技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
光學(xué)鄰近校正(OPC)檢驗(yàn)方法包括：檢查在堆疊存儲(chǔ)器件的布局中的第一圖案的第一位置；根據(jù)第一位置計(jì)算第一圖案的偏移值；獲得第一位置與通過(guò)對(duì)于第一圖案的OPC而形成的第二圖案的第二位置之間的差值；以及基于偏移值和差值確定是否將要再次執(zhí)行OPC。

技術(shù)研發(fā)人員：金昶汎;金成勛;金祐呈;粱香子
受保護(hù)的技術(shù)使用者：三星電子株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：2017.02.13
技術(shù)公布日：2017.09.01