本發(fā)明涉及用于撓性印刷基板等的制造的輥到輥兩面曝光裝置。

背景技術(shù)：

將規(guī)定圖案的光向?qū)ο笪镎丈涠M(jìn)行曝光的曝光裝置，作為光刻的核心的要素技術(shù)在各種用途中使用。其中，關(guān)于對(duì)撓性印刷基板那樣的柔軟的基板(以下，稱為片狀基板)進(jìn)行曝光的曝光裝置，已知有通過(guò)輥到輥在對(duì)片狀基板進(jìn)行搬運(yùn)的同時(shí)進(jìn)行曝光的裝置。在這種裝置中，存在對(duì)片狀基板的兩面同時(shí)進(jìn)行曝光的類型的裝置，其一個(gè)例子為對(duì)兩面進(jìn)行電路形成的撓性印刷基板用的曝光裝置。

進(jìn)行兩面曝光的輥到輥的曝光裝置構(gòu)成為，對(duì)于某個(gè)設(shè)定的區(qū)域從兩側(cè)照射規(guī)定圖案的光。然后，將輥狀的片狀基板拉出而使其在該區(qū)域中逐次停止，并在停止中從兩側(cè)進(jìn)行曝光。當(dāng)對(duì)片狀基板的厚度量進(jìn)行考慮時(shí)，某個(gè)設(shè)定的區(qū)域成為具有平行的二個(gè)平面(曝光面)的區(qū)域(以下，稱為曝光區(qū)域)。

專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2007-25436號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開(kāi)2015-49356號(hào)公報(bào)

在上述那樣的曝光裝置中，為了進(jìn)行沒(méi)有形狀缺陷的優(yōu)良品質(zhì)的圖案轉(zhuǎn)印，需要定期地清洗掩膜。當(dāng)灰塵、塵埃等異物附著到掩膜上時(shí)，成為所照射的光的圖案的缺陷，容易成為最終的制品不良的原因。在曝光裝置中，例如片狀基板的邊緣的少許的毛邊剝離、或者片狀基板上所涂敷的抗蝕劑的一部分剝離而成為異物，并可能附著到掩膜上。因此，需要定期地清洗掩膜。

在專利文獻(xiàn)1、專利文獻(xiàn)2中，公開(kāi)了在這樣的曝光裝置中進(jìn)行掩膜的清洗的技術(shù)。其中，在專利文獻(xiàn)1中，公開(kāi)了在單張?zhí)幚硎降钠毓庋b置中通過(guò)粘貼輥對(duì)掩膜進(jìn)行除塵的技術(shù)。此外，在專利文獻(xiàn)2中，公開(kāi)了在輥到輥方式的曝光裝置中通過(guò)清洗輥對(duì)掩膜進(jìn)行除塵的技術(shù)。

這些專利文獻(xiàn)所公開(kāi)的掩膜的除塵技術(shù)，均是單面方式的曝光裝置中的技術(shù)。在兩面曝光裝置的情況下，由于相對(duì)于片狀基板在兩側(cè)配置有掩膜，因此需要對(duì)其雙方進(jìn)行清洗，但是這些專利文獻(xiàn)為單面曝光方式的文獻(xiàn)，因此即使參照這些文獻(xiàn)也不能夠想到實(shí)用的構(gòu)造。

例如，在專利文獻(xiàn)1中，清洗輥安裝于對(duì)片狀基板進(jìn)行搬出的搬出手，與片狀基板的搬出動(dòng)作同步地移動(dòng)而進(jìn)行掩膜的除塵。然而，在輥到輥的裝置中，由于不存在單張?zhí)幚硎降难b置那樣的基板的搬入搬出動(dòng)作、用于此的機(jī)構(gòu)，因此不能作為參考。此外，在專利文獻(xiàn)2中，說(shuō)明了在隔著片狀基板而與掩膜相反側(cè)設(shè)置有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，通過(guò)該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使清洗輥移動(dòng)，由此進(jìn)行掩膜的除塵，但是在兩面曝光裝置的情況下，在相反側(cè)也同樣配置有掩膜，難以配置這樣的機(jī)構(gòu)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明是鑒于這樣的現(xiàn)有技術(shù)的狀況而進(jìn)行的，其目的在于提供在輥到輥方式且進(jìn)行兩面曝光的曝光裝置中，能夠進(jìn)行掩膜的清洗的實(shí)用的構(gòu)成。

為了解決上述課題，本申請(qǐng)的技術(shù)方案1記載的發(fā)明具有的構(gòu)成為，一種輥到輥兩面曝光裝置，將輥狀的片狀基板拉出并向該片狀基板的兩面照射規(guī)定圖案的光而進(jìn)行曝光，其具備：

搬運(yùn)系統(tǒng)，將輥狀的片狀基板拉出并在曝光區(qū)域中通過(guò)地進(jìn)行搬運(yùn)；

一對(duì)掩膜，隔著曝光區(qū)域配置；以及

掩膜清洗機(jī)構(gòu)，對(duì)一對(duì)掩膜進(jìn)行清洗，

掩膜清洗機(jī)構(gòu)具備：

一對(duì)清洗輥，表面具有粘貼層；以及

輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)，使各清洗輥在各掩膜上邊轉(zhuǎn)動(dòng)邊移動(dòng)，由此從各掩膜除去異物，

輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)是在之間存在片狀基板的狀態(tài)下使各清洗輥從各掩膜的一側(cè)向另一側(cè)同時(shí)期地移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。

此外，為了解決上述課題，技術(shù)方案2記載的發(fā)明具有的構(gòu)成為，在上述技術(shù)方案1的構(gòu)成中，上述輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)是使上述各清洗輥一體地移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。

此外，為了解決上述課題，技術(shù)方案3記載的發(fā)明具有的構(gòu)成為，在上述技術(shù)方案1或者2的構(gòu)成中，上述各清洗輥具備在與上述各掩膜接觸時(shí)使彈性作用而提高向掩膜的按壓力的彈性體。

此外，為了解決上述課題，技術(shù)方案4記載的發(fā)明具有的構(gòu)成為，在上述技術(shù)方案1或者2的構(gòu)成中，設(shè)置有掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)以使上述各掩膜朝向上述片狀基板移動(dòng)并且使上述各掩膜從上述片狀基板遠(yuǎn)離的方式移動(dòng)，

上述各清洗輥位于比上述各掩膜更接近上述片狀基板的一側(cè)，

掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)是能夠使上述各掩膜朝向上述片狀基板移動(dòng)而使其與上述各清洗輥接觸的機(jī)構(gòu)。

此外，為了解決上述課題，技術(shù)方案5記載的發(fā)明具有的構(gòu)成為，在上述技術(shù)方案4的構(gòu)成中，上述各清洗輥具備彈性體，

上述掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)是在使上述各掩膜與上述各清洗輥接觸時(shí)，能夠使上述各掩膜位于將彈性體壓縮而提高上述各清洗輥向上述各掩膜的按壓力的位置的機(jī)構(gòu)，且是能夠?qū)ι鲜龈餮谀さ奈恢眠M(jìn)行調(diào)節(jié)而對(duì)彈性體的壓縮量進(jìn)行調(diào)節(jié)的機(jī)構(gòu)。

此外，為了解決上述課題，技術(shù)方案6記載的發(fā)明具有的構(gòu)成為，在上述技術(shù)方案1或者2的構(gòu)成中，上述各清洗輥位于比上述各掩膜更接近上述片狀基板的一側(cè)，

上述一對(duì)清洗輥通過(guò)框架相互連結(jié)，

上述掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)是如下的機(jī)構(gòu)：通過(guò)使上述一對(duì)掩膜的一方向接近上述片狀基板的方向移動(dòng)，而使其與上述一對(duì)清洗輥的一方接觸，并且，經(jīng)由該一方的掩膜以及一方的清洗輥使另一方的清洗輥移動(dòng)，由此能夠使另一方的清洗輥與另一方的掩膜接觸。

此外，為了解決上述課題，技術(shù)方案7記載的發(fā)明具有的構(gòu)成為，在上述技術(shù)方案6的構(gòu)成中，上述一對(duì)清洗輥經(jīng)由彈性體連結(jié)，

上述掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)是在通過(guò)經(jīng)由上述一方的掩膜以及上述一方的清洗輥使上述另一方的清洗輥移動(dòng)、由此使另一方的清洗輥與上述另一方的掩膜接觸時(shí)，能夠使上述一方的掩膜位于將彈性體壓縮而提高上述各清洗輥向上述各掩膜的按壓力的位置的機(jī)構(gòu)，且是能夠?qū)ι鲜鲆环降难谀さ奈恢眠M(jìn)行調(diào)節(jié)而對(duì)彈性體的壓縮量進(jìn)行調(diào)節(jié)的機(jī)構(gòu)。

此外，為了解決上述課題，技術(shù)方案8記載的發(fā)明具有的構(gòu)成為，在上述技術(shù)方案4至7任一項(xiàng)的構(gòu)成中，上述掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)是使上述各掩膜與上述片狀基板接觸或者具有規(guī)定間隙地對(duì)置的機(jī)構(gòu)。

此外，為了解決上述課題，技術(shù)方案9記載的發(fā)明具有的構(gòu)成為，在上述技術(shù)方案1至8任一項(xiàng)的構(gòu)成中，設(shè)置有能夠與上述一對(duì)清洗輥接觸的一對(duì)轉(zhuǎn)移輥，

各轉(zhuǎn)移輥在表面上具有與上述各清洗輥的粘貼層相比粘貼力更高的粘貼層。

此外，為了解決上述課題，技術(shù)方案10記載的發(fā)明具有的構(gòu)成為，在上述技術(shù)方案1至9任一項(xiàng)的構(gòu)成中，設(shè)置有在上述各清洗輥與上述各掩膜接觸之前對(duì)上述各掩膜的表面進(jìn)行除電的除電器。

此外，為了解決上述課題，技術(shù)方案11記載的發(fā)明具有的構(gòu)成為，在上述技術(shù)方案10的構(gòu)成中，上述除電器為向上述各掩膜的表面供給離子而進(jìn)行除電的電離器，

電離器相對(duì)于上述各清洗輥，配置于上述輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)的移動(dòng)的方向的前方，

上述輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)是使電離器與上述各清洗輥一體地移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。

發(fā)明的效果

如以下說(shuō)明的那樣，根據(jù)本申請(qǐng)的技術(shù)方案1記載的發(fā)明，在之間存在片狀基板的狀態(tài)下、一對(duì)清洗輥在一對(duì)掩膜上邊轉(zhuǎn)動(dòng)邊同時(shí)期地移動(dòng)，由此進(jìn)行清洗，因此提供能夠不阻礙生產(chǎn)率地進(jìn)行清洗的實(shí)用的構(gòu)成。

此外，根據(jù)技術(shù)方案2記載的發(fā)明，在上述效果的基礎(chǔ)上，一對(duì)清洗輥一體地移動(dòng)，因此用于移動(dòng)的機(jī)構(gòu)被簡(jiǎn)化。

此外，根據(jù)技術(shù)方案3記載的發(fā)明，在上述效果的基礎(chǔ)上，各清洗輥向各掩膜的按壓力被提高，因此清洗的效果進(jìn)一步提高。

此外，根據(jù)技術(shù)方案4記載的發(fā)明，在上述效果的基礎(chǔ)上，掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)兼用于使各清洗輥與各掩膜接觸，因此通過(guò)這一點(diǎn)使機(jī)構(gòu)簡(jiǎn)化。

此外，根據(jù)技術(shù)方案5記載的發(fā)明，在上述效果的基礎(chǔ)上，通過(guò)掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)對(duì)彈性體的壓縮量進(jìn)行調(diào)節(jié)，因此清洗變得不充分、或者損傷掩膜的可能性消失。

此外，根據(jù)技術(shù)方案6記載的發(fā)明，在上述效果的基礎(chǔ)上，掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)兼用于使各清洗輥與各掩膜接觸，因此通過(guò)這一點(diǎn)使機(jī)構(gòu)簡(jiǎn)化。

此外，根據(jù)技術(shù)方案7記載的發(fā)明，在上述效果的基礎(chǔ)上，通過(guò)掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)對(duì)彈性體的壓縮量進(jìn)行調(diào)節(jié)，因此清洗變得不充分、或者損傷掩膜的可能性消失。此外，彈性體為一個(gè)即可，因此通過(guò)這一點(diǎn)使機(jī)構(gòu)簡(jiǎn)化。

此外，根據(jù)技術(shù)方案8記載的發(fā)明，能夠在進(jìn)行接觸方式或者鄰近方式的曝光的同時(shí)，得到上述各效果。

此外，根據(jù)技術(shù)方案9記載的發(fā)明，在上述效果的基礎(chǔ)上，由于設(shè)置有轉(zhuǎn)移輥，因此能夠降低各清洗輥的維護(hù)頻度。

此外，根據(jù)技術(shù)方案10記載的發(fā)明，在上述效果的基礎(chǔ)上，由于設(shè)置有在清洗之前對(duì)各掩膜的表面進(jìn)行除電的除電器，因此能夠進(jìn)一步提高清洗的效果。

此外，根據(jù)技術(shù)方案11記載的發(fā)明，在上述效果的基礎(chǔ)上，輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)兼用于除電器即電離器的移動(dòng)，因此通過(guò)這一點(diǎn)使機(jī)構(gòu)簡(jiǎn)化。

附圖說(shuō)明

圖1是第一實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置的主視截面概略圖。

圖2是第一實(shí)施方式的掩膜清洗機(jī)構(gòu)的立體概略圖。

圖3是表示第一實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置的動(dòng)作的主視截面概略圖。

圖4是表示第二實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置的主要部分的立體概略圖。

圖5是表示第二實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置的動(dòng)作的主視截面概略圖。

圖6是第三實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置的主要部分的立體概略圖。

符號(hào)的說(shuō)明

1搬運(yùn)系統(tǒng)

2光源

3光學(xué)系統(tǒng)

41上側(cè)掩膜

42下側(cè)掩膜

51上側(cè)升降機(jī)構(gòu)

52下側(cè)升降機(jī)構(gòu)

6掩膜清洗機(jī)構(gòu)

61上側(cè)清洗輥

62下側(cè)清洗輥

63輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)

64可動(dòng)框架

7作為彈性體的螺旋彈簧

81上側(cè)除電器

82下側(cè)除電器

具體實(shí)施方式

接下來(lái)，對(duì)用于實(shí)施本發(fā)明的方式(以下，稱為實(shí)施方式)進(jìn)行說(shuō)明。

圖1是第一實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置的主視截面概略圖。圖1所示的裝置具備：搬運(yùn)系統(tǒng)1，將輥狀的片狀基板s拉出而搬運(yùn)；光源2；光學(xué)系統(tǒng)3，對(duì)所拉出的片狀基板s中位于曝光區(qū)域的部分，照射來(lái)自光源2的光而進(jìn)行曝光；以及掩膜41、42，配置在光學(xué)系統(tǒng)3與曝光區(qū)域之間。

搬運(yùn)系統(tǒng)1由將卷繞為輥狀的片狀基板s拉出的壓緊輥11、卷繞被曝光后的片狀基板s的卷繞輥12等構(gòu)成。裝置具備未圖示的控制部，搬運(yùn)系統(tǒng)1由控制部控制。

曝光區(qū)域是具有水平的曝光面的區(qū)域，片狀基板s以水平的姿態(tài)向曝光區(qū)域搬運(yùn)。在搬運(yùn)時(shí)片狀基板s所通過(guò)的面(以下，稱為搬運(yùn)面)為水平，光學(xué)系統(tǒng)3的光軸相對(duì)于搬運(yùn)面垂直。

搬運(yùn)系統(tǒng)1對(duì)片狀基板s的搬運(yùn)是間歇性的，重復(fù)進(jìn)行將片狀基板s輸送規(guī)定的行程而使其停止的動(dòng)作(逐次搬運(yùn)動(dòng)作)。規(guī)定的行程是與曝光區(qū)域的大小相對(duì)應(yīng)的行程。曝光在片狀基板s的停止中進(jìn)行，照射曝光區(qū)域的大小的圖案的光。由此，逐次搬運(yùn)動(dòng)作的行程(以下，稱為搬運(yùn)行程)與搬運(yùn)方向上的曝光區(qū)域的長(zhǎng)度大致相當(dāng)。

本實(shí)施方式的裝置進(jìn)行兩面曝光，因此光源2、光學(xué)系統(tǒng)3以及掩膜41、42隔著曝光區(qū)域而在兩側(cè)(在本實(shí)施方式中為上側(cè)和下側(cè))各配置有一組。以下，為了便于說(shuō)明，將一對(duì)掩膜41、42稱為上側(cè)掩膜41、下側(cè)掩膜42。

光源2以及光學(xué)系統(tǒng)3能夠從各種光源以及光學(xué)系統(tǒng)中任意地選擇，但是例如能夠采用如下構(gòu)成：將短弧型的紫外線燈作為光源2，在通過(guò)積分透鏡成為均勻的強(qiáng)度分布的光束之后，通過(guò)準(zhǔn)直透鏡成為平行光而向掩膜41、42照射。另外，各光學(xué)系統(tǒng)3包含未圖示的快門，各快門由未圖示的控制部控制。

此外，本實(shí)施方式的裝置進(jìn)行所謂的接觸曝光。由此，設(shè)置有掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)51、52，該掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)51、52使掩膜41、42進(jìn)行用于與片狀基板s緊貼或者從片狀基板s離開(kāi)的移動(dòng)。在本實(shí)施方式中，曝光區(qū)域中的片狀基板s為水平的姿態(tài)，因此掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)51、52成為使掩膜41、42沿上下方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。以下，將使上側(cè)掩膜41升降的機(jī)構(gòu)51稱為上側(cè)升降機(jī)構(gòu)，將使下側(cè)掩膜42升降的機(jī)構(gòu)52稱為下側(cè)升降機(jī)構(gòu)。

各掩膜41、42為水平的姿態(tài)的板狀。在各掩膜41、42的背后設(shè)置有掩膜臺(tái)座411、421。在各掩膜臺(tái)座411、421的前面搭載各掩膜41、42。各升降機(jī)構(gòu)51、52成為通過(guò)使各掩膜臺(tái)座411、421升降來(lái)使各掩膜41、42與片狀基板s緊貼或者從片狀基板s離開(kāi)的機(jī)構(gòu)。

具體地說(shuō)，各升降機(jī)構(gòu)51、52為如下機(jī)構(gòu)：使各掩膜41、42朝向片狀基板s移動(dòng)而與片狀基板s緊貼，并且在曝光結(jié)束后的片狀基板s的搬運(yùn)時(shí)使各掩膜41、42向從片狀基板s遠(yuǎn)離的方向移動(dòng)。各升降機(jī)構(gòu)51、52能夠采用任意的直動(dòng)機(jī)構(gòu)，但是在本實(shí)施方式中，為了增大各掩膜41、42的停止位置的自由度，而采用伺服馬達(dá)與滾珠絲杠的組合。在圖1中省略了詳細(xì)情況，但是各升降機(jī)構(gòu)51、52成為如下機(jī)構(gòu)：在左右具備上下的驅(qū)動(dòng)軸，使各掩膜臺(tái)座411、421沿著上下方向的線性引導(dǎo)器升降。

另外，為了便于說(shuō)明，將垂直方向設(shè)為z方向，將片狀基板s的搬運(yùn)方向設(shè)為x方向，將與x方向垂直的水平方向設(shè)為y方向。各掩膜41、42為將xy方向作為各邊的方形的板狀。

這樣的實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置，具備將附著于各掩膜41、42的異物除去的掩膜清洗機(jī)構(gòu)6。以下，參照?qǐng)D1以及圖2對(duì)掩膜清洗機(jī)構(gòu)6進(jìn)行說(shuō)明。圖2是第一實(shí)施方式的掩膜清洗機(jī)構(gòu)的立體概略圖。

掩膜清洗機(jī)構(gòu)6具有同時(shí)清洗一對(duì)掩膜41、42的實(shí)用的構(gòu)成。具體地說(shuō)，掩膜清洗機(jī)構(gòu)6具備：表面具有粘貼層的一對(duì)清洗輥61、62；以及通過(guò)在與各掩膜41、42抵接的狀態(tài)下使各清洗輥61、62移動(dòng)來(lái)進(jìn)行清洗的輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)63。

在各清洗輥61、62中，表面的粘貼層具有足夠的粘貼力，以便能夠通過(guò)粘貼力將附著于掩膜41、42的異物從掩膜41、42除去。如圖2所示那樣，各清洗輥61、62為圓筒狀，通過(guò)插入圓柱狀的芯棒(省略符號(hào))來(lái)由芯棒保持。各清洗輥61、62沿著y方向配置。

輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)63包括：保持了一對(duì)清洗輥61、62的框架64；安裝于框架64的一對(duì)滑塊65；與x方向相互平行地延伸的一對(duì)線性引導(dǎo)器66；以及使各滑塊65沿著各線性引導(dǎo)器66移動(dòng)的直線驅(qū)動(dòng)源67等?？蚣?4通過(guò)直線驅(qū)動(dòng)源67而可動(dòng)，因此在以下稱為可動(dòng)框架。

可動(dòng)框架64具有對(duì)各清洗輥61、62進(jìn)行支撐的一對(duì)支柱部(以下，稱為除塵支柱部)641。各除塵支柱部641經(jīng)由軸承(省略符號(hào))對(duì)各清洗輥61、62的芯棒的兩端進(jìn)行支撐。由此，各清洗輥61、62能夠圍繞沿y方向延伸的中心軸從動(dòng)旋轉(zhuǎn)。如圖2所示那樣，由除塵支柱部641保持的一對(duì)清洗輥61、62在z方向上分離，在其之間設(shè)定有片狀基板s的搬運(yùn)面。由此，在裝置的動(dòng)作狀態(tài)下片狀基板s位于其之間。

作為直線驅(qū)動(dòng)源67，使用伺服馬達(dá)與滾珠絲杠的組合或者線性馬達(dá)等?；谥本€驅(qū)動(dòng)源67的滑塊65的移動(dòng)行程，為比x方向的掩膜41、42的長(zhǎng)度稍微長(zhǎng)的程度。

此外，掩膜清洗機(jī)構(gòu)6具備轉(zhuǎn)移輥68。設(shè)置轉(zhuǎn)移輥68的目的在于，使附著于清洗輥61、62的異物轉(zhuǎn)移，降低清洗輥61、62的維護(hù)頻度。

與清洗輥61、62同樣，各轉(zhuǎn)移輥68為在表面具有粘貼層的粘貼輥。各轉(zhuǎn)移輥68與家庭用的垃圾去取用粘貼輥同樣，為卷繞有粘性膠帶(粘貼紙)的構(gòu)造，在異物向轉(zhuǎn)移輥68的附著量變多的情況下，通過(guò)將表面的一層粘性膠帶剝?nèi)?，由此使附著力再生。但是，與清洗輥61、62相比，各轉(zhuǎn)移輥68的粘貼力為相當(dāng)高的程度。

如圖2所示那樣，各轉(zhuǎn)移輥68由與支撐清洗輥61、62的可動(dòng)框架64不同的框架(以下，稱為固定框架)681保持。固定框架681具有一對(duì)支柱部(以下，稱為轉(zhuǎn)移支柱部)682。各轉(zhuǎn)移輥68也具有芯棒，芯棒的兩端經(jīng)由軸承(省略符號(hào))支撐于各轉(zhuǎn)移支柱部682。

各轉(zhuǎn)移輥68設(shè)置有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源683，且圍繞中心軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。如圖2所示那樣，上側(cè)的轉(zhuǎn)移輥68被支撐的高度，為與上側(cè)的清洗輥61、62幾乎相同的高度，下側(cè)的轉(zhuǎn)移輥68被支撐的高度，為與下側(cè)的清洗輥61、62幾乎相同的高度。由此，通過(guò)各清洗輥61、62移動(dòng)，由此各轉(zhuǎn)移輥68能夠與各清洗輥61、62接觸。

參照?qǐng)D3對(duì)這樣的第一實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。圖3是表示第一實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置的動(dòng)作的主視截面概略圖。

未圖示的控制部向搬運(yùn)系統(tǒng)1發(fā)送控制信號(hào)，將片狀基板s搬運(yùn)搬運(yùn)行程的距離而使其停止。然后，通過(guò)各光源2以及各光學(xué)系統(tǒng)3進(jìn)行曝光。即，控制部使各升降機(jī)構(gòu)51、52動(dòng)作，并如圖3(1)所示那樣，使各掩膜41、42與片狀基板s緊貼。在該狀態(tài)下，控制部將各光學(xué)系統(tǒng)3內(nèi)的快門打開(kāi)，來(lái)自各光源2的光l借助各光學(xué)系統(tǒng)3而通過(guò)各掩膜41、42并向片狀基板s的兩面照射，由此將兩面同時(shí)進(jìn)行曝光。另外，在曝光時(shí)，各清洗輥61、62位于待機(jī)位置。待機(jī)位置為，相對(duì)于各掩膜41、42被設(shè)定于x方向的一側(cè)(例如如圖3所示那樣為左側(cè))。

當(dāng)規(guī)定時(shí)間的曝光結(jié)束時(shí)，控制部使各升降機(jī)構(gòu)51、52動(dòng)作，并如圖3(2)所示那樣，使各掩膜41、42從片狀基板s分離。

接下來(lái)，控制部通過(guò)掩膜清洗機(jī)構(gòu)6進(jìn)行各掩膜41、42的清洗動(dòng)作?？刂撇繛椋紫?，使直線驅(qū)動(dòng)源67動(dòng)作，使可動(dòng)框架64沿x方向移動(dòng)。此時(shí)的移動(dòng)距離，為一對(duì)清洗輥61、62在各掩膜41、42的前方通過(guò)、并到達(dá)清洗開(kāi)始位置所需要的移動(dòng)距離。在本實(shí)施方式中，對(duì)于各掩膜41、42中應(yīng)該進(jìn)行曝光并形成圖案的區(qū)域(以下，稱為圖案區(qū)域，在圖1中用r表示)進(jìn)行清洗，清洗開(kāi)始位置是面向另一側(cè)(從各掩膜41、42觀察為與待機(jī)位置相反側(cè))的圖案區(qū)域r的端部的稍微外側(cè)的位置。如圖3(3)所示那樣，一對(duì)清洗輥61、62當(dāng)?shù)竭_(dá)該清洗開(kāi)始位置時(shí)、則停止。

接下來(lái)，控制部向各升降機(jī)構(gòu)51、52發(fā)送控制信號(hào)，使各掩膜41、42向相互接近的方向移動(dòng)。此時(shí)的移動(dòng)距離，對(duì)于上側(cè)升降機(jī)構(gòu)51來(lái)說(shuō)是上側(cè)掩膜41的下面與上側(cè)清洗輥61接觸的距離，對(duì)于下側(cè)升降機(jī)構(gòu)52來(lái)說(shuō)是下側(cè)掩膜42的上面與下側(cè)清洗輥62接觸的距離。

通過(guò)移動(dòng)，如圖3(4)所示那樣，成為各掩膜41、42與各清洗輥61、62接觸的狀態(tài)。在該狀態(tài)下，控制部向輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)63的直線驅(qū)動(dòng)源67發(fā)送控制信號(hào)，使可動(dòng)框架64向相反方向直線移動(dòng)規(guī)定的行程。規(guī)定的行程是指，與比各掩膜41、42中的圖案區(qū)域r的x方向的長(zhǎng)度稍微長(zhǎng)的距離相當(dāng)?shù)男谐?。結(jié)果，如圖3(5)所示那樣，各清洗輥61、62到達(dá)各掩膜41、42的圖案區(qū)域r的一側(cè)的端部的稍微外側(cè)。在該直線移動(dòng)時(shí)，各清洗輥61、62與各掩膜41、42接觸并且與可動(dòng)框架64一體地直線移動(dòng)。此時(shí)，通過(guò)各清洗輥61、62與各掩膜41、42之間的摩擦力，各清洗輥61、62從動(dòng)旋轉(zhuǎn)。在掩膜41、42上附著有異物的情況下，從動(dòng)旋轉(zhuǎn)的各清洗輥61、62通過(guò)粘貼力使其附著于自身，而從掩膜41、42除去。

另外，在從圖3(2)所示的狀態(tài)到成為圖3(5)所示的狀態(tài)為止的期間的時(shí)間段中，控制部向搬運(yùn)系統(tǒng)1發(fā)送控制信號(hào)，與各清洗輥61、62的一體移動(dòng)并行地，進(jìn)行按照搬運(yùn)行程的片狀基板s的搬運(yùn)。結(jié)果，成為片狀基板s中接下來(lái)應(yīng)該進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)印的區(qū)域位于曝光區(qū)域的狀態(tài)。另外，逐次搬運(yùn)所需要的時(shí)間，通常比清洗所需要的時(shí)間短，在圖3(5)的狀態(tài)下逐次搬運(yùn)結(jié)束。

從圖3(5)的狀態(tài)起，控制部向上側(cè)升降機(jī)構(gòu)51發(fā)送控制信號(hào)而使上側(cè)掩膜41上升，向下側(cè)升降機(jī)構(gòu)52發(fā)送控制信號(hào)而使下側(cè)掩膜42下降。結(jié)果，如圖3(6)所示那樣，各掩膜41、42返回到最初的待機(jī)位置的高度。

然后，控制部使可動(dòng)框架64向固定框架681側(cè)進(jìn)一步直線移動(dòng)。如圖3(6)所示那樣，此時(shí)移動(dòng)距離為成為各清洗輥61、62與各轉(zhuǎn)移輥68接觸的狀態(tài)的距離。在該狀態(tài)下，控制部使各轉(zhuǎn)移輥68的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源683動(dòng)作，使各轉(zhuǎn)移輥68旋轉(zhuǎn)。在各轉(zhuǎn)移輥68與各清洗輥61、62之間存在較大的摩擦力，因此通過(guò)各轉(zhuǎn)移輥68的旋轉(zhuǎn)，而各清洗輥61、62從動(dòng)旋轉(zhuǎn)。此時(shí)，轉(zhuǎn)移輥68的表面的粘貼層的粘貼力比清洗輥61、62的表面的粘貼層的粘貼力更高，因此附著于清洗輥61、62的異物向轉(zhuǎn)移輥68轉(zhuǎn)移而附著。

然后，控制部使可動(dòng)框架64向各清洗輥61、62從各轉(zhuǎn)移輥68離開(kāi)的方向移動(dòng)，使可動(dòng)框架64返回最初的待機(jī)位置。另一方面，在各清洗輥61、62對(duì)各掩膜41、42的清洗結(jié)束之后，控制部使掩膜41、42與片狀基板s緊貼，向各光學(xué)系統(tǒng)3的快門發(fā)送控制信號(hào)而將快門打開(kāi)，使其進(jìn)行下一次的曝光動(dòng)作。由此，在下一次曝光動(dòng)作的過(guò)程中，各轉(zhuǎn)移輥68從各清洗輥61、62轉(zhuǎn)移異物。在下一次曝光動(dòng)作結(jié)束時(shí)之前，轉(zhuǎn)移動(dòng)作結(jié)束，可動(dòng)框架64返回最初的位置。然后，圖3(2)～圖3(6)所示的動(dòng)作被同樣地重復(fù)。

根據(jù)這樣的構(gòu)成以及動(dòng)作的實(shí)施方式，在輥到輥方式的兩面曝光裝置中，提供各掩膜41、42被保持為清洗的狀態(tài)的實(shí)用的構(gòu)成。即，在之間存在片狀基板s的狀態(tài)下各清洗輥61、62與各掩膜41、42抵接而轉(zhuǎn)動(dòng)，將異物除去。當(dāng)直接采用專利文獻(xiàn)1、專利文獻(xiàn)2的構(gòu)造時(shí)，片狀基板s成為妨礙，因此必須在暫時(shí)將片狀基板s卷繞之后進(jìn)行清洗。在該構(gòu)成中，到清洗的開(kāi)始之前非?；ㄙM(fèi)時(shí)間勞力，并且清洗的頻度不得不變得非常低。當(dāng)為了進(jìn)行優(yōu)良品質(zhì)的處理而提高清洗的頻度時(shí)，會(huì)較大地阻礙生產(chǎn)率。另一方面，根據(jù)實(shí)施方式的構(gòu)成，在片狀基板s位于搬運(yùn)面上的狀態(tài)下對(duì)各掩膜41、42進(jìn)行清洗，因此能夠在各曝光的間隔(逐次搬運(yùn)時(shí))中進(jìn)行清洗，不存在上述那樣的問(wèn)題。

此外，當(dāng)是在對(duì)一方的掩膜41進(jìn)行了清洗之后對(duì)另一方的清洗42進(jìn)行清洗的構(gòu)成時(shí)，清洗所需要的整體的時(shí)間變長(zhǎng)，對(duì)生產(chǎn)率賦予的影響變得不能夠忽略。然而，在實(shí)施方式的裝置中，一對(duì)清洗輥61、62同時(shí)期地移動(dòng)而進(jìn)行清洗，因此不存在這樣的問(wèn)題。

另外，在本實(shí)施方式中，通過(guò)使一對(duì)清洗輥61、62一體地移動(dòng)來(lái)實(shí)現(xiàn)同時(shí)期的清洗，但這不一定是必須的。即使一對(duì)清洗輥61、62分別移動(dòng)，但是只要其移動(dòng)同時(shí)期地進(jìn)行，則能夠避免阻礙生產(chǎn)率的問(wèn)題。但是，如根據(jù)上述說(shuō)明可知的那樣，在一體地移動(dòng)的情況下，能夠通過(guò)一個(gè)機(jī)構(gòu)使雙方的清洗輥61、62移動(dòng)，因此存在機(jī)構(gòu)被簡(jiǎn)化的優(yōu)點(diǎn)。

此外，在上述說(shuō)明中，說(shuō)明了在對(duì)于片狀基板s的每次曝光的間隔中進(jìn)行清洗，但是能夠根據(jù)異物對(duì)于各掩膜41、42的附著狀況來(lái)調(diào)節(jié)清洗的頻度。有時(shí)每進(jìn)行數(shù)次～數(shù)十次的曝光而進(jìn)行1次清洗。

另外，作為掩膜移動(dòng)機(jī)構(gòu)的升降機(jī)構(gòu)被兼用于使各清洗輥61、62相對(duì)于各掩膜41、42接觸。這一點(diǎn)也對(duì)于使裝置在機(jī)構(gòu)上簡(jiǎn)化具有貢獻(xiàn)。為了使各清洗輥61、62與各掩膜41、42接觸，也能夠采用與升降機(jī)構(gòu)不同的機(jī)構(gòu)，但是在該情況下，機(jī)構(gòu)變得復(fù)雜，成本也上升。在實(shí)施方式中，不存在這樣的問(wèn)題。

并且，在本實(shí)施方式中，對(duì)于各清洗輥61、62設(shè)置有轉(zhuǎn)移輥68，附著于各清洗輥61、62的異物被向轉(zhuǎn)移輥68轉(zhuǎn)移，因此各清洗輥61、62的維護(hù)周期變長(zhǎng)。各清洗輥61、62為，在附著較多的異物而異物的除去能力降低的情況下，被取下并用水進(jìn)行清洗而使能力恢復(fù)。在本實(shí)施方式中，各清洗輥61、62定期地與轉(zhuǎn)移輥68接觸而進(jìn)行異物的轉(zhuǎn)移。在異物向轉(zhuǎn)移輥68的附著量變多的情況下，通過(guò)將表面的一層粘性膠帶剝?nèi)サ木S護(hù)即可。因此，各清洗輥61、62的水清洗的頻度較低，對(duì)生產(chǎn)率產(chǎn)生的影響變得非常小。

接下來(lái)，對(duì)第二實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置進(jìn)行說(shuō)明。

圖4是表示第二實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置的主要部分的立體概略圖。該第二實(shí)施方式的裝置與第一實(shí)施方式的不同點(diǎn)在于，各清洗輥61、62的安裝構(gòu)造以及用于相對(duì)于各掩膜41、42接觸的構(gòu)造。

具體地說(shuō)明，在第二實(shí)施方式中，一對(duì)清洗輥61、62的芯棒的端部也由除塵支柱部641支撐。除塵支柱部641與第一實(shí)施方式不同，在之間夾著作為彈性體的螺旋彈簧7的狀態(tài)下對(duì)一對(duì)清洗輥61、62進(jìn)行支撐。即，一對(duì)清洗輥61、62經(jīng)由螺旋彈簧7連結(jié)。另外，在圖4中，省略各轉(zhuǎn)移輥、對(duì)其進(jìn)行支撐的固定框架等的圖示。

在各除塵支柱部641，上下地設(shè)置有一對(duì)托架(以下，稱為上側(cè)托架、下側(cè)托架)71、72，以將一對(duì)托架71、72相連的狀態(tài)設(shè)置有螺旋彈簧7。如圖5所示那樣，一對(duì)托架71、72以從除塵支柱部641向x方向突出的狀態(tài)設(shè)置，對(duì)沿y方向延伸的芯棒的兩端進(jìn)行緊固而保持。

此外，在各除塵支柱部641，一對(duì)托架71、72突出的一側(cè)的側(cè)面稱為導(dǎo)軌。各托架71、72能夠沿著該導(dǎo)軌在上下方向上滑動(dòng)。另外，各除塵支柱部641的構(gòu)造為，在下端部具有承接板(省略符號(hào))，在待機(jī)狀態(tài)下，下側(cè)托架72承載于承接板上，并通過(guò)螺旋彈簧7將上側(cè)托架71與其連結(jié)。雖然由于上側(cè)托架71以及所支撐的上側(cè)清洗輥61的重量而螺旋彈簧7處于被稍微壓縮的狀態(tài)，但是大致成為自由長(zhǎng)度的長(zhǎng)度。

另外，在各除塵支柱部641的上端設(shè)置有限位器75，以便下側(cè)掩膜42不會(huì)限度以上地上升。

關(guān)于上述以外的構(gòu)造，第二實(shí)施方式的裝置與第一實(shí)施方式基本上相同。一對(duì)清洗輥61、62能夠與可動(dòng)框架64一體地移動(dòng)，并且在固定框架681上設(shè)置有一對(duì)轉(zhuǎn)移輥68。

參照?qǐng)D5對(duì)這樣的第二實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。圖5是表示第二實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置的動(dòng)作的主視截面概略圖。

如圖5(1)所示那樣，在第二實(shí)施方式中，使各掩膜41、42與片狀基板s緊貼，借助各光學(xué)系統(tǒng)3使來(lái)自各光源2的光l通過(guò)各掩膜41、42照射而進(jìn)行兩面曝光。在該一次的曝光之后，如圖5(2)所示那樣，各掩膜41、42向從片狀基板s分離的待機(jī)位置返回。然后，進(jìn)行掩膜清洗的準(zhǔn)備操作。

即，如圖5(2)所示那樣，輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)63使可動(dòng)框架64向x方向移動(dòng)而使一對(duì)清洗輥61、62位于掩膜41、42的相反側(cè)。在沿x方向觀察的情況下，該位置是各掩膜41、42中應(yīng)該進(jìn)行清洗的區(qū)域的端部的位置。

在該狀態(tài)下，控制部向下側(cè)升降機(jī)構(gòu)52發(fā)送控制信號(hào)，使下側(cè)掩膜42上升規(guī)定距離。此時(shí)，首先，如圖5(3)所示那樣，下側(cè)掩膜42與下側(cè)清洗輥62接觸。下側(cè)升降機(jī)構(gòu)52使下側(cè)掩膜42進(jìn)一步上升。

此時(shí)，下側(cè)掩膜42已經(jīng)與下側(cè)清洗輥62接觸，下側(cè)清洗輥62通過(guò)可動(dòng)框架64與上側(cè)清洗輥61連結(jié)，因此下側(cè)升降機(jī)構(gòu)52成為使承載于下側(cè)掩膜42的下側(cè)清洗輥62以及上側(cè)清洗輥61一體地上升的狀態(tài)。另外，此時(shí)，下側(cè)托架72從承接板離開(kāi)而上升。

然后，當(dāng)如圖5(4)所示那樣上側(cè)清洗輥61與上側(cè)掩膜41抵接、且之后稍微上升時(shí)，下側(cè)升降機(jī)構(gòu)52停止下側(cè)掩膜42的上升。上側(cè)掩膜41的位置通過(guò)上側(cè)升降機(jī)構(gòu)51固定，因此上側(cè)清洗輥61與上側(cè)掩膜41抵接之后的上升，會(huì)反抗螺旋彈簧7的彈性。即，上側(cè)清洗輥61與上側(cè)掩膜41碰撞而將螺旋彈簧7稍微壓縮，并且下側(cè)升降機(jī)構(gòu)52使下側(cè)掩膜42稍微上升。

在圖5(4)所示的狀態(tài)下，成為通過(guò)螺旋彈簧7的彈性而下側(cè)清洗輥62被按壓于下側(cè)掩膜42、并且上側(cè)清洗輥61被按壓于上側(cè)掩膜41的狀態(tài)。在該狀態(tài)下，控制部向輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)63發(fā)送控制信號(hào)，使可動(dòng)框架64沿x方向向相反方向移動(dòng)規(guī)定距離。此時(shí)的移動(dòng)距離，為各清洗輥61、62經(jīng)過(guò)各掩膜41、42的圖案區(qū)域r所需要的距離。如圖5(5)所示那樣，當(dāng)該距離的移動(dòng)結(jié)束時(shí)，控制部向輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)63發(fā)送控制信號(hào)而使移動(dòng)停止。在到此為止的移動(dòng)時(shí)，各清洗輥61、62在各掩膜41、42上從動(dòng)旋轉(zhuǎn)，將附著于各掩膜41、42的異物除去。

接下來(lái)，控制部向下側(cè)升降機(jī)構(gòu)52發(fā)送控制信號(hào)，如圖5(6)所示那樣，使下側(cè)掩膜42下降到最初的高度。結(jié)果，上側(cè)清洗輥61從上側(cè)掩膜41離開(kāi)，下側(cè)清洗輥62從下側(cè)掩膜42離開(kāi)。此外，下側(cè)托架72成為承載于承接板的狀態(tài)，螺旋彈簧7成為大致自由長(zhǎng)度。

然后，與第一實(shí)施方式同樣，控制部使可動(dòng)框架64進(jìn)一步沿x方向移動(dòng)，并如圖5(6)所示那樣使各清洗輥61、62與各轉(zhuǎn)移輥68接觸。然后，使各轉(zhuǎn)移輥68的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源683動(dòng)作，使各清洗輥61、62上的異物向各轉(zhuǎn)移輥68轉(zhuǎn)移。然后，控制部使可動(dòng)框架64向最初的待機(jī)位置返回。然后，當(dāng)接下來(lái)的一次的曝光結(jié)束時(shí)，重復(fù)同樣的清洗動(dòng)作。另外，與第一實(shí)施方式同樣，與每次曝光的間隔的片狀基板s的搬運(yùn)在時(shí)間上重疊地進(jìn)行上述清洗動(dòng)作。

根據(jù)這樣的構(gòu)成以及動(dòng)作的第二實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置，在清洗時(shí)，各清洗輥61、62相對(duì)于各掩膜41、42的按壓壓力通過(guò)螺旋彈簧7適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)。即，上側(cè)清洗輥61與上側(cè)掩膜41抵接之后的下側(cè)掩膜42的上升，成為反抗螺旋彈簧7的彈性的形式，因此通過(guò)對(duì)該上升距離適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)，由此對(duì)螺旋彈簧7的彈力進(jìn)行調(diào)節(jié)，對(duì)各清洗輥61、62向各掩膜41、42的抵接壓力進(jìn)行調(diào)節(jié)。因此，不會(huì)由于壓力不足而不能夠充分地進(jìn)行異物的除去，或者由于過(guò)度的壓力而損傷掩膜41、42。

在第一實(shí)施方式中，通過(guò)成為經(jīng)由彈性體使各清洗輥61、62保持于除塵支柱部641的構(gòu)造，也能夠得到同樣的效果。但是，與第一實(shí)施方式相比，第二實(shí)施方式的構(gòu)造為，僅通過(guò)利用下側(cè)升降機(jī)構(gòu)52使下側(cè)掩膜42上升，就能夠使各清洗輥61、62與各掩膜41、42抵接，螺旋彈簧7為一個(gè)即可。因此，在構(gòu)造上變得簡(jiǎn)潔。

接下來(lái)，對(duì)第三實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。

圖8是第三實(shí)施方式的輥到輥兩面曝光裝置的主要部分的立體概略圖。第三實(shí)施方式的裝置與第一、第二實(shí)施方式的不同點(diǎn)在于，清洗裝置具備除電器81、82。除電器81、82是在清洗之前將各掩膜41、42表面的靜電除去的器具。在本實(shí)施方式中，除電器81、82為電離器。電離器為，對(duì)掩膜41、42照射離子而使其與電荷中和來(lái)進(jìn)行除電。電離器存在各種方式，能夠適當(dāng)?shù)剡x定而使用，例如能夠采用通過(guò)dc或者ac放電將空氣離子化而放出的類型。

如圖8所示那樣，除電器81、82作為整體為棒狀的部件，沿著長(zhǎng)度方向設(shè)置有放出離子的多個(gè)噴嘴83。在本實(shí)施方式中，作為上側(cè)掩膜41用而設(shè)置有上側(cè)除電器81，作為下側(cè)掩膜42用而設(shè)置有下側(cè)除電器82。上側(cè)除電器81以使各噴嘴83朝向上側(cè)的姿態(tài)配置，下側(cè)除電器82以使各噴嘴83朝向下側(cè)的姿態(tài)設(shè)置。一對(duì)除電器81、82同樣由可動(dòng)框架64支撐，能夠隨著可動(dòng)框架64的移動(dòng)而一體地移動(dòng)。另外，一對(duì)除電機(jī)81、82被設(shè)置于搬運(yùn)面位于其之間的高度。由此，在裝置的動(dòng)作時(shí)，成為在一對(duì)除電機(jī)81、82之間存在片狀基板s的狀態(tài)。

在第三實(shí)施方式中，也是在各次曝光的間隔中清洗機(jī)構(gòu)6進(jìn)行動(dòng)作。控制部在各清洗輥61、62與各掩膜41、42抵接的狀態(tài)下使可動(dòng)框架64沿x方向移動(dòng)而使各清洗輥61、62從動(dòng)旋轉(zhuǎn)，由此進(jìn)行清洗。此時(shí)，控制部使各除電器81、82動(dòng)作。如根據(jù)圖8可知的那樣，各除電器81、82設(shè)置在移動(dòng)方向前方，因此與各清洗輥61、62相比各除電器81、82先在各掩膜41、42的前方通過(guò)。即，在各清洗輥61、62進(jìn)行清洗之前，通過(guò)各除電器81、82對(duì)各掩膜41、42的表面進(jìn)行除電。因此，各清洗輥61、62的清洗效果進(jìn)一步提高。

更具體地說(shuō)明，掩膜41、42為石英玻璃那樣的玻璃制，且能夠帶電。由此，有時(shí)由電介質(zhì)形成的異物靜電吸附于掩膜41、42，也有時(shí)吸附有帶電的灰塵那樣的異物。在這樣的異物的情況下，向掩膜41、42的附著力較強(qiáng)，因此可能存在僅通過(guò)使清洗輥61、62轉(zhuǎn)動(dòng)并不能夠除去的情況。在本實(shí)施方式中，除電器81、82預(yù)先進(jìn)行掩膜41、42的表面的除電，因此異物的靜電吸附被解除、或者成為非常小的吸附力。因此，能夠通過(guò)清洗輥61、62的粘貼力可靠地除去。

另外，與第一實(shí)施方式同樣，在第三實(shí)施方式中也是，可動(dòng)框架64在移動(dòng)(往路移動(dòng))到各清洗輥61、62面向各掩膜41、42的圖案區(qū)域r的一方端部的稍微外側(cè)的位置之后，在進(jìn)行反轉(zhuǎn)后退(復(fù)路移動(dòng))時(shí)與各掩膜41、42接觸而進(jìn)行清洗。由此，可以在往路移動(dòng)時(shí)使各除電器81、82動(dòng)作，也可以在往路移動(dòng)和復(fù)路移動(dòng)的雙方使其動(dòng)作。

無(wú)論如何，在第三實(shí)施方式中，輥移動(dòng)機(jī)構(gòu)63被兼用于除塵器81、82的移動(dòng)，因此通過(guò)這一點(diǎn)也能夠使機(jī)構(gòu)簡(jiǎn)化。

在上述各實(shí)施方式中，各清洗輥61、62的具有粘貼層的部分的長(zhǎng)度(y方向的長(zhǎng)度)，與各掩膜41、42的圖案區(qū)域r的y方向的長(zhǎng)度相當(dāng)，并僅對(duì)圖案區(qū)域r進(jìn)行清洗，但是也可以使各清洗輥61、62變長(zhǎng)、并使移動(dòng)距離變長(zhǎng)，由此對(duì)圖案區(qū)域r的更大的區(qū)域進(jìn)行清洗。

另外，也可以不僅在復(fù)路移動(dòng)中而且在往路移動(dòng)中也使各清洗輥61、62與各掩膜41、42接觸而進(jìn)行清洗。但是，當(dāng)與僅移動(dòng)到清洗開(kāi)始位置的情況相比時(shí)，在清洗時(shí)各清洗輥61、62會(huì)以較慢的速度移動(dòng)。因此，當(dāng)通過(guò)往復(fù)的移動(dòng)進(jìn)行清洗時(shí)，生產(chǎn)間隔時(shí)間變長(zhǎng)。由此，當(dāng)考慮生產(chǎn)率時(shí)，在不需要的情況下，優(yōu)選成為僅通過(guò)往路或者僅通過(guò)復(fù)路的清洗。

此外，在本發(fā)明中，也可以是在將各掩膜41、42與片狀基板s之間抽成真空的緊貼狀態(tài)下進(jìn)行曝光的接觸方式。在抽成真空的接觸方式的情況下，由于容易聚集周圍的異物，因此具備各實(shí)施方式那樣的掩膜清洗機(jī)構(gòu)6的意義較大。另外，對(duì)于進(jìn)行在各掩膜41、42與片狀基板s之間形成規(guī)定的較小間隙的同時(shí)進(jìn)行曝光的鄰近方式的曝光的裝置，本發(fā)明同樣能夠?qū)嵤?/p>

另外，在上述各實(shí)施方式中，各清洗輥61、62進(jìn)行從動(dòng)旋轉(zhuǎn)，但也可以具備旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源而進(jìn)行主動(dòng)旋轉(zhuǎn)。在該情況下，還能夠考慮到如下構(gòu)成：通過(guò)這樣的主動(dòng)旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，由此利用與各掩膜41、42之間的摩擦力來(lái)進(jìn)行移動(dòng)。但是，在進(jìn)行主動(dòng)旋轉(zhuǎn)的情況下，容易對(duì)各掩膜施加較大的反作用、摩擦力，容易產(chǎn)生各掩膜的損傷等，因此優(yōu)選為從動(dòng)旋轉(zhuǎn)。另外，在各清洗輥61、62具備旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源的情況下，在與各轉(zhuǎn)移輥68的接觸中，有時(shí)各轉(zhuǎn)移輥68被作為從動(dòng)輥。