樣的表膜一般從制造表膜的制造商供給至制造光掩模或標(biāo)線(xiàn)的制造商，在此將表膜粘貼于光掩模或標(biāo)線(xiàn)后，供給至半導(dǎo)體制造商、面板制造商等進(jìn)行光刻的制造商。

作為表膜用膜，與用于曝光的光源相對(duì)應(yīng)地，選擇并使用最佳的材料。例如，krf激光(248nm)以下的短波長(zhǎng)的情況下，使用了具有充分的透射率和耐光性的氟系樹(shù)脂。

另一方面，fpd用時(shí)，作為光源，一般使用高壓汞燈、超高壓汞燈，由于使用240nm～600nm的寬頻帶的波長(zhǎng)，因此使用有硝化纖維素、乙基纖維素、丙酸纖維素等纖維素系樹(shù)脂、環(huán)烯烴樹(shù)脂、氟系樹(shù)脂、聚乙烯醇縮醛樹(shù)脂等。

另外，半導(dǎo)體用途中也存在使用g&i射線(xiàn)等長(zhǎng)波長(zhǎng)的曝光，上述情況下，除氟系之外也已經(jīng)使用有纖維素系樹(shù)脂、環(huán)烯烴系樹(shù)脂、聚乙烯醇縮醛樹(shù)脂等(例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1～3)。

fpd中，出于提高生產(chǎn)率的目的，存在線(xiàn)寬更細(xì)的電路的期望，逐漸要求高的曝光波長(zhǎng)，開(kāi)發(fā)了與其相對(duì)應(yīng)的大型表膜用膜(例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)4)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)平04-081854號(hào)公報(bào)

專(zhuān)利文獻(xiàn)2：日本特開(kāi)平01-133052號(hào)公報(bào)

專(zhuān)利文獻(xiàn)3：日本特開(kāi)平07-199451號(hào)公報(bào)

專(zhuān)利文獻(xiàn)4：日本特開(kāi)2012-212043號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的問(wèn)題

對(duì)于以往的fpd的曝光波長(zhǎng)，不怎么需要分辨率的圖案多，因此如果在寬頻帶下平均透射率為90％以上，則可以沒(méi)有問(wèn)題地使用表膜用膜。然而近年來(lái)，fpd的世界中，對(duì)于以智能手機(jī)為代表的、最先進(jìn)的高功能移動(dòng)設(shè)備用途、高精細(xì)有機(jī)el面板和液晶面板用途，開(kāi)發(fā)了致力于高分辨率/高精度對(duì)準(zhǔn)的曝光裝置。

因此，等倍投影曝光中有如下動(dòng)向：想要使用i射線(xiàn)單波長(zhǎng)或i射線(xiàn)、g射線(xiàn)、j射線(xiàn)等特定波長(zhǎng)的混合波長(zhǎng)(以下，稱(chēng)為“特定混合波長(zhǎng)”)來(lái)繪制更高分辨率的電路。此時(shí)，為了減小被稱(chēng)為圖案尺寸精度(cd)的掩模圖案與設(shè)計(jì)圖案的幾何學(xué)形狀誤差，曝光機(jī)制造商、掩模制造商對(duì)曝光機(jī)、掩?；ㄙM(fèi)了各種工夫。

半導(dǎo)體用途中已經(jīng)使用了g&i射線(xiàn)波長(zhǎng)等，如專(zhuān)利文獻(xiàn)1～3那樣，作為能夠與g射線(xiàn)、i射線(xiàn)任意者共用的表膜，通過(guò)設(shè)計(jì)膜厚，從而提高透射率，提供沒(méi)有問(wèn)題的表膜。

然而，面積1000cm²以上的fpd(平板顯示器)用途中，以分辨率2.0μm及以下(稱(chēng)為“分辨率2.0μm以下”)為目標(biāo)，在i射線(xiàn)單波長(zhǎng)、特定混合波長(zhǎng)下進(jìn)行曝光的情況下，明確了如下事項(xiàng)：僅關(guān)注透射率，即便制作了表膜，分辨率也降低，轉(zhuǎn)印得到的圖案的線(xiàn)寬細(xì)，或者圖案與圖案發(fā)生接觸，或者引起圖案的中斷不良等，引起局部不良。

以往，表膜發(fā)揮保護(hù)掩模免受異物影響的作用，透射率只要在一定范圍內(nèi)就可以沒(méi)有不良情況地使用。然而首次發(fā)現(xiàn)，變?yōu)楦呔?xì)用途，面板制造商、曝光機(jī)制造商即使最后粘貼表膜進(jìn)行曝光而減少cd時(shí)，cd也變大至預(yù)計(jì)以上，表膜對(duì)圖案造成不良影響。

本發(fā)明是鑒于上述問(wèn)題而作出的，目的在于提供：fpd用途中使用分辨率2.0μm以下的曝光機(jī)時(shí)使用的面積1000cm²以上的大型表膜，其為對(duì)圖案尺寸精度造成的影響少、且被轉(zhuǎn)印的圖案中不產(chǎn)生不良情況的表膜。

用于解決問(wèn)題的方案

為了解決上述課題，本發(fā)明人等進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)：通過(guò)使表膜用膜面內(nèi)的膜厚波動(dòng)為某個(gè)范圍內(nèi)，從而可以解決上述課題，至此完成了本發(fā)明。

即，本發(fā)明如以下所述。

[1]

一種表膜，其包含：具備面積1000cm²以上的俯視矩形的開(kāi)口部的表膜用框體；位于該表膜用框體的一個(gè)端面的以覆蓋前述開(kāi)口部的方式張開(kāi)而得到支撐的表膜用膜；以及位于前述表膜用框體的另一個(gè)端面的掩模粘合劑，

前述表膜用膜的膜厚為1.0μm以上且3.0μm以下，前述表膜用膜面內(nèi)的膜厚波動(dòng)為80nm以下。

[2]

根據(jù)[1]所述的表膜，其中，前述表膜用膜對(duì)365nm波長(zhǎng)的透射率為95％以上。

[3]

根據(jù)[1]或[2]所述的表膜，其中，使用粘附有前述表膜的掩模進(jìn)行曝光時(shí)，被轉(zhuǎn)印的l/s(豎條花紋)的圖案尺寸精度的面內(nèi)極差為200nm以下。

[4]

根據(jù)[1]～[3]中任一所述的表膜，其中，使用粘附有前述表膜的掩模進(jìn)行曝光時(shí)，被轉(zhuǎn)印的接觸孔的圖案尺寸精度的面內(nèi)極差為300nm以下。

發(fā)明的效果

根據(jù)本發(fā)明，可以提供：fpd用途中使用分辨率2.0μm及以下的曝光機(jī)時(shí)能夠使用的面積1000cm²以上的表膜，其為對(duì)圖案尺寸精度造成的影響少、且被轉(zhuǎn)印的圖案中不產(chǎn)生不良情況的表膜。

附圖說(shuō)明

圖1為實(shí)施例1的晶圓上的圖案的sem照片。

圖2為比較例1的晶圓上的圖案的sem照片。

圖3為示出cd測(cè)定中的線(xiàn)與間隙(l/s)圖案的圖。

圖4為使用由實(shí)施例4制作的表膜進(jìn)行曝光時(shí)，轉(zhuǎn)印得到的接觸孔的sem照片。

圖5為使用由比較例1制作的表膜進(jìn)行曝光時(shí)，轉(zhuǎn)印得到的接觸孔的sem照片。

具體實(shí)施方式

以下，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式(以下，稱(chēng)為“本實(shí)施方式”)進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，但本發(fā)明不限定于此，在不脫離其主旨的范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變形。

〔表膜〕

本實(shí)施方式的表膜為如下的表膜，包含：具備面積1000cm²以上的俯視矩形的開(kāi)口部的表膜用框體；位于該表膜用框體的一個(gè)端面的以覆蓋前述開(kāi)口部的方式張開(kāi)而得到支撐的表膜用膜；以及位于前述表膜用框體的另一個(gè)端面的掩模粘合劑，前述表膜用膜的膜厚為1.0μm以上且3.0μm以下，前述表膜用膜面內(nèi)的膜厚波動(dòng)為80nm以下。

(表膜用膜)

本實(shí)施方式中的表膜用膜是位于表膜用框體的一個(gè)端面的以覆蓋前述開(kāi)口部的方式張開(kāi)而得到支撐的物質(zhì)。作為構(gòu)成這樣的表膜用膜的成分，沒(méi)有特別限制，例如可以使用：纖維素衍生物(硝化纖維素、纖維素乙酸酯、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等、或這些2種以上的混合物)、氟系聚合物(四氟乙烯-偏氟乙烯-六氟丙烯的三元共聚物、主鏈上具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)的聚合物即dupont株式會(huì)社制的teflonaf(商品名)、旭硝子株式會(huì)社制的cytop(商品名)、solvay株式會(huì)社制的algoflon(商品名)等)等聚合物等。

對(duì)于作為目前使用的等倍投影曝光液晶曝光機(jī)的光源的超高壓汞燈，從耐光性、成本的方面出發(fā)，可以?xún)?yōu)選使用纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯、cytop、teflonaf等氟系聚合物。

上述聚合物可以利用適于各自的溶劑(酮系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑、氟系溶劑等)使其溶解而作為聚合物溶液使用。特別是，對(duì)于上述纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯，優(yōu)選乳酸乙酯等酯系溶劑。另外，對(duì)于cytop、teflonaf等氟系聚合物，優(yōu)選三(全氟丁基)胺等氟系溶劑。聚合物溶液可以根據(jù)需要通過(guò)深層過(guò)濾器、膜濾器等進(jìn)行過(guò)濾。

表膜用膜的厚度為1.0～3.0μm，優(yōu)選為1.4～2.8μm，更優(yōu)選為1.5～2.6μm，進(jìn)一步優(yōu)選為1.6～2.5μm。通過(guò)表膜用膜的厚度處于上述范圍，光的光路變短，由波長(zhǎng)所導(dǎo)致的相位差變小，因此，適于使用i射線(xiàn)單波長(zhǎng)、特定混合波長(zhǎng)的情況。另外，通過(guò)表膜用膜的厚度處于上述范圍，有能夠更容易將透射率調(diào)整為95％以上的傾向。進(jìn)而，通過(guò)表膜用膜的厚度處于上述范圍，成膜時(shí)從基板剝離膜時(shí)能夠不引起膜破裂地干凈地剝離，因此成品率也進(jìn)一步提高。另外，表膜操作時(shí)也不會(huì)引起膜破裂，進(jìn)而，利用鼓風(fēng)除去附著于表膜用膜的異物時(shí)，也不會(huì)發(fā)生破裂，故優(yōu)選。

需要說(shuō)明的是，表膜用膜的厚度可以通過(guò)調(diào)整聚合物溶液的濃度、涂布條件(例如涂布速度、干燥時(shí)間等)來(lái)減少。另外，表膜用膜的厚度可以利用實(shí)施例中記載的方法來(lái)測(cè)定。

表膜用膜的膜面內(nèi)的膜厚波動(dòng)為80nm以下，優(yōu)選為70nm以下，更優(yōu)選為50nm以下，進(jìn)一步優(yōu)選為45nm以下，更進(jìn)一步優(yōu)選為35nm以下。表膜用膜的膜面內(nèi)的膜厚波動(dòng)為0nm是理想的，但表膜的情況下，表膜框架外形的面積為1000cm²以上，因此使波動(dòng)為0nm在生產(chǎn)上是更進(jìn)一步困難的。出于這樣的生產(chǎn)上的問(wèn)題，一般來(lái)說(shuō)，認(rèn)為10nm以上包含制造波動(dòng)，但對(duì)于這一點(diǎn)沒(méi)有特別限制。另外，通過(guò)表膜用膜的膜面內(nèi)的膜厚波動(dòng)為上述范圍內(nèi)，即使表膜的面積大，cd也落入規(guī)定的范圍，面內(nèi)的cd波動(dòng)變小，故優(yōu)選。將折射率設(shè)為n、膜厚設(shè)為d時(shí)，光的光路(感到光的距離)可以由n×d簡(jiǎn)易地表示。實(shí)際上，光相對(duì)于膜面不是僅為直角入射，還與相位的角度有關(guān)系，因此也包含斜向入射。因此認(rèn)為，減少膜厚波動(dòng)時(shí)，表膜整體能夠描繪一致的圖案。特別是，為等倍投影曝光的情況下，認(rèn)為更強(qiáng)烈地受到該影響。

需要說(shuō)明的是，表膜用膜的膜面內(nèi)的膜厚波動(dòng)利用旋涂機(jī)、狹縫涂布機(jī)容易調(diào)整，通過(guò)調(diào)整轉(zhuǎn)速、聚合物溶液的濃度、噴嘴涂布條件可以使其減少。另外，表膜用膜的膜面內(nèi)的膜厚波動(dòng)可以利用實(shí)施例中記載的方法來(lái)測(cè)定。

使用粘附有表膜的掩模進(jìn)行曝光時(shí)，對(duì)于被轉(zhuǎn)印的cd的面內(nèi)極差，以l/s(豎條花紋、縦縞模樣)計(jì)，優(yōu)選為200nm以下，更優(yōu)選為150nm以下，進(jìn)一步優(yōu)選為100nm以下，更進(jìn)一步優(yōu)選為80nm以下。

另外，使用粘附有表膜的掩模進(jìn)行曝光時(shí)形成接觸孔的情況下，對(duì)于被轉(zhuǎn)印的接觸孔的cd的面內(nèi)極差，優(yōu)選為300nm以下，更優(yōu)選為250nm以下，進(jìn)一步優(yōu)選為200nm以下，更進(jìn)一步優(yōu)選為150nm以下。

通過(guò)l/s和接觸孔的cd的面內(nèi)極差處于上述范圍，分辨率為2.0μm及以下的等倍投影曝光的情況下，即使為大面積，也趨向不會(huì)產(chǎn)生如下情況：線(xiàn)與線(xiàn)之間的間隙接觸、無(wú)法確保期望的孔、圖案的中斷不良。

表膜用膜對(duì)i射線(xiàn)(365nm)的波長(zhǎng)的透射率優(yōu)選為95％以上，更優(yōu)選為97％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為98％以上。另外，表膜用膜對(duì)i射線(xiàn)(365nm)的波長(zhǎng)的透射率的上限沒(méi)有特別限制，優(yōu)選為100％，更優(yōu)選為99.8％以下。需要說(shuō)明的是，通過(guò)表膜用膜對(duì)i射線(xiàn)(365nm)的波長(zhǎng)的透射率為95％以上，有分辨率進(jìn)一步提高的傾向。這是由于，為了達(dá)成分辨率2.0μm、特別是1.5μm以及1.5μm以下、進(jìn)而1.2μm以及1.2μm以下，使用了i射線(xiàn)。另外，通過(guò)表膜用膜對(duì)i射線(xiàn)(365nm)的波長(zhǎng)的透射率為99.8％以下，膜厚波動(dòng)被抑制，有即使是大面積的膜也可以生產(chǎn)率良好地制造的傾向。特別是，透射率為95％以上且使膜厚波動(dòng)為80nm以下時(shí)，有cd更進(jìn)一步穩(wěn)定的傾向。

(表膜用框體)

本實(shí)施方式中的表膜用框體具備面積1000cm²以上的俯視矩形的開(kāi)口部。表膜用框體的形狀為與掩模形狀相似的矩形、正方形。因此，表膜用框體也同樣地為與掩模形狀相似的矩形、正方形。

作為表膜用框體各邊的截面形狀，為矩形、h型、t型等，沒(méi)有特別限定，但最優(yōu)選矩形形狀。截面也可以為中空結(jié)構(gòu)。

另外，表膜用框體的厚度優(yōu)選下限為3.0mm以上，更優(yōu)選下限為3.5mm以上，特別優(yōu)選為4.0mm以上。另一方面，表膜用框體的厚度的上限優(yōu)選為10mm以下，更優(yōu)選為8mm以下，進(jìn)一步優(yōu)選為7mm以下。

表膜用框體的寬度優(yōu)選的是，優(yōu)選3.5mm～30mm之間。通過(guò)處于該范圍，確保有效曝光面積，且能夠耐于表膜用膜的張力，故優(yōu)選。表膜用框體的寬度的下限更優(yōu)選為4mm以上，進(jìn)一步優(yōu)選為6mm以上，優(yōu)選的是，根據(jù)表膜用框體的面積進(jìn)行變更使其耐于膜張力。另一方面，表膜用框體的寬度的上限可以?xún)?yōu)選為30mm以下，更優(yōu)選為25mm以下，進(jìn)一步優(yōu)選為19mm以下。需要說(shuō)明是，對(duì)于寬度而言，長(zhǎng)邊、短邊的任意邊寬可以相同，也可以為各自獨(dú)立的寬度。

表膜用框體例如由鋁、鋁合金(5000系、6000系、7000系等)、鐵和鐵系合金、陶瓷(sic、aln、al2o3等)、陶瓷與金屬的復(fù)合材料(al-sic、al-aln、al-al2o3等)、碳鋼、工具鋼、不銹鋼系列、鎂合金、以及聚碳酸酯樹(shù)脂、丙烯酸類(lèi)樹(shù)脂等樹(shù)脂等形成，俯視中大致呈矩形。表膜借助掩模粘合劑層粘附于掩模，因此優(yōu)選的是，剛性高且重量較小，優(yōu)選鋁、鋁合金、鎂合金、樹(shù)脂等原材料。

本實(shí)施方式中的表膜用框體所具備的俯視矩形的開(kāi)口部的面積為1000cm²以上，優(yōu)選為5000cm²以上，更優(yōu)選為6000cm²以上。表膜用框體所具備的俯視矩形的開(kāi)口部的面積為1000cm²以上的大型的情況下，本發(fā)明的效果更進(jìn)一步發(fā)揮。需要說(shuō)明的是，考慮fpd的制造中使用的掩模等時(shí)，俯視矩形的開(kāi)口部的面積的上限只要為35000cm²就是充分的。

另外，表膜框體的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度可以為400mm以上、優(yōu)選為800mm以上，且為2100mm以下即可。

(內(nèi)壁、透氣孔、過(guò)濾器)

根據(jù)需要，也可以在表膜用框體的內(nèi)壁面或整個(gè)面上涂布用于捕捉異物的粘合劑(丙烯酸類(lèi)、乙酸乙烯酯系、硅酮系、橡膠系等)、油脂(硅酮系、氟系等)。

另外，根據(jù)需要，開(kāi)設(shè)貫通表膜用框體的內(nèi)部與外部的微細(xì)的孔，使得由表膜和光掩模形成的空間的內(nèi)外氣壓差消失，可以防止膜的鼓起、凹陷。

另外，此時(shí)，在微細(xì)的孔的外側(cè)安裝異物除去過(guò)濾器時(shí)，不僅能夠調(diào)整氣壓，而且防止異物向由表膜和光掩模形成的空間中侵入，故優(yōu)選。

由表膜和光掩模形成的空間容積大的情況下，設(shè)置多個(gè)這些孔、過(guò)濾器時(shí)，由氣壓變動(dòng)所導(dǎo)致的膜的鼓起、凹陷的恢復(fù)時(shí)間變短，為優(yōu)選。

本實(shí)施方式中的表膜框體通過(guò)滿(mǎn)足上述特征從而可以兼具適度的剛性和柔軟性，因此沒(méi)有張開(kāi)表膜用膜所導(dǎo)致的框體的變形，當(dāng)然可以追隨單獨(dú)操作表膜時(shí)的彎曲，也可以追隨之后的粘附于掩模后的操作中的掩模本身的彎曲。其結(jié)果，表膜中不會(huì)產(chǎn)生褶皺，且也可以追隨掩模的彎曲，因此發(fā)揮也不會(huì)產(chǎn)生漏氣之類(lèi)的優(yōu)異的效果。

(表膜用膜的制法)

表膜用膜例如使用由聚合物溶液成膜的薄膜。該薄膜中存在張力。另一方面，為了不使表膜用膜彎曲而引入褶皺而需要該張力。

表膜用膜彎曲而引入褶皺時(shí)，用鼓風(fēng)除去附著于表膜用膜的異物時(shí)，該表膜用膜大幅振動(dòng)而難以除去。另外，表膜用膜的高度根據(jù)位置而變化，因此表膜用膜的異物檢查機(jī)不能正常工作。另外，會(huì)產(chǎn)生表膜用膜的光學(xué)高度測(cè)定中產(chǎn)生誤差等問(wèn)題。

聚合物溶液的成膜法有：旋涂法、輥涂法、刮刀涂布法、澆鑄法等，但從均勻性、異物管理的方面出發(fā)，優(yōu)選旋涂法。利用旋涂法在成膜基板上進(jìn)行成膜后，根據(jù)需要利用熱板、無(wú)塵烘箱、(遠(yuǎn))紅外線(xiàn)加熱等使溶劑干燥，從而形成均勻的膜。作為此時(shí)的成膜基板，可以利用合成石英、熔融石英、無(wú)堿玻璃、低堿玻璃、鈉鈣玻璃等。

本實(shí)施方式的表膜的成膜用基板的尺寸大，因此，由于干燥時(shí)的溫度不均而成膜基板有時(shí)破裂。為了防止該情況，成膜用基板的熱膨張系數(shù)越小越優(yōu)選。特別是，0℃～300℃下的線(xiàn)膨張系數(shù)優(yōu)選為50×10^-7m/℃以下。

另外，可以對(duì)成膜用基板的表面用硅酮系、氟系等材料預(yù)先實(shí)施脫模處理。另外，上述表膜用膜可以為單層，在表膜用膜的單側(cè)或兩側(cè)形成折射率低于該表膜用膜的層(即，防反射層)，從而可以提高對(duì)曝光光線(xiàn)的透射率，為優(yōu)選。

作為防反射層的材料，可以使用：氟系聚合物(四氟乙烯-偏氟乙烯-六氟丙烯的三元共聚物、主鏈上具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)的聚合物即dupont株式會(huì)社制的teflonaf(商品名)、旭硝子株式會(huì)社制的cytop(商品名)、solvay株式會(huì)社制的algoflon(商品名)、聚氟丙烯酸酯等)、氟化鈣、氟化鎂、氟化鋇等折射率低的材料。

防反射層為聚合物的情況下，可以利用與前述同樣的旋涂法而形成，無(wú)機(jī)物的情況下，利用真空蒸鍍、濺射等薄膜形成法而形成。從異物的方面出發(fā)，優(yōu)選利用聚合物溶液的旋涂法。dupont株式會(huì)社制的teflonaf(商品名)、solvay株式會(huì)社制的algoflon(商品名)的折射率小，故防反射效果高，為優(yōu)選。

對(duì)于通過(guò)上述形成于成膜基板上的表膜用膜，可以利用鋁合金、不銹鋼、樹(shù)脂等上粘附有粘合劑的臨時(shí)框，從成膜基板剝離，重新粘貼于期望的表膜框體。另外，也可以在成膜基板上粘接期望的表膜框體后，從成膜基板剝離。

如此得到的表膜用膜是對(duì)表膜框體施加張力、利用粘接劑進(jìn)行貼附的。

(膜粘接劑)

用于粘接表膜用膜與表膜用框體的膜粘接劑根據(jù)表膜用膜的材質(zhì)和表膜框體的材質(zhì)而適當(dāng)選擇。例如可以使用環(huán)氧系、丙烯酸類(lèi)、硅酮系、氟系等的粘接劑。

另外，粘接劑的固化方法采用適于各種粘接劑的固化方法(熱固化、光固化、厭氧性固化等)。從產(chǎn)塵性、成本、作業(yè)性的方面出發(fā)，優(yōu)選丙烯酸類(lèi)的紫外線(xiàn)固化型粘接劑。

用于將表膜用框體粘附于光掩模的掩模粘合劑可以采用：其本身有粘合力的熱熔系(橡膠系，丙烯酸類(lèi))、在基材的兩面涂布有粘合劑的帶系(作為基材，可以使用丙烯酸類(lèi)、pvc系等的片材或橡膠系、聚烯烴系、氨基甲酸酯系等的泡沫體等，作為粘合劑，使用橡膠系、丙烯酸類(lèi)、硅酮系等的粘合劑)等。

(掩模粘合劑、襯墊)

本實(shí)施方式的表膜中，作為掩模粘合劑，為了能夠使表膜均勻地粘附于光掩模、且能夠容易地從掩模剝離表膜，較柔軟的熱熔材料、泡沫體是適合的。泡沫體的情況下，通過(guò)在其截面上用丙烯酸類(lèi)、乙酸乙烯酯系的粘合性材料或非粘合性材料進(jìn)行覆蓋，可以防止來(lái)自泡沫體的產(chǎn)塵。

掩模粘合劑的厚度通常設(shè)為0.2mm以上，但為了對(duì)光掩模進(jìn)行均勻的粘貼，優(yōu)選設(shè)為1mm以上。截至粘附于光掩模的期間，為了保護(hù)上述掩模粘合劑的粘合面，使用由硅酮、氟進(jìn)行了脫模處理的聚酯薄膜。

實(shí)施例

以下，利用實(shí)施例和比較例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更具體地說(shuō)明。本發(fā)明不受以下實(shí)施例的任何限定。

[評(píng)價(jià)方法]

(1)膜厚波動(dòng)(nm)

在外形尺寸40mm×35mm、長(zhǎng)邊寬、短邊寬均為5mm的鋁的框體上粘貼雙面膠帶。將該框體對(duì)表膜用膜的9個(gè)測(cè)定對(duì)象位置點(diǎn)(后述)分別進(jìn)行粘貼，切出表膜的表膜用膜。之后，將切出的帶膜框體安裝于紫外-可見(jiàn)光分光光度計(jì)(株式會(huì)社島津制作所，uv-1800)并測(cè)定(測(cè)定波長(zhǎng)365nm)。測(cè)定的9個(gè)測(cè)定對(duì)象位置點(diǎn)的膜厚中，將從最厚的膜厚減去最薄的膜厚而得到的值作為膜厚波動(dòng)。

(2)膜厚(μm)

利用與上述膜厚波動(dòng)相同的方法，9個(gè)測(cè)定對(duì)象位置點(diǎn)的每個(gè)切出帶膜框體。測(cè)定切出的帶膜框體，將最厚膜厚與最薄膜厚的中間(平均)作為膜厚。

(3)透射率(％)

利用與上述膜厚波動(dòng)相同的方法，9個(gè)測(cè)定對(duì)象位置點(diǎn)的每個(gè)切出帶膜框體。將切出的帶膜框體安裝于紫外-可見(jiàn)光分光光度計(jì)(株式會(huì)社島津制作所，uv-1800)并測(cè)定365nm的透射率。將9個(gè)點(diǎn)的透射率的算術(shù)平均值作為透射率。

(4)cd的面內(nèi)極差的測(cè)定方法

將硅基板(12英寸、300mmφ)作為成膜基板，對(duì)其表面進(jìn)行硅烷偶聯(lián)，提高脫模性。接著，聚合物溶液、條件使用與各實(shí)施例相同的聚合物溶液、條件，以膜厚波動(dòng)相同的方式進(jìn)行成膜。接著，從成膜基板剝離經(jīng)過(guò)干燥的膜至臨時(shí)框上。

之后，在黑色耐酸鋁的鋁合金制的表膜框的一個(gè)端面上涂布與實(shí)施例相同的掩模粘合劑，用作為保護(hù)膜的聚酯薄膜進(jìn)行保護(hù)。保護(hù)膜的厚度為100μm。在表膜框的另一個(gè)端面上涂布與實(shí)施例相同的膜粘接劑，將上述臨時(shí)框上的表膜用膜粘接。表膜框的外徑為122mm×149mm，內(nèi)徑為118mm×145mm，高度為4.8mm。

在具有鉻薄膜層的合成石英玻璃上(6025)涂布光致抗蝕劑(感光性物質(zhì))，預(yù)烘焙后，使用電子束曝光裝置，在100mm×100mm的區(qū)域內(nèi)對(duì)于光致抗蝕劑繪制5列圖案。1列制成繪制形狀與圖3相同，且線(xiàn)寬進(jìn)行了多次變更的圖案的形狀。1個(gè)圖案例如設(shè)為圖3那樣的l/s，使線(xiàn)寬(l)為2.0μm、間隙寬度(s)為0.4μm。以相同的繪制形狀，將線(xiàn)寬(l)進(jìn)行多次變更為1.8μm、1.7μm、1.6μm。另外，在如圖3的l/s圖案附近分別制作9個(gè)2.0μm的接觸孔，在各個(gè)繪制形狀的附近同樣地進(jìn)行制作。將與如此制作的1列相同的圖案制作5列。顯影處理后，對(duì)從保護(hù)劑的圖案露出的鉻層部分進(jìn)行蝕刻，將保護(hù)劑圖案轉(zhuǎn)印至鉻層。最后，將保護(hù)劑殘?jiān)逑粗谱鳂?biāo)線(xiàn)。

之后，使用簡(jiǎn)易型安裝機(jī)，以載重為30kgf、載重時(shí)間為60秒使前述制作的表膜粘貼于標(biāo)線(xiàn)。

用旋涂機(jī)將光致抗蝕劑均勻地涂布在硅基板(φ4英寸)上后，進(jìn)行預(yù)烘焙，使光致抗蝕劑固化。接著，使用作為半導(dǎo)體元件制造裝置之一的縮小投影型曝光裝置(步進(jìn)曝光裝置)，利用縮小投影透鏡將上述制作的標(biāo)線(xiàn)的微細(xì)圖案縮小至1/5，邊在涂布有保護(hù)劑的晶圓上移動(dòng)邊進(jìn)行投影曝光。在110℃下加熱90秒，之后，浸于有機(jī)堿顯影液，將感光了的部分的保護(hù)劑除去。用超純水沖洗多次，將感光了的殘?jiān)耆ァ?/p>

作為曝光條件，在曝光強(qiáng)度500mw/cm²下，將曝光時(shí)間在285毫秒～445毫秒內(nèi)變化，焦距在-0.3～0.7μm條件內(nèi)變化。曝光后進(jìn)行顯影，利用sem，進(jìn)行如下條件選擇:對(duì)l/s的分辨率2.0μm的圖案確定cd小的條件。

對(duì)于上述確定的條件，以曝光強(qiáng)度500mw/cm²、使焦距一定，使曝光時(shí)間在300毫秒～320毫秒內(nèi)變化，再次進(jìn)行曝光，進(jìn)行顯影。需要說(shuō)明的是，對(duì)于所要求的分辨率適當(dāng)確定焦距和曝光時(shí)間的條件。

(5)cd的面內(nèi)極差測(cè)定

利用sem(hitachihigh-technologiescorporation制su8000掃描電子顯微鏡)，以施加電壓1.0kv、30000～35000倍觀(guān)察上述(4)中制作的晶圓上的圖案，在sem上，對(duì)l/s的分辨率2.0μm的圖案，在任意三處測(cè)定9條線(xiàn)的中央線(xiàn)的長(zhǎng)度，求出平均。將其縱向進(jìn)行18處(0.4mm間距)，由各平均值算出最長(zhǎng)的長(zhǎng)度減去最短的長(zhǎng)度，將使該值為5倍而得到的值作為cd的面內(nèi)極差。

另外，對(duì)于接觸孔的分辨率2.0μm的圖案，算出9處孔的直徑，將使“2.0μm-算出結(jié)果”的值為5倍而得到的值作為接觸孔的cd的面內(nèi)極差。

[實(shí)施例1]

將作為構(gòu)成表膜用膜的聚合物的纖維素乙酸酯丙酸酯(cap480-20，eastmanchemicalcompany制)與作為溶劑的乳酸乙酯混合，制作固體成分濃度4質(zhì)量％的溶液。將該溶液用氮?dú)饧訅褐?.01mpa，通過(guò)口徑0.1μm的膜濾器進(jìn)行過(guò)濾。

準(zhǔn)備對(duì)成膜用基板進(jìn)行物理研磨，物理研磨后進(jìn)一步進(jìn)行化學(xué)研磨，用純水進(jìn)行清洗而得到的成膜用基板。將該成膜用基板在無(wú)塵烘箱中、以100℃進(jìn)行2小時(shí)加熱干燥，然后冷卻至室溫。接著，將該成膜用基板和導(dǎo)入了六甲基二硅氮烷20cc的直徑5cm的上部開(kāi)放的聚乙烯的容器在潔凈的金屬制的箱中室溫下密封30分鐘。取出成膜用基板后，在無(wú)塵烘箱中以100℃進(jìn)行2小時(shí)加熱。將如此準(zhǔn)備的成膜用基板安裝于閉杯式的旋涂機(jī)，將上述準(zhǔn)備的聚合物溶液約300g供給至玻璃基板上，使成膜用基板以330rpm旋轉(zhuǎn)90秒鐘。將該成膜用基板載置于60℃的熱板上15分鐘，使聚合物溶液中的溶劑蒸發(fā)，從而在成膜用基板上形成表膜用膜。

準(zhǔn)備外形的一邊為1396mm、寬度為20mm、厚度為6mm的鋁合金(6061)經(jīng)過(guò)黑色耐酸鋁和封孔處理的臨時(shí)框。在該臨時(shí)框上涂布環(huán)氧粘接劑，對(duì)成膜用基板上的表膜用膜進(jìn)行按壓/固定。該環(huán)氧粘接劑固化后，將該臨時(shí)框輕輕地立起，從成膜用基板剝離表膜用膜至臨時(shí)框上。

接著，作為表膜用框體，使用的是，楊氏模量70[gpa]的鋁合金(5052)制、且外形尺寸1150mm×785mm、外側(cè)角部r10mm、內(nèi)側(cè)角部r2mm、長(zhǎng)邊寬為11mm、短邊寬為10mm、高度為5.2mm的框體。需要說(shuō)明的是，在該框體的各長(zhǎng)邊中央部開(kāi)設(shè)各4個(gè)共計(jì)8個(gè)的口徑1.5mm的貫通孔(透氣口)，在各長(zhǎng)邊端部開(kāi)設(shè)各2處共計(jì)4處的作為耐酸鋁處理時(shí)的固定和電極用的口徑2mm、深度2mm的孔，進(jìn)一步，對(duì)短邊全長(zhǎng)實(shí)施在兩短邊的高度方向的中央部切出寬度1.5mm、深度2.3mm的操作用槽的加工。準(zhǔn)備對(duì)該表膜用框體表面進(jìn)行噴丸處理后進(jìn)行黑色耐酸鋁和封孔處理而得到的表膜用框體。

在該表膜用框體的內(nèi)壁面上以厚度約10μm涂布丙烯酸制的粘合劑。在透氣口部用丙烯酸類(lèi)粘合劑安裝四氟乙烯制的膜濾器。在表膜用框體的一個(gè)緣面上涂布作為掩模粘合劑的sebs(苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯嵌段共聚物)制的熱熔樹(shù)脂，使其成為寬度6mm、高度1.6mm，并成型。作為用于保護(hù)熱熔樹(shù)脂的表面的保護(hù)襯墊，粘附實(shí)施了硅酮脫模處理的厚度0.1mm的聚酯制薄膜。

在表膜用框體的與上述涂布有粘合劑的緣面相對(duì)的緣面上涂布氨基甲酸酯丙烯酸酯系的紫外線(xiàn)固化型粘接劑。之后，載置鋪設(shè)于上述臨時(shí)框的表膜用膜，照射紫外線(xiàn)，使該紫外線(xiàn)固化型粘接劑固化，將表膜用框體與表膜用膜粘接。之后，使刀沿著表膜用框體的框架外周邊緣部切斷并除去多余的表膜用膜，制作表膜。

將該表膜的中央1處、距離引出表膜的對(duì)角線(xiàn)時(shí)的中央300mm的4處、距離中央560mm的4處、共計(jì)9處作為膜厚測(cè)定的測(cè)定對(duì)象位置，測(cè)定這些各處的膜厚，算出膜厚波動(dòng)。另外，測(cè)定此時(shí)的365nm的波長(zhǎng)下的透射率。另外，制作6英寸表膜，作為曝光條件，將焦距變更為-0.1μm，將曝光時(shí)間變更為300毫秒、305毫秒、310毫秒、315毫秒、320毫秒，進(jìn)行曝光評(píng)價(jià)。之后，測(cè)定cd的面內(nèi)極差。

[實(shí)施例2]

作為表膜用框體，使用的是，楊氏模量70[gpa]的鋁合金(5052)制、且外形尺寸900mm×750mm、外側(cè)角部r10mm、內(nèi)側(cè)角部r2mm、長(zhǎng)邊寬為8mm、短邊寬為7mm、高度為5.2mm的框體，除此之外，與實(shí)施例1同樣地制作表膜。另外，對(duì)于該表膜的膜厚波動(dòng)的算出位置，測(cè)定中央1處、距離引出表膜的對(duì)角線(xiàn)時(shí)的中央345mm的4處、距離中央690mm的4處、共計(jì)9處的膜厚，除此之外，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)。

[實(shí)施例3]

將作為構(gòu)成表膜用膜的聚合物的纖維素乙酸酯丙酸酯(cap480-20，eastmanchemicalcompany制)與作為溶劑的乳酸乙酯混合，制作固體成分濃度4質(zhì)量％的溶液。將該溶液用氮?dú)饧訅褐?.01mpa，通過(guò)口徑0.1μm的膜濾器進(jìn)行過(guò)濾。

準(zhǔn)備對(duì)成膜用基板進(jìn)行物理研磨，物理研磨后進(jìn)一步進(jìn)行化學(xué)研磨，用純水清洗而得到的成膜用基板。將該成膜用基板在無(wú)塵烘箱中以100℃進(jìn)行2小時(shí)加熱干燥，然后冷卻至室溫。接著，將該成膜用基板和導(dǎo)入了六甲基二硅氮烷20cc的直徑5cm的上部開(kāi)放的聚乙烯的容器在潔凈的金屬制的箱中室溫下密封30分鐘。取出成膜用基板后，在無(wú)塵烘箱中以100℃進(jìn)行2小時(shí)加熱。將如此準(zhǔn)備的成膜用基板安裝于閉杯式的旋涂機(jī)，將上述準(zhǔn)備的聚合物溶液約300g供給至玻璃基板上，使成膜用基板以320rpm旋轉(zhuǎn)600秒鐘。將該成膜用基板載置于60℃的熱板上15分鐘，使聚合物溶液中的溶劑蒸發(fā)，制作主膜。

接著，將作為構(gòu)成防反射層的聚合物的氟樹(shù)脂(旭硝子株式會(huì)社制，cytop)在作為氟系溶劑的cytopct-slv(旭硝子株式會(huì)社制)的溶液中制備，用孔徑0.1μm的膜濾器進(jìn)行過(guò)濾，向上述主膜的中心層上滴加5cc的該濾液，以320rpm使其旋轉(zhuǎn)200秒鐘后，進(jìn)行風(fēng)干，形成防反射層，除此之外，利用與實(shí)施例1同樣的表膜框架制作表膜，進(jìn)行與實(shí)施例1同樣的評(píng)價(jià)。

[實(shí)施例4]

使實(shí)施例3的成膜基板以100rpm旋轉(zhuǎn)500秒鐘，進(jìn)而，使用與實(shí)施例2同樣的表膜框架，制作表膜，除此之外，與實(shí)施例3同樣地制作表膜。進(jìn)而，進(jìn)行與實(shí)施例1同樣的評(píng)價(jià)。

[實(shí)施例5]

將作為構(gòu)成表膜用膜的聚合物的氟樹(shù)脂(旭硝子株式會(huì)社制，cytop)用氟系溶劑(旭硝子株式會(huì)社制，cytopct-slv)稀釋后，涂布于成膜基板上，使成膜基板以300rpm旋轉(zhuǎn)600秒鐘。接著，利用熱板加熱至180℃，將溶劑完全除去，除此之外，與實(shí)施例1同樣地制作表膜。進(jìn)而，進(jìn)行與實(shí)施例1同樣的評(píng)價(jià)。

[實(shí)施例6]

將作為構(gòu)成表膜用膜的聚合物的氟樹(shù)脂(旭硝子株式會(huì)社制，cytop)用氟系溶劑(旭硝子株式會(huì)社制，cytopct-slv)稀釋后，涂布于成膜基板上，使成膜基板以300rpm旋轉(zhuǎn)400秒鐘。接著，利用熱板加熱至180℃，將溶劑完全除去，除此之外，與實(shí)施例1同樣地制作表膜。進(jìn)而，進(jìn)行與實(shí)施例1同樣的評(píng)價(jià)。

[比較例1]

將作為構(gòu)成表膜用膜的聚合物的纖維素乙酸酯丙酸酯(cap480-20，eastmanchemicalcompany制)與作為溶劑的乳酸乙酯混合，制作固體成分濃度8質(zhì)量％的溶液。將該溶液用氮?dú)饧訅褐?.01mpa，通過(guò)口徑0.1μm的膜濾器進(jìn)行過(guò)濾。

準(zhǔn)備對(duì)成膜用基板進(jìn)行物理研磨，物理研磨后進(jìn)一步進(jìn)行化學(xué)研磨，用純水清洗而得到的成膜用基板。將該成膜用基板在無(wú)塵烘箱中以100℃進(jìn)行2小時(shí)加熱干燥，然后冷卻至室溫。接著，將該成膜用基板和導(dǎo)入了六甲基二硅氮烷20cc的直徑5cm的上部開(kāi)放的聚乙烯的容器以室溫在潔凈的金屬制的箱中進(jìn)行30分鐘密封。取出成膜用基板后，在無(wú)塵烘箱中以100℃進(jìn)行2小時(shí)加熱。將如此準(zhǔn)備的成膜用基板安裝于閉杯式的旋涂機(jī)，將上述準(zhǔn)備的聚合物溶液約300g供給至成膜用基板上，使成膜用基板以280rpm旋轉(zhuǎn)90秒鐘。將該成膜用基板在60℃的熱板上載置20分鐘，使聚合物溶液中的溶劑蒸發(fā)，從而在成膜用基板上形成表膜用膜。除此之外，與實(shí)施例1同樣地制作表膜。另外，作為曝光條件，使焦距為-0.2μm，除此之外，與實(shí)施例1同樣地實(shí)施評(píng)價(jià)。

[比較例2]

作為表膜用框體，使用的是，楊氏模量70[gpa]的鋁合金(5052)制、且外形尺寸900mm×750mm、外側(cè)角部r10mm、內(nèi)側(cè)角部r2mm、長(zhǎng)邊寬為8mm、短邊寬為7mm、高度為5.2mm的框體，除此之外，與比較例1同樣地制作表膜。另外，作為曝光條件，使焦距為-0.2μm，除此之外，與實(shí)施例1同樣地實(shí)施評(píng)價(jià)。

[參考例1]

作為參考例，實(shí)施無(wú)表膜下的曝光評(píng)價(jià)，測(cè)定此時(shí)的cd的面內(nèi)極差。將其結(jié)果記載于表。

[表1]

產(chǎn)業(yè)上的可利用性

本發(fā)明作為制造構(gòu)成lsi、平板顯示器(fpd)的薄膜晶體管(tft)、濾色器(cf)等時(shí)的光刻工序中使用的用于防止異物附著于光掩模、標(biāo)線(xiàn)上而使用的大型表膜，具有產(chǎn)業(yè)上的可利用性。特別是，本發(fā)明作為對(duì)于曝光光源利用i射線(xiàn)(365nm)、j射線(xiàn)(313nm)、h射線(xiàn)(405nm)中任一者或它們混合而成的紫外線(xiàn)的光刻工序中使用的大型表膜，具有產(chǎn)業(yè)上的可利用性。本發(fā)明的表膜可以用于近年來(lái)開(kāi)發(fā)的高圖像質(zhì)量、能夠高精細(xì)顯示的大型彩色tftlcd(薄膜晶體管液晶顯示器)的光刻工序中使用的大型光掩模、標(biāo)線(xiàn)。