本發(fā)明的實施例涉及一種光刻膠組合物及其制備方法、有機發(fā)光二極管(oled)陣列基板及其制備方法。

背景技術：

有機電致發(fā)光二極管(oled，organiclightemittingdiode)是一種有機薄膜電致發(fā)光器件，其具有制備工藝簡單、成本低、發(fā)光效率高、易形成柔性結構等優(yōu)點。因此，利用有機電致發(fā)光二極管的顯示技術已成為一種重要的顯示技術。

有機電致發(fā)光二極管中的像素界定層的材料一般為光刻膠。光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠兩大類。隨著大規(guī)模集成電路工業(yè)的飛速發(fā)展，集成電路產(chǎn)品及品種的多樣化，對光刻膠的性能的要求越來越高，例如，提高光刻膠的分辨率，進而提高其對位精度等。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明至少一實施例提供一種光刻膠組合物，包括：堿可溶性樹脂、感光單體、熱致變色顏料和溶劑，所述堿可溶性樹脂的質量百分含量為10wt％～30wt％，所述感光單體的質量百分含量為1wt％～12wt％，所述熱致變色顏料的質量百分含量為5wt％～20wt％，所述溶劑的質量百分含量為40wt％～65wt％；所述熱致變色顏料在加熱的條件下顏色會加深。

例如，本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物還包括：有機硅/氟光敏樹脂，所述有機硅/氟光敏樹脂的質量百分含量為5wt％～10wt％，所述堿可溶性樹脂的質量百分含量為10wt％～25wt％，所述感光單體的質量百分含量為1wt％～10wt％，所述熱致變色顏料的質量百分含量為5wt％～20wt％，所述溶劑的質量百分含量為40wt％～63wt％。

例如，在本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物中，所述有機硅/氟光敏樹脂包括硅倍半氧烷籠結構的有機硅/氟光敏樹脂和線性有機硅氟樹脂結構的有機硅/氟光敏樹脂中的至少之一。

例如，所述熱致變色顏料包括：(nh4)3po4·12moo3、[cr(nh3)6]4(p2o7)3、co(nh3)5cl3或者含有三芳甲烷類結晶紫內(nèi)酯及其衍生物。

例如，在本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物中，所述熱致變色顏料在190℃～230℃的條件下加熱時顏色會加深。

例如，在本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物中，所述堿可溶性樹脂包括丙烯酸堿可溶性樹脂和聚酰亞胺堿可溶性樹脂中的至少之一。

例如，在本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物中，所述感光單體包括重氮萘醌系感光單體。

例如，在本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物中，所述溶劑包括脂肪醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、甲乙酮、甲基異丁基酮、γ-丁內(nèi)酯、丁基卡必醇、丁基卡必醇醋酸酯、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚醋酸酯、環(huán)己烷、二甲苯和異丙醇中的至少之一。

例如，本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物，還包括光引發(fā)劑，所述光引發(fā)劑包括二咪唑系化合物、安息香系化合物、多核醌系化合物、二苯甲酮系化合物、苯乙酮系化合物、三嗪系化合物、重氮系化合物、蒽酮系化合物、咕噸酮系化合物、肟酯類化合物、碘鎓鹽和硫鎓鹽中的至少之一。

例如，本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物還包括分散劑，所述分散劑包括木質素磺酸鹽。

例如，本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物還包括偶聯(lián)劑、抗氧化劑、紫外吸收劑、消泡劑中的一種或多種。

本發(fā)明至少一實施例還提供一種有機發(fā)光二極管(oled)陣列基板，包括像素界定層，所述像素界定層由上述任一光刻膠組合物制備而成。

本發(fā)明至少一實施例還提供一種光刻膠組合物的制備方法，包括：在溶劑中依次加入堿可溶性樹脂、感光單體、熱致變色顏料以形成所述光刻膠組合物，所述堿可溶性樹脂的質量百分含量為10wt％～30wt％，所述感光單體的質量百分含量為1wt％～12wt％，所述熱致變色顏料的質量百分含量為5wt％～20wt％，所述溶劑的質量百分含量為40wt％～65wt％；所述熱致變色顏料在加熱的條件下顏色會加深。

例如，在本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物的制備方法中，在加入所述熱致變色顏料之前，還包括：在溶劑中加入有機硅/氟光敏樹脂，所述有機硅/氟光敏樹脂的質量百分含量為5wt％～10wt％，所述堿可溶性樹脂的質量百分含量為10wt％～25wt％，所述感光單體的質量百分含量為1wt％～10wt％，所述熱致變色顏料的質量百分含量為5wt％～20wt％，所述溶劑的質量百分含量為40wt％～63wt％。

本發(fā)明至少一實施例還提供一種有機發(fā)光二極管(oled)陣列基板的制備方法，包括：提供襯底基板；在所述襯底基板上形成上述任一所述的光刻膠組合物的薄膜；對所述光刻膠組合物的薄膜進行構圖工藝以形成像素界定層的圖案；對所述透明的像素界定層的圖案進行加熱處理以形成顏色加深的像素界定層的圖案。

例如，本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物可用于制備像素界定層的材料，在由該光刻膠組合物形成像素界定層時，在對像素界定層薄膜進行后烘工序之前，像素界定層薄膜可以使光線透過，以在進行光刻工藝形成像素界定層的圖案時提高對位精度；在形成像素界定層的圖案后，在進行后烘工序以去除殘余的溶劑時，該像素界定層中的熱致變色顏料例如發(fā)生不可逆的顏色變化，以使該像素界定層的顏色加深，以實現(xiàn)遮光的效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例的技術方案，下面將對實施例的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅涉及本發(fā)明的一些實施例，而非對本發(fā)明的限制。

圖1為本發(fā)明一實施例提供的一種有機發(fā)光二極管(oled)陣列基板的截面結構示意圖；

圖2為本發(fā)明一實施例提供的一種光刻膠組合物的制備方法的流程圖；

圖3為本發(fā)明一實施例提供的另一種光刻膠組合物的制備方法的流程圖；

圖4為本發(fā)明一實施例提供的一種有機發(fā)光二極管(oled)陣列基板的制備方法的流程圖；以及

圖5為本發(fā)明一實施例提供的加入的熱致變色顏料的量與白光的透過率的關系圖。

附圖標記：

101-襯底基板；102-驅動晶體管；103-第一電極；104-第二電極；110-像素界定層；105-有機材料功能層；1021-柵極；1022-源極；1023-漏極；1024-有源層。

具體實施方式

為使本發(fā)明實施例的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結合本發(fā)明實施例的附圖，對本發(fā)明實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本發(fā)明的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于所描述的本發(fā)明的實施例，本領域普通技術人員在無需創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

除非另外定義，本公開使用的技術術語或者科學術語應當為本發(fā)明所屬領域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本公開中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性，而只是用來區(qū)分不同的組成部分?！鞍ā被蛘摺鞍钡阮愃频脑~語意指出現(xiàn)該詞前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件?！斑B接”或者“相連”等類似的詞語并非限定于物理的或者機械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的?！吧稀薄ⅰ跋隆?、“左”、“右”等僅用于表示相對位置關系，當被描述對象的絕對位置改變后，則該相對位置關系也可能相應地改變。

有機電致發(fā)光顯示器件(oled)中的像素界定層如果是黑色等深色時，其可以防止發(fā)光層發(fā)出的白光以及金屬反射的光線照射至驅動晶體管的有源層，以防止對驅動晶體管造成不利影響，也可以防止漏光以及混色等不良現(xiàn)象。具有遮光性能的像素界定層的材料多為負性光刻膠，相對于正性光刻膠，負性光刻膠的分辨率更低，在形成像素界定層的圖案時其對位精度不夠，除此之外，如果像素界定層的遮光能力太強會出現(xiàn)無法對位的問題。

本申請的實施例提供一種用于制備有機電致發(fā)光顯示器件(oled)的像素界定層(pixeldefinitionlayer)的光刻膠組合物。例如，由該光刻膠組合物形成像素界定層的過程中，在對像素界定層薄膜進行后烘工序之前，像素界定層薄膜可使光線透過，以便于曝光對位，在形成像素界定層的圖案后，在后續(xù)的后烘工序中，該像素界定層中的熱致變色顏料會發(fā)生不可逆的顏色變化，該像素界定層的顏色會變深以實現(xiàn)遮光的效果。例如，該光刻膠為正性光刻膠，由此相對于負性光刻膠，其分辨率更高，其能夠提高對位的精度。

本發(fā)明至少一實施例提供一種光刻膠組合物，該光刻膠組合物包括：堿可溶性樹脂、感光單體、熱致變色顏料和溶劑，該堿可溶性樹脂的質量百分含量為10wt％～30wt％，該感光單體的質量百分含量為1wt％～12wt％，該熱致變色顏料的質量百分含量為5wt％～20wt％，該溶劑的質量百分含量為40wt％～65wt％；該熱致變色顏料在加熱的條件下顏色會加深，這樣該光刻膠組合物可以實現(xiàn)在有機電致發(fā)光顯示器件(oled)的像素界定層中的應用，可以同時滿足于對位精度的要求和遮光能力的要求。

下面通過幾個實施例進行說明。

實施例一

本實施例提供一種光刻膠組合物，該光刻膠組合物中含有的熱致變色顏料的顏色在一定的溫度下可以發(fā)生變化，顏色可以變得更深，可以實現(xiàn)對光線進行遮擋。

本實施例提供的光刻膠組合物包括：堿可溶性樹脂、感光單體、熱致變色顏料和溶劑，該堿可溶性樹脂的質量百分含量為10wt％～30wt％，該感光單體的質量百分含量為1wt％～12wt％，該熱致變色顏料的質量百分含量為5wt％～20wt％，該溶劑的質量百分含量為40wt％～65wt％；該熱致變色顏料在加熱的條件下顏色會加深。

例如，該堿可溶性樹脂的質量百分含量為20wt％～28wt％，該感光單體的質量百分含量為6wt％～10wt％，該熱致變色顏料的質量百分含量為7wt％～18wt％，該溶劑的質量百分含量為55wt％～60wt％。

例如，該堿可溶性樹脂的質量百分含量為22wt％，該感光單體的質量百分含量為8wt％，該熱致變色顏料的質量百分含量為12wt％，該溶劑的質量百分含量為58wt％。

例如，該熱致變色顏料包括：(nh4)3po4·12moo3、[cr(nh3)6]4(p2o7)3、co(nh3)5cl3或者含有三芳甲烷類結晶紫內(nèi)酯及其衍生物。例如，該熱致變色顏料在190℃～230℃的條件下加熱時顏色會加深。形成膜層時的前烘溫度一般在90℃～120℃，在低于90℃的條件下就會發(fā)生熱致變色的材料則不適用于本公開。

例如，上述各種熱致變色顏料的變色機理分別為：

(1)熱致變色顏料co(nh3)5cl3在常溫下為紫紅色，其與堿可溶性樹脂、感光單體和溶劑混合后形成的組合物的顏色為棕紅色，將上述組合物涂覆在透明的玻璃基板上時呈現(xiàn)亮紅色。對該組合物加熱時，熱致變色顏料co(nh3)5cl3會失去氨，以形成藍黑色的cocl2，這樣由該組合物形成的膜層結構最終變?yōu)樗{黑色，以對大部分的光線進行遮擋。例如，加熱時反應的方程式為：

例如，該熱致變色顏料在190℃或者高于190℃的條件下加熱時顏色會加深。如果加熱的溫度太低，該熱致變色顏料不能分解，從而不能變色，且易出現(xiàn)溶劑殘留的現(xiàn)象，不能固化完全，殘留的水、氧會對后續(xù)形成的發(fā)光層造成影響。如果反應的溫度太高，高于230℃時，會對其他部件造成不利影響，且會增加生產(chǎn)成本。

(2)熱致變色顏料(nh4)3po4·12moo3在常溫下為黃色，其與堿可溶性樹脂、感光單體、和溶劑混合后形成的組合物的顏色為淺黃色，將上述組合物涂覆在透明的玻璃基板上時呈現(xiàn)淡黃色。對該組合物加熱時，熱致變色顏料(nh4)3po4·12moo3會形成氨氣、磷酸以及黑色的moo3，這樣由該組合物形成的膜層結構最終變?yōu)樗{黑色，以對大部分的光線進行遮擋。例如，加熱時反應的方程式為：

例如，該熱致變色顏料在190℃或者高于190℃的條件下加熱時顏色會加深。如果加熱的溫度太低，該熱致變色顏料不能分解，從而不能變色，且易出現(xiàn)溶劑殘留的現(xiàn)象，不能固化完全，殘留的水、氧會對后續(xù)形成的發(fā)光層造成影響。如果反應的溫度太高，高于230℃時，會對其他部件造成不利影響，且會增加生產(chǎn)成本。

(3)熱致變色顏料[cr(nh3)6]4(p2o7)3在常溫下為黃色，其與堿可溶性樹脂、感光單體、和溶劑混合后形成的組合物的顏色為淺黃色，將上述組合物涂覆在透明的玻璃基板上時呈現(xiàn)淡黃色。對該組合物加熱時，熱致變色顏料的晶格會發(fā)生變化，從而顏色加深，形成的膜層結構最終變?yōu)樽虾谏?，以對大部分的光線進行遮擋。

例如，該熱致變色顏料在190℃或者高于190℃的條件下加熱時顏色會加深。

(4)熱致變色顏料的分子式如下所示：

其常溫下其表現(xiàn)為無色。其與堿可溶性樹脂、感光單體、和溶劑混合后形成的組合物的顏色為淺紅色，將上述組合物涂覆在透明的玻璃基板上時呈現(xiàn)亮紅色。

例如，加熱時反應的方程式為：

例如，根據(jù)取代基r的選擇的不同，反應完成后生產(chǎn)的產(chǎn)物的顏色不同，例如，當取代基r、x均為h時，其表現(xiàn)為紫黑色；當取代基r為ch3，取代基x為n(ch3)2時，其表現(xiàn)為藍紫黑色；當取代基r為ch3，取代基x為och3時，其表現(xiàn)為藍黑色。

例如，在加熱的條件下，該熱致變色顏料和酸性的物質反應，該酸性的物質例如為雙酚a，在光刻膠組合物種可以加微量的酸；加熱的溫度范圍為190℃～230℃，如果反應的溫度太低，則反應無法進行，且易出現(xiàn)溶劑殘留的現(xiàn)象，沒法固化完全，進而對后續(xù)形成的發(fā)光層造成影響。如果反應的溫度太高，溶劑可能會揮發(fā)，會對其他部件造成不利影響，且會增加生產(chǎn)成本。

上述反應的機理為：連接三個苯環(huán)的碳原子由sp3雜化態(tài)轉為sp2雜化態(tài)，原來被隔開的π體系轉變?yōu)橥暾拇螃畜w系，吸收光譜紅移，從而使化合物從無色變?yōu)樯钌?/p>

需要說明的是，主要是短波長的藍光、紫光對作為開關元件的薄膜晶體管(tft)的性能有不利影響，當熱致變色顏料的顏色變?yōu)樽虾谏蛘咚{黑色時也可以對tft起到很好的遮光作用。

例如，該堿可溶性樹脂包括丙烯酸堿可溶性樹脂和聚酰亞胺堿可溶性樹脂中的至少之一。例如，堿可溶性樹脂中含有羥基，可與感光單體發(fā)生反應，變?yōu)閴A不溶樹脂，以形成成膜樹脂。當紫外光照射時，光敏基團發(fā)生反應生成酸根，進而溶于堿液。另外，堿可溶性樹脂的顯影性能、反應活性均比較高，其制備的光刻膠所形成的圖案具有較高的分辨率。

例如，感光單體包括重氮萘醌系感光單體。重氮萘醌系感光單體具有感光的作用，在堿性顯影液中易溶解。在本實施例提供的光刻膠組合物中，采用正性光刻膠，相對于負性光刻膠，正性光刻膠的分辨率更高，在形成膜層結構時能夠提高對位精度。

例如，感光單體可以包括以下幾種：

例如，在本實施例提供的光刻膠組合物中，溶劑包括脂肪醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、甲乙酮、甲基異丁基酮、γ-丁內(nèi)酯、丁基卡必醇、丁基卡必醇醋酸酯、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚醋酸酯、環(huán)己烷、二甲苯和異丙醇中的至少之一。

例如，本實施例提供的光刻膠組合物還可以包括有機硅/氟光敏樹脂等。

例如，在包含有該有機硅/氟光敏樹脂的光刻膠組合物中，該有機硅/氟光敏樹脂的質量百分含量可以為5wt％～10wt％，堿可溶性樹脂的質量百分含量可以為10wt％～25wt％，感光單體的質量百分含量可以為1wt％～10wt％，熱致變色顏料的質量百分含量可以為5wt％～20wt％，溶劑的質量百分含量可以為40wt％～63wt％。

例如，在包含有該有機硅/氟光敏樹脂的光刻膠組合物中，該有機硅/氟光敏樹脂的質量百分含量可以為6wt％～8wt％，堿可溶性樹脂的質量百分含量可以為8wt％～24wt％，感光單體的質量百分含量可以為3wt％～8wt％，熱致變色顏料的質量百分含量可以為6wt％～18wt％，溶劑的質量百分含量可以為45wt％～60wt％。

例如，在包含有該有機硅/氟光敏樹脂的光刻膠組合物中，該有機硅/氟光敏樹脂的質量百分含量可以為7wt％，堿可溶性樹脂的質量百分含量可以為15wt％，感光單體的質量百分含量可以為5wt％，熱致變色顏料的質量百分含量可以為15wt％，溶劑的質量百分含量可以為58wt％。

例如，在本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物中，有機硅/氟光敏樹脂包括硅倍半氧烷籠結構的有機硅/氟光敏樹脂和線性有機硅氟樹脂結構的有機硅/氟光敏樹脂中的至少之一。

例如，有機硅/氟光敏樹脂包括以下幾種：

a為硅倍半氧烷籠結構的有機硅/氟光敏樹脂，b為線性有機硅氟樹脂結構的有機硅/氟光敏樹脂。這里，基團r為f或者cf3，n＝10～40。

例如，本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物還可以包括光引發(fā)劑，該光引發(fā)劑包括二咪唑系化合物、安息香系化合物、多核醌系化合物、二苯甲酮系化合物、苯乙酮系化合物、三嗪系化合物、重氮系化合物、蒽酮系化合物、咕噸酮系化合物、肟酯類化合物、碘鎓鹽和硫鎓鹽中的至少之一。

例如，本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物還可以包括分散劑，該分散劑包括木質素磺酸鹽等。

例如，本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物還可以包括偶聯(lián)劑、抗氧化劑、紫外吸收劑、消泡劑中的一種或多種。

例如，在本發(fā)明的實施例提供的光刻膠組合物中，該熱致變色顏料可以在190℃～230℃的條件下加熱時顏色會加深，例如，將該光刻膠組合物用作像素界定層的材料時，如果加熱溫度大于像素界定層制作時的前烘溫度，同時小于后烘溫度，即在后烘過程之前，熱致變色顏料的顏色為淺色，后烘過程完成之后，熱致變色顏料的顏色為深色，則可以實現(xiàn)像素界定層薄膜在對位時為可透光的，在對位完成后為可遮光的，以實現(xiàn)對薄膜晶體管的有源層進行遮光。

實施例二

本實施例提供一種有機發(fā)光二極管(oled)陣列基板，包括像素界定層，該像素界定層由實施例一中的任一光刻膠組合物制備而成。

例如，圖1為本實施例提供的一種有機發(fā)光二極管(oled)陣列基板的截面結構示意圖。如圖1所示，該oled陣列基板包括：襯底基板101以及設置在襯底基板101上的驅動晶體管102、第一電極103、第二電極104、像素界定層110以及有機材料功能層105，該有機材料功能層105位于第一電極103和第二電極104之間；驅動晶體管102包括柵極1021、源極1022、漏極1023以及有源層1024，第一電極103與源極1022或漏極1023電連接。像素界定層110設置在有源層1024的正上方，且最終形成的像素界定層為深色，可以為驅動晶體管的有源層1024進行遮光。

第一電極103、有機材料功能層105和第二電極104構成三明治堆疊結構，得到有機發(fā)光二極管(oled)，其根據(jù)需要可以頂發(fā)射型、底發(fā)射型或雙面發(fā)射型等。有機材料功能層105還可以包括多個子層，例如包括空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層等。本發(fā)明的實施例不限于這些具體構造。

實施例三

本實施例提供一種光刻膠組合物的制備方法，包括：在溶劑中依次加入堿可溶性樹脂、感光單體、熱致變色顏料以獲得所述光刻膠組合物，其中，堿可溶性樹脂的質量百分含量為10wt％～30wt％，感光單體的質量百分含量為1wt％～12wt％，熱致變色顏料的質量百分含量為5wt％～20wt％，溶劑的質量百分含量為40wt％～65wt％；熱致變色顏料在加熱的條件下顏色會加深。

例如，圖2為本實施例提供的一種光刻膠組合物的制備方法的流程圖，該光刻膠組合物的制備方法包括：

s11：將裝有溶劑的容器放入40℃的恒溫水浴條件下，使溶劑加熱至40℃并保持恒溫5分鐘。

例如，該溶劑包括脂肪醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、甲乙酮、甲基異丁基酮、γ-丁內(nèi)酯、丁基卡必醇、丁基卡必醇醋酸酯、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚醋酸酯、環(huán)己烷、二甲苯和異丙醇中的至少之一。

步驟s12：在裝有溶劑的容器中加入堿可溶性樹脂，并使其完全溶解至透明。

例如，該堿可溶性樹脂包括丙烯酸堿可溶性樹脂和聚酰亞胺堿可溶性樹脂中的至少之一。

步驟s13：在溶解有堿可溶性樹脂的溶劑中加入感光單體并攪拌反應半小時。

例如，該感光單體為包括重氮萘醌系感光單體，例如，2-重氮-1-萘醌-5-磺酰氯、2-重氮-1-萘醌-4-磺酰氯，或者2-重氮-1-萘醌-9-酰氯。

步驟s14：在上述加入有感光單體的溶劑中加入熱致變色顏料。

例如，熱致變色顏料包括：(nh4)3po4·12moo3、[cr(nh3)6]4(p2o7)3、co(nh3)5cl3或者含有三芳甲烷類結晶紫內(nèi)酯及其衍生物。

例如，在本實施例提供的光刻膠組合物的制備方法中，在加入熱致變色顏料之前還可以包括在溶劑中加入有機硅/氟光敏樹脂。例如，該有機硅/氟光敏樹脂的質量百分含量為5wt％～10wt％，堿可溶性樹脂的質量百分含量為10wt％～25wt％，感光單體的質量百分含量為1wt％～10wt％，熱致變色顏料的質量百分含量為5wt％～20wt％，溶劑的質量百分含量為40wt％～63wt％。

例如，圖3為本實施例提供的另一種光刻膠組合物的制備方法的流程圖，該光刻膠組合物的制備方法包括：

步驟s21：將裝有溶劑的容器放入40℃的恒溫水浴條件下，使溶劑加熱至40℃并保持恒溫5分鐘。

例如，該溶劑包括脂肪醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、甲乙酮、甲基異丁基酮、γ-丁內(nèi)酯、丁基卡必醇、丁基卡必醇醋酸酯、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚醋酸酯、環(huán)己烷、二甲苯和異丙醇中的至少之一。

步驟s22：在裝有溶劑的容器中加入有機硅/氟光敏樹脂，并使其完全溶解至透明。

例如，有機硅/氟光敏樹脂包括以下幾種：

a為硅倍半氧烷籠結構的有機硅/氟光敏樹脂，b為線性有機硅氟樹脂結構的有機硅/氟光敏樹脂?；鶊Fr為f或者cf3，n＝10～40。

步驟s23：在加入有機硅/氟光敏樹脂的溶劑中加入堿可溶性樹脂，并使其完全溶解至透明。

例如，該堿可溶性樹脂包括丙烯酸堿可溶性樹脂和聚酰亞胺堿可溶性樹脂中的至少之一。

步驟s24：在溶解有堿可溶性樹脂的溶劑中加入感光單體并攪拌反應半小時。

例如該感光單體為包括重氮萘醌系感光單體，例如，2-重氮-1-萘醌-5-磺酰氯、2-重氮-1-萘醌-4-磺酰氯，或者2-重氮-1-萘醌-9-酰氯。

步驟s25：在上述加入有感光單體的溶劑中加入熱致變色顏料。

例如，熱致變色顏料包括：(nh4)3po4·12moo3、[cr(nh3)6]4(p2o7)3、co(nh3)5cl3或者含有三芳甲烷類結晶紫內(nèi)酯及其衍生物。

例如，在圖2和圖3所示的示例中，在加入了熱致變色顏料的溶劑中還可以加入光引發(fā)劑、分散劑、偶聯(lián)劑、抗氧化劑、紫外吸收劑和/或消泡劑。

例如，該光引發(fā)劑包括二咪唑系化合物、安息香系化合物、多核醌系化合物、二苯甲酮系化合物、苯乙酮系化合物、三嗪系化合物、重氮系化合物、蒽酮系化合物、咕噸酮系化合物、肟酯類化合物、碘鎓鹽和硫鎓鹽中的至少之一。

例如，該分散劑包括木質素磺酸鹽。

例如，有機硅/氟光敏樹脂的加入可以降低用光刻膠組合物形成的膜層結構的表面能。有機硅/氟光敏樹脂的具有較低表面自由能的組分如硅、氟等會在其表面上富集而使表面自由能極小化。

實施例四

本實施例提供一種有機發(fā)光二極管(oled)陣列基板的制備方法，該方法包括：提供襯底基板；在襯底基板上形成上述任一種光刻膠組合物的薄膜；對光刻膠組合物的薄膜進行構圖工藝以形成像素界定層的圖案；對透明的像素界定層的圖案進行加熱處理以形成顏色加深的像素界定層的圖案。

例如，圖4為本實施例的一個示例提供的一種有機發(fā)光二極管(oled)陣列基板的制備方法的流程圖。該制備方法包括如下步驟：

步驟s31：提供襯底基板。

例如，該襯底基板采用標準方法進行清洗，該襯底基板可以為玻璃基板、石英基板以及塑料基板等。

步驟s32：在襯底基板上形成第一電極。

例如，形成第一電極的過程包括采用磁控濺射的方法沉積導電薄膜，該導電薄膜的材料包括氧化銦錫(ito)、氧化銦鋅(izo)、氧化銦鎵(igo)、氧化鎵鋅(gzo)氧化鋅(zno)、氧化銦(in2o3)、氧化鋁鋅(azo)等透明的導電氧化物，還可以包括金屬導電材料，該金屬導電材料包括銅(cu)、鉻(cr)、鉬(mo)、金(au)、銀(ag)以及鉑(pt)等單金屬或者上述金屬形成的合金材料銅鉻合金(cucr)或者鉻鉬合金(crmo)等，然后在沉積的導電薄膜上涂覆一層普通的光刻膠，并經(jīng)過曝光、顯影等工序后形成第一電極的圖案，該第一電極的厚度為100nm～200nm。

步驟s33：在形成有第一電極的襯底基板上形成實施例一中的任一光刻膠組合物的薄膜。

例如，采用旋涂或者印刷的方式形成該光刻膠組合物的薄膜，該光刻膠組合物形成的薄膜是透明的(例如透光率大于50％)，便于在形成像素界定層的圖案的過程中進行對位。

步驟s34：對光刻膠組合物的薄膜進行構圖工藝以形成透明的像素界定層的圖案。

例如，對該光刻膠組合物的薄膜進行構圖工藝之前，還包括前烘工序，前烘的溫度為90℃～120℃，前烘工序的持續(xù)時間為1.5分鐘(min)～3分鐘(min)；對經(jīng)過前烘工序的光刻膠組合物的薄膜進行構圖包括采用掩膜板進行對位，然后對光刻膠組合物的薄膜進行曝光、顯影等過程以形成透明的(例如透光率大于50％)像素界定層的圖案。

步驟s35：對透明的像素界定層的圖案進行加熱處理以形成不透明(例如透光率小于50％)的像素界定層的圖案。

例如，對透明的像素界定層的圖案進行加熱處理的溫度范圍為190℃～230℃，加熱的時間為30分鐘(min)～60分鐘(min)，例如，對透明的像素界定層的圖案進行加熱處理的溫度為190℃，加熱的時間為45分鐘(min)，這樣加熱處理后的像素界定層的顏色加深，例如變?yōu)樗{黑色、藍紫色或者黑色，以形成不透明(例如透光率小于50％)的像素界定層，該不透明的像素界定層可以對薄膜晶體管的有源層進行遮擋。該像素界定層的厚度為1.0μm～1.5μm，例如，1.0μm，1.2μm，1.4μm或者1.5μm。

步驟s36：在不透明的像素界定層的圖案上形成有機材料功能層和第二電極。

例如，有機材料功能層包括：有機發(fā)光層、空穴傳輸層、空穴注入層、電子傳輸層以及電子注入層等，例如，該有機發(fā)光層的厚度為200nm～300nm，例如：200nm、220nm、250nm或者300nm?？梢圆捎谜翦冎瞥袒蛘邍娔蛴≈瞥绦纬稍撚袡C發(fā)光層。

例如，該第二電極的材料包括銀、鎂、鋁、鋰單金屬或者鎂鋁合金(mgal)、鋰鋁合金(lial)等，第二電極的厚度可以為500nm～600nm，例如：500nm、520nm、550nm或者600nm?？梢圆捎谜翦兊姆椒ㄐ纬稍摰诙姌O。

該有機發(fā)光二極管(oled)陣列基板的制備過程還包括:在襯底基板上形成薄膜晶體管，該薄膜晶體管可以是頂柵型、底柵型或者雙柵型的薄膜晶體管，薄膜晶體管的制備過程可以參見常規(guī)的制作工藝，在此不再贅述。

在上述示例中，在形成像素界定層之前形成了第一電極；在另一個示例中，也可以在形成了像素界定層之后形成第一電極。

對采用上述方法形成的有機發(fā)光二極管(oled)陣列基板光的透過率加以分析，并比較加入的熱致變色顏料的量與白光的透過率的關系。以熱致變色顏料為co(nh3)5cl3為例加以說明，有機發(fā)光二極管(oled)陣列基板的像素界定層分別采用下述示例的光刻膠組合物形成。

示例一：

有機硅/氟光敏樹脂的質量百分含量為7wt％，堿可溶性樹脂的質量百分含量為15wt％，感光單體的質量百分含量為5wt％，熱致變色顏料的質量百分含量為0wt％，溶劑的質量百分含量為58wt％，光引發(fā)劑10％，分散劑3％，抗氧化劑2％。

示例二：

有機硅/氟光敏樹脂的質量百分含量為7wt％，堿可溶性樹脂的質量百分含量為15wt％，感光單體的質量百分含量為5wt％，熱致變色顏料的質量百分含量為2wt％，溶劑的質量百分含量為58wt％，光引發(fā)劑8％，分散劑3％，抗氧化劑2％。

示例三：

有機硅/氟光敏樹脂的質量百分含量為7wt％，堿可溶性樹脂的質量百分含量為15wt％，感光單體的質量百分含量為5wt％，熱致變色顏料的質量百分含量為4wt％，溶劑的質量百分含量為58wt％，光引發(fā)劑7％，分散劑3％，抗氧化劑1％。

示例四：

有機硅/氟光敏樹脂的質量百分含量為7wt％，堿可溶性樹脂的質量百分含量為15wt％，感光單體的質量百分含量為5wt％，熱致變色顏料的質量百分含量為6wt％，溶劑的質量百分含量為56wt％，光引發(fā)劑7％，分散劑3％，抗氧化劑1％。

示例五：

有機硅/氟光敏樹脂的質量百分含量為7wt％，堿可溶性樹脂的質量百分含量為15wt％，感光單體的質量百分含量為5wt％，熱致變色顏料的質量百分含量為8wt％，溶劑的質量百分含量為54wt％，光引發(fā)劑7％，分散劑3％，抗氧化劑1％。

圖5為本實施例提供的加入的熱致變色顏料的量與白光的透過率的關系圖。從圖5中可以看出，當加入的熱致變色顏料的含量為0％時，波長為380nm～630nm的光的透過率為80％～95％，當加入的熱致變色顏料的質量百分含量分別為2wt％、4wt％、6wt％和8wt％時，波長為380nm～630nm的光的透過率基本接近于0，這樣采用示例二至示例五中的光刻膠組合物形成的像素界定層可以遮擋大部分的波長為380nm～630nm的光，以遮擋短波長的藍、紫光，以防止短波長的光線對薄膜晶體管(tft)的性能造成不利影響，即當熱致變色顏料的顏色變?yōu)樽虾谏蛘咚{黑色時可以對tft起到很好的遮光作用。

本發(fā)明的實施例提供一種光刻膠組合物及其制備方法、有機發(fā)光二極管(oled)陣列基板及其制備方法具有以下至少一項有益效果：

(1)在由該光刻膠組合物形成像素界定層時，在對像素界定層薄膜進行后烘工序之前，像素界定層薄膜可以使光線透過，以便于對位形成像素界定層的圖案；在形成像素界定層的圖案后，在進行后烘工序時，該像素界定層中的熱致變色顏料會例如發(fā)生不可逆的顏色變化，以使該像素界定層的顏色加深，以實現(xiàn)遮光的效果；

(2)本公開的實施例采用正性光刻膠，相對于負性光刻膠，正性光刻膠的分辨率更高，能提高對位精度；

(3)光刻膠組合物中含有的有機硅/氟光敏樹脂，可以降低形成的像素界定層的表面能。

有以下幾點需要說明：

(1)本發(fā)明實施例附圖只涉及到與本發(fā)明實施例涉及到的結構，其他結構可參考通常設計。

(2)為了清晰起見，在用于描述本發(fā)明的實施例的附圖中，層或區(qū)域的厚度被放大或縮小，即這些附圖并非按照實際的比例繪制?？梢岳斫猓斨T如層、膜、區(qū)域或基板之類的元件被稱作位于另一元件“上”或“下”時，該元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中間元件。

(3)在不沖突的情況下，本發(fā)明的實施例及實施例中的特征可以相互組合以得到新的實施例。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，本發(fā)明的保護范圍應以所述權利要求的保護范圍為準。