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一種基于自動校準的全自動無掩膜曝光方法與流程

文檔序號:12459126閱讀:來源:國知局
技術(shù)總結(jié)
一種基于自動校準的全自動無掩膜曝光方法,在曝光的過程中采用兩層曝光板的設(shè)計,在曝光的時候為下次曝光已經(jīng)做好準備,采用全自動曝光的方式,無掩膜曝光,TI的DMD曝光芯片,自動的DMD選擇設(shè)計,按照板型選擇DMD的數(shù)量,該方法極大的提高了生產(chǎn)效率,省去了人為的操作過程,減少了人力資源成本,在競爭中更有優(yōu)勢,可以快速的調(diào)整圖像的處理,避免了掩膜板的使用,減少了污染與浪費,可以更好的節(jié)省曝光時間,提高曝光的效率,同時曝光精度能夠滿足市面上精密化生產(chǎn)的需求。

技術(shù)研發(fā)人員:楊剛;姜福義;郭曌睿
受保護的技術(shù)使用者:西安電子科技大學(xué)
文檔號碼:201710025390
技術(shù)研發(fā)日:2017.01.13
技術(shù)公布日:2017.05.31

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