本發(fā)明涉及顯示技術領域，特別涉及一種顯示面板及其制造方法、顯示裝置。

背景技術：

液晶顯示器是平板顯示裝置中的一種，液晶顯示器包括液晶顯示面板和設置在液晶顯示面板背面的背光源，背光源發(fā)出的光透過液晶顯示面板，實現(xiàn)圖像顯示。

相關技術中，液晶顯示器如圖1所示，包括液晶顯示面板和背光源100。其中，液晶顯示面板包括薄膜晶體管(英文：Thin Film Transistor；簡稱：TFT)基板001、彩色濾光片(英文：Color Filter；簡稱：CF)基板(即彩膜基板)002、設置在TFT基板001和CF基板002之間的液晶層003和封框膠004，設置在彩膜基板002遠離液晶層003的一側(cè)的上偏光片005、設置在TFT基板001遠離液晶層003的一側(cè)的下偏光片006。該液晶顯示器工作時，背光源01所發(fā)出的光依次通過下偏光片006、TFT基板001、液晶層003、CF基板002和上偏光片005，最后射入人眼。下偏光片006用于對光進行偏光處理，下偏光片006和上偏光片005的設置，使得背光源100發(fā)出的按特定方向振動的光通過。CF基板002用于對光進行濾光處理。顯示面板包括多個像素單元，每個像素單元可以包括三個像素，每個像素可以在背光源的照射下發(fā)出一種顏色的光線。

但CF基板的使用會造成光能損耗，所以顯示面板的光透過率較低，顯示面板的顯示效果較差。

技術實現(xiàn)要素：

為了解決相關技術中顯示面板的光透過率較低，顯示面板的顯示效果較差的問題，本發(fā)明實施例提供了一種顯示面板及其制造方法、顯示裝置。所述技術方案如下：

第一方面，提供了一種顯示面板，所述顯示面板包括第一基板，第二基板，以及設置在所述第一基板和所述第二基板之間的液晶層，所述第一基板遠離所述液晶層的一側(cè)設置有分光結構，

所述分光結構用于對入射至所述分光結構的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將所述至少一種顏色的光投射至所述顯示面板對應顏色的像素上。

可選的，所述顯示面板還包括：偏光結構，所述偏光結構設置在所述分光結構上或所述第一基板上，用于對入射至所述偏光結構的光進行偏光處理。

可選的，所述分光結構包括納米分光薄膜，所述納米分光薄膜包括陣列排布的多個分光模塊，每個所述分光模塊包括多階光柵單元。

可選的，所述偏光結構包括線柵偏光片，所述線柵偏光片包括多條線柵，所述多條線柵陣列排布在所述分光結構上或所述第一基板上。

可選的，所述顯示面板還包括：

所述第二基板遠離所述液晶層的一側(cè)設置有擴散膜。

可選的，所述多階光柵單元包括多個高度不同且臺階寬度相同的光柵，所述多階光柵單元的光柵周期a、光柵臺階數(shù)b和光柵臺階寬度c滿足：b*c＝a，光柵高度為0微米～10微米。

可選的，所述納米分光薄膜的臺階面朝向所述第一基板，所述線柵偏光片集成設置在所述納米分光薄膜靠近所述第一基板的一側(cè)，所述納米分光薄膜的折射率與所述線柵偏光片的折射率的差的絕對值大于0，所述納米分光薄膜的折射率大于空氣的折射率；

或者，所述線柵偏光片集成設置在所述納米分光薄膜遠離所述第一基板的一側(cè)，所述納米分光薄膜的折射率大于空氣的折射率。

可選的，所述納米分光薄膜靠近所述第一基板的一面與所述第二基板靠近所述第一基板的一面之間的距離為50微米～500微米。

可選的，線柵寬度e和光柵臺階寬度c滿足：e*m＝c，m為正整數(shù)，線柵寬度為10納米～200納米，線柵占空比為50％。

第二方面，提供了一種顯示面板的制造方法，所述制造方法包括：

形成顯示面板，所述顯示面板包括第一基板，第二基板，以及設置在所述第一基板和所述第二基板之間的液晶層；

在所述第一基板遠離所述液晶層的一側(cè)形成分光結構，所述分光結構用于對入射至所述分光結構的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將所述至少一種顏色的光投射至所述顯示面板對應顏色的像素上。

可選的，所述制造方法還包括：

在所述分光結構上或所述第一基板上形成偏光結構。

可選的，所述制造方法還包括：

在所述第二基板遠離所述液晶層的一側(cè)形成擴散膜。

可選的，所述分光結構包括納米分光薄膜，所述偏光結構包括線柵偏光片，所述納米分光薄膜包括陣列排布的多個分光模塊，每個所述分光模塊包括多階光柵單元，所述多階光柵單元包括多個高度不同且臺階寬度相同的光柵，所述納米分光薄膜的臺階面朝向所述第一基板，所述納米分光薄膜的臺階面朝向所述第一基板，

在所述分光結構上形成偏光結構，包括：

在所述納米分光薄膜靠近所述第一基板的一側(cè)集成形成所述線柵偏光片，所述納米分光薄膜的折射率與所述線柵偏光片的折射率的差的絕對值大于0，所述納米分光薄膜的折射率大于空氣的折射率；

或者，在所述納米分光薄膜遠離所述第一基板的一側(cè)集成形成所述線柵偏光片，所述納米分光薄膜的折射率大于空氣的折射率。

第三方面，提供了一種顯示裝置，所述顯示裝置包括顯示面板和準直背光源，

所述顯示面板為第一方面所述的顯示面板；

所述準直背光源設置在所述第一基板遠離所述液晶層的一側(cè)。

本發(fā)明實施例提供的技術方案帶來的有益效果是：

顯示面板的第一基板遠離液晶層的一側(cè)設置有分光結構，該分光結構能夠?qū)θ肷渲练止饨Y構的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將至少一種顏色的光投射至顯示面板對應顏色的像素上，無需彩膜基板進行濾光處理，所以提高了光透過率，提高了顯示面板的顯示效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是相關技術中液晶顯示器的結構示意圖；

圖2-1是本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的結構示意圖；

圖2-2是本發(fā)明實施例提供的又一種顯示面板的結構示意圖；

圖2-3是本發(fā)明實施例提供的多階光柵單元的分光顯示效果圖；

圖3-1是本發(fā)明實施例提供的另一種顯示面板的結構示意圖；

圖3-2是本發(fā)明實施例提供的一種納米分光薄膜設置于分光結構的結構示意圖；

圖3-3是本發(fā)明實施例提供的另一種納米分光薄膜設置于分光結構的結構示意圖；

圖4-1是本發(fā)明實施例提供的再一種顯示面板的結構示意圖；

圖4-2是本發(fā)明實施例提供的一種納米分光薄膜的結構示意圖；

圖4-3是本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的結構示意圖；

圖5是本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的制造方法的流程圖；

圖6是本發(fā)明實施例提供的另一種顯示面板的制造方法的流程圖；

圖7是本發(fā)明實施例提供的一種顯示裝置的結構示意圖。

具體實施方式

為使本發(fā)明的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結合附圖對本發(fā)明實施方式作進一步地詳細描述。

本發(fā)明實施例提供了一種顯示面板，如圖2-1所示，顯示面板210包括第一基板211，第二基板212，以及設置在第一基板211和第二基板212之間的液晶層213。第一基板211遠離液晶層213的一側(cè)設置有分光結構214。

分光結構214用于對入射至分光結構214的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將至少一種顏色的光投射至顯示面板對應顏色的像素上。圖2-1中的10為封框膠。

綜上所述，本發(fā)明實施例提供的顯示面板，該顯示面板的第一基板遠離液晶層的一側(cè)設置有分光結構，該分光結構能夠?qū)θ肷渲练止饨Y構的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將至少一種顏色的光投射至顯示面板對應顏色的像素上，無需彩膜基板進行濾光處理，所以提高了光透過率，提高了顯示面板的顯示效果。

其中，第一基板可以為TFT基板。

由于分光結構可以實現(xiàn)分光效果，所以圖2-1中的第二基板212可以為玻璃基板。也即在制造該顯示面板時無需形成彩膜基板，這樣一來，簡化了顯示面板的制造過程，顯示面板的結構更加簡單。

本發(fā)明實施例中的分光結構能夠?qū)θ肷渲练止饨Y構的光進行分光處理，入射至分光結構的光可以為準直背光源發(fā)出的光，為了保證分光效果，準直背光源發(fā)出的光需要有一定的準直度?？蛇x的，準直背光源發(fā)出的光的準直度可以為-5°～+5°。優(yōu)選的，準直背光源發(fā)出的光的準直度為-2°～+2°。為了進一步提高分光結構的分光效果，準直背光源發(fā)出的光的準直度為-0.5°～+0.5°。準直度指的是準直背光源發(fā)出的光與分光結構的入光面的法線之間的夾角(夾角越小，準直度越高)。

如圖2-2所示，顯示面板210還包括：偏光結構01，該偏光結構01可以設置在分光結構上，用于對入射至偏光結構的光進行偏光處理。該偏光結構01可以為偏光片(該偏光片也稱作下偏光片)。分光結構位于該偏光片和第一基板211之間，該偏光片與分光結構直接貼合。分光結構的四周通過貼合膠與第一基板211貼合在一起，使得分光結構與第一基板211之間存在空氣間隙。

進一步的，如圖2-2所示，顯示面板210還包括：第二基板212遠離液晶層213的一側(cè)設置有擴散膜215。具體的，第二基板212遠離液晶層213的一側(cè)設置有偏光片02(該偏光片也稱作上偏光片)。設置有該偏光片02的第二基板212上設置有擴散膜215。由于從偏光片02發(fā)射出的光的準直度較高，所以用戶通過顯示面板僅能觀察到極少部分的內(nèi)容。為了使用戶觀察到更多的內(nèi)容，可以采用擴散膜對顯示面板對應顏色的像素上的光進行擴散處理，進而增大可視視角，提高顯示效果。另外，實際應用中，也可以按照需求選用不同散射程度的擴散膜。比如對于防窺產(chǎn)品來說，可以選用散射程度為10％～30％的擴散膜；對于電視(英文：Television；簡稱：TV)等非防窺產(chǎn)品來說，可以選用散射程度大于40％的擴散膜。

具體的，如圖2-2所示，分光結構包括納米分光薄膜，納米分光薄膜包括陣列排布的多個分光模塊2141，每個分光模塊包括多階光柵單元。多階光柵單元包括多個高度不同且臺階寬度相同的光柵。納米分光薄膜的臺階面朝向第一基板，為了使光發(fā)生衍射現(xiàn)象，該納米分光薄膜的折射率大于空氣的折射率，且納米分光薄膜的折射率與空氣的折射率的差值越大，納米分光薄膜對光的分光效果就越好?？蛇x的，1.2＜n＜2.0(n為納米分光薄膜的折射率)。實際應用中，1.45＜n＜1.65。

可選的，分光模塊可以以像素長度為單位進行周期排布，也可以以像素長度的整數(shù)倍為單位進行周期排布，還可以以像素長度的非整數(shù)倍為單位進行周期排布。其中，像素長度指的是每個像素單元包括的所有像素所在區(qū)域的長度。比如，每個像素單元包括三個像素，那么該像素長度指的是三個像素所在區(qū)域的總長度。

示例的，納米分光薄膜可以由有機透明材料或無機透明材料制成，可以由高分子聚合物材料、樹脂材料等制成。納米分光薄膜可以是氧化物，比如氧化銦錫(英文：Indium Tin Oxide；簡稱：ITO)、銦鋅氧化物(英文：indium zinc oxide；簡稱：IZO)等，也可以是高分子氧化物(或有機顆粒)與高分子聚合物的混合物。如圖2-2所示，在基板2142上形成膜層來得到。該基板2142可以是光學玻璃基板，也可以是采用有機材料制成的有機膜。另外，納米分光薄膜也可以由玻璃基板直接得到。

可選的，可以采用納米壓印的方式形成納米分光薄膜，可以采用激光直寫的方式形成納米分光薄膜，也可以采用電子束直寫的方式形成納米分光薄膜，還可以采用構圖工藝形成納米分光薄膜。關于納米壓印、激光直寫、電子束直寫和構圖工藝的具體流程可以參考相關技術，在此不再贅述。

圖2-3示出了多階光柵單元的分光顯示效果圖。多階光柵單元對入射至多階光柵單元的光進行分光處理得到不同顏色的光，如紅光、綠光和藍光。且每種顏色的光投射至顯示面板對應顏色的像素上，具體的，紅光投射至紅色像素(R)上，綠光投射至綠色像素(G)上，藍光投射至藍色像素(B)上。圖2-3中的212為第二基板，214為分光結構。

具體的，光柵的參數(shù)包括光柵周期、光柵臺階數(shù)、光柵臺階寬度和光柵高度。光柵周期指的是完成一次分光的納米分光薄膜的總長度。多階光柵單元的光柵周期a、光柵臺階數(shù)b和光柵臺階寬度c滿足：b*c＝a。光柵臺階數(shù)b和光柵臺階寬度c除了滿足：b*c＝a之外，還可以滿足：b*c＝m*a，m為大于等于1的正整數(shù)。另外，光柵周期、光波長以及光柵材料的折射率共同決定光柵高度?？蛇x的，光柵高度可以為0微米～10微米，優(yōu)選的，光柵高度為0微米～5微米。

考慮到第一基板的折射率、納米分光薄膜的折射率、納米分光薄膜的光柵臺階寬度和光柵高度等因素，如圖2-2所示，納米分光薄膜靠近第一基板211的一面與第二基板212靠近第一基板211的一面之間的距離d為50微米～500微米。優(yōu)選的，d為100微米～300微米。

需要補充說明的是，本發(fā)明實施例中顯示面板的顯示模式可以為高級超維場轉(zhuǎn)換(英文：ADvanced Super Dimension Switch；簡稱：ADS)模式、邊緣場開關(英文：Fringe Field Switching；簡稱：FFS)模式、垂直取向(英文：Vertical Alignment；簡稱：VA)模式或扭曲向列型(英文：twisted nematic；簡稱：TN)模式等，本發(fā)明實施例對此不作限定。

現(xiàn)以每個像素單元包括R、G、B三個像素為例對顯示面板的工作過程進行說明。參見圖2-2，在需要進行圖像顯示時，可以控制準直背光源發(fā)白色準直光，該白色準直光經(jīng)過分光結構發(fā)生衍射現(xiàn)象，分光結構將該白色準直光分為紅光、綠光和藍光。三種顏色的光在液晶層213的光開關作用下分別投射至顯示面板對應顏色的像素上。擴散膜215再對每種顏色的像素上的光進行擴散處理，增大可視視角，提高顯示效果。該顯示面板的光透過率可提升200％。

綜上所述，本發(fā)明實施例提供的顯示面板，顯示面板的第一基板遠離液晶層的一側(cè)設置有分光結構，該分光結構能夠?qū)θ肷渲练止饨Y構的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將至少一種顏色的光投射至顯示面板對應顏色的像素上，無需彩膜基板進行濾光處理，所以提高了光透過率，提高了顯示面板的顯示效果。

本發(fā)明實施例提供了另一種顯示面板，參見圖3-1，顯示面板210包括第一基板211，第二基板212，以及設置在第一基板211和第二基板212之間的液晶層213。第一基板211遠離液晶層213的一側(cè)設置有分光結構214。

分光結構214用于對入射至分光結構的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將至少一種顏色的光投射至顯示面板對應顏色的像素上。圖3-1中的10為封框膠。分光結構的四周通過貼合膠與第一基板貼合在一起，使得分光結構與第一基板之間存在空氣間隙。

其中，第一基板可以為TFT基板。

顯示面板210還包括：偏光結構01，該偏光結構01包括線柵偏光片。偏光結構01設置在分光結構上，用于對入射至偏光結構的光進行偏光處理。

如圖3-2所示，分光結構214包括納米分光薄膜，納米分光薄膜包括陣列排布的多個分光模塊2141，每個分光模塊包括多階光柵單元。多階光柵單元包括多個高度不同且臺階寬度相同的光柵。多階光柵單元的光柵周期a、光柵臺階數(shù)b和光柵臺階寬度c可以滿足：b*c＝a，還可以滿足：b*c＝m*a，m為大于等于1的正整數(shù)?？蛇x的，光柵高度為0微米～10微米，優(yōu)選的，光柵高度為0微米～5微米。

偏光結構01包括線柵偏光片，線柵偏光片包括多條線柵011，多條線柵陣列排布在分光結構上。納米分光薄膜的臺階面A朝向第一基板。

參見圖3-2，線柵偏光片可以集成設置在納米分光薄膜遠離第一基板的一側(cè)。為了使光發(fā)生衍射現(xiàn)象，納米分光薄膜的折射率大于空氣的折射率。

同樣的，分光模塊可以以像素長度為單位進行周期排布，也可以以像素長度的整數(shù)倍為單位進行周期排布，還可以以像素長度的非整數(shù)倍為單位進行周期排布。

示例的，納米分光薄膜可以由有機透明材料或無機透明材料制成，也可以由其他材料制成。該納米分光薄膜可以由玻璃基板直接得到。

示例的，線柵偏光片可以由介電常數(shù)較高的金屬材料或金屬化合物材料制成。線柵周期與納米分光薄膜的光柵臺階寬度、線柵寬度相匹配。線柵寬度e和光柵臺階寬度c滿足：e*m＝c，m為正整數(shù)。線柵寬度e和光柵臺階寬度c滿足的這一條件使得多階光柵單元中的每一個光柵能夠?qū)辽僖粋€線柵，進而使得該至少一個線柵對光進行偏光處理后，每個光柵能夠?qū)ζ馓幚砗蟮墓膺M行分光處理。

線柵寬度為納米量級，線柵寬度小于可見光波長尺寸。可選的，線柵寬度為10納米～200納米。線柵厚度也為納米量級。另外，線柵占空比可以為50％。實際應用中也可以根據(jù)工藝條件確定線柵占空比。線柵占空比為刻蝕寬度與線柵周期的比值。線柵周期指的是完成一次偏光的線柵偏光片的總長度。

相關技術中，用于對光進行偏光處理的下偏光片由多層高分子材料復合而成，如聚乙烯醇、三醋酸纖維素等，下偏光片還包括壓敏膠，離型膜及保護膜等，厚度較大，所以下偏光片對光具有較強的吸收作用，而本發(fā)明實施例中的線柵偏光片的厚度較小，所以相較于相關技術中的下偏光片，本發(fā)明實施例提供的顯示面板能夠有效降低光吸收率，進而提高顯示效果。另外，設置有線柵偏光片的顯示面板的總厚度減小。

此外，如圖3-3所示，線柵偏光片也可以集成設置在納米分光薄膜靠近第一基板的一側(cè)。圖3-3中的011為線柵偏光片包括的線柵，214為分光結構。為了使光發(fā)生衍射現(xiàn)象，納米分光薄膜的折射率與線柵偏光片的折射率的差的絕對值大于0，納米分光薄膜的折射率大于空氣的折射率。優(yōu)選的，納米分光薄膜的折射率與線柵偏光片的折射率的差的絕對值為0.2～1.0。優(yōu)選的，納米分光薄膜的折射率與線柵偏光片的折射率的差的絕對值為0.45～0.65。

示例的，可以采用納米壓印的方式、激光直寫的方式或電子束直寫的方式形成圖3-2(或圖3-3)所示的納米分光薄膜與線柵偏光片。

進一步的，如圖3-1所示，顯示面板210還包括：第二基板212遠離液晶層213的一側(cè)設置有偏光片02(該偏光片也稱作上偏光片)。設置有偏光片02的第二基板212上設置有擴散膜215。擴散膜215用于對顯示面板對應顏色的像素上的光進行擴散處理，以便于增大可視視角，提高顯示效果。

參見圖3-1，分光結構214包括納米分光薄膜，納米分光薄膜靠近第一基板211的一面與第二基板212靠近第一基板211的一面之間的距離d為50微米～500微米。優(yōu)選的，d為100微米～300微米。

示例的，顯示面板的顯示模式可以為ADS模式、FFS模式、VA模式或TN模式等。

現(xiàn)以圖3-1所示的顯示面板為例，對顯示面板的工作過程進行說明。在需要進行圖像顯示時，可以控制準直背光源(準直背光源設置在第一基板遠離液晶層的一側(cè))發(fā)白色準直光，線柵偏光片對該白色準直光進行偏光處理。由于線柵偏光片由金屬材料制成，所以一部分光發(fā)生透射現(xiàn)象，一部分光發(fā)生反射現(xiàn)象。來自線柵偏光片的光再經(jīng)過分光結構214發(fā)生衍射現(xiàn)象，分光結構214將該白色準直光分為紅光、綠光和藍光。三種顏色的光在液晶層213的光開關作用下分別投射至顯示面板對應顏色的像素上。擴散膜215再對每種顏色的像素上的光進行擴散處理，以便于增大可視視角，提高顯示效果。該顯示器的光透過率可提升240％。

本發(fā)明實施例還提供了又一種顯示面板，如圖4-1所示，偏光結構01設置在第一基板211上。

分光結構214包括納米分光薄膜，納米分光薄膜包括陣列排布的多個分光模塊，每個分光模塊包括多階光柵單元，多階光柵單元包括多個高度不同且臺階寬度相同的光柵。

參見圖4-1，偏光結構01包括線柵偏光片，線柵偏光片包括多條線柵011，多條線柵陣列排布在第一基板211上。線柵偏光片設置在第一基板211靠近液晶層213的一側(cè)。為了使光發(fā)生衍射現(xiàn)象，如圖4-2所示，當納米分光薄膜的臺階面A朝向第一基板時，納米分光薄膜與第一基板之間保持空氣間隙；當納米分光薄膜的臺階面A朝向用于發(fā)光的準直背光源時，納米分光薄膜與準直背光源之間保持空氣間隙。

參見圖4-3，線柵偏光片也可以設置在第一基板211遠離液晶層的一側(cè)。且為了使光發(fā)生衍射現(xiàn)象，如圖4-2所示，當納米分光薄膜的臺階面A朝向第一基板時，納米分光薄膜與線柵偏光片之間保持空氣間隙；當納米分光薄膜的臺階面A朝向用于發(fā)光的準直背光源時，納米分光薄膜與準直背光源之間保持空氣間隙。

可選的，可以采用納米壓印的方式、激光直寫的方式或電子束直寫的方式將線柵偏光片集成設置在第一基板上。

圖4-1和圖4-3中的其他標記含義可以參考圖3-1。

需要補充說明的是，相關技術中，為了提高顯示面板的光透過率，常常給背光源增加電壓以增大光能量，但這樣會導致顯示裝置的功耗較高，而本發(fā)明實施例提供的顯示面板，無需增大光能量便能實現(xiàn)提高光透過率的效果，因此，降低了顯示裝置功耗，且能提升產(chǎn)品的待機時長。

綜上所述，本發(fā)明實施例提供的顯示面板，顯示面板的第一基板遠離液晶層的一側(cè)設置有分光結構，該分光結構能夠?qū)θ肷渲练止饨Y構的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將至少一種顏色的光投射至顯示面板對應顏色的像素上，無需彩膜基板進行濾光處理，且偏光結構包括的線柵偏光片能夠?qū)θ肷渲疗饨Y構的光進行偏光處理，有效降低光吸收率，提高了光透過率，提高了顯示面板的顯示效果。

本發(fā)明實施例提供了一種顯示面板的制造方法，如圖5所示，該制造方法包括：

步驟501、形成顯示面板，該顯示面板包括第一基板，第二基板，以及設置在第一基板和第二基板之間的液晶層。

步驟502、在第一基板遠離液晶層的一側(cè)形成分光結構，該分光結構用于對入射至分光結構的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將至少一種顏色的光投射至顯示面板對應顏色的像素上。

綜上所述，本發(fā)明實施例提供的顯示面板的制造方法，通過該制造方法，在顯示面板的第一基板遠離液晶層的一側(cè)形成分光結構，該分光結構能夠?qū)θ肷渲练止饨Y構的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將至少一種顏色的光投射至顯示面板對應顏色的像素上，無需彩膜基板進行濾光處理，該制造方法提高了光透過率，提高了顯示面板的顯示效果。

本發(fā)明實施例提供了另一種顯示面板的制造方法，如圖6所示，該制造方法包括：

步驟601、形成顯示面板。

如圖2-1所示，形成顯示面板210。該顯示面板210包括第一基板211，第二基板212，以及設置在第一基板211和第二基板212之間的液晶層213。該第一基板可以為TFT基板。

步驟602、在第一基板遠離液晶層的一側(cè)形成分光結構。

如圖2-1所示，在第一基板211遠離液晶層213的一側(cè)形成分光結構214。分光結構214用于對入射至分光結構的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將至少一種顏色的光投射至顯示面板對應顏色的像素上?？蛇x的，分光結構可以對準直背光源發(fā)出的光進行分光處理。

分光結構包括納米分光薄膜。納米分光薄膜包括陣列排布的多個分光模塊，每個分光模塊包括多階光柵單元，多階光柵單元包括多個高度不同且臺階寬度相同的光柵。光柵的主要參數(shù)(如光柵周期、光柵臺階數(shù)等)可以參考上述裝置實施例中的相關說明。

步驟603、在分光結構上或第一基板上形成偏光結構。

如圖2-2所示，該偏光結構可以為偏光片，該偏光片與分光結構直接貼合。分光結構的四周通過貼合膠與第一基板211貼合在一起，使得分光結構與第一基板211之間存在空氣間隙。

此外，該偏光結構也可以為線柵偏光片，納米分光薄膜的臺階面朝向第一基板，相應的，步驟603中在分光結構上形成偏光結構，可以包括：

如圖3-3所示，在納米分光薄膜靠近第一基板的一側(cè)集成形成線柵偏光片，且納米分光薄膜的折射率與線柵偏光片的折射率的差的絕對值大于0，納米分光薄膜的折射率大于空氣的折射率。

或者，如圖3-2所示，在納米分光薄膜遠離第一基板的一側(cè)集成形成線柵偏光片，且納米分光薄膜的折射率大于空氣的折射率。

步驟603中在第一基板上形成偏光結構，可以包括：

如圖4-1所示，在第一基板靠近液晶層213的一側(cè)形成線柵偏光片。且當納米分光薄膜的臺階面(即圖4-2中的A所指示的面)朝向第一基板211時，納米分光薄膜與第一基板211之間保持空氣間隙；當納米分光薄膜的臺階面朝向用于發(fā)光的準直背光源時，納米分光薄膜與準直背光源之間保持空氣間隙。

或者，如圖4-3所示，在第一基板遠離液晶層312的一側(cè)形成線柵偏光片。且當納米分光薄膜的臺階面朝向第一基板211時，納米分光薄膜與線柵偏光片之間保持空氣間隙；當納米分光薄膜的臺階面朝向用于發(fā)光的準直背光源時，納米分光薄膜與準直背光源之間保持空氣間隙。

步驟604、在第二基板遠離液晶層的一側(cè)形成偏光片。

如圖2-2、圖3-1、圖4-1或圖4-3所示，在第二基板212遠離液晶層213的一側(cè)形成偏光片02。

步驟605、在形成有偏光片的第二基板上形成擴散膜。

如圖2-2、圖3-1、圖4-1或圖4-3所示，在形成有偏光片02的第二基板212上形成擴散膜215。擴散膜用于對顯示面板對應顏色的像素上的光進行擴散處理，以增大可視視角，提高顯示效果。

綜上所述，本發(fā)明實施例提供的顯示面板的制造方法，通過該制造方法，在顯示面板的第一基板遠離液晶層的一側(cè)形成分光結構，并在分光結構上或第一基板上形成偏光結構，該分光結構能夠?qū)θ肷渲练止饨Y構的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將至少一種顏色的光投射至顯示面板對應顏色的像素上，無需彩膜基板進行濾光處理，偏光結構包括的線柵偏光片能夠?qū)θ肷渲了銎饨Y構的光進行偏光處理，有效降低光吸收率，該制造方法提高了光透過率，提高了顯示面板的顯示效果。

本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置，如圖7所示，該顯示裝置700包括：顯示面板210和準直背光源220。

其中，顯示面板210可以為圖2-1、圖2-2、圖3-1、圖4-1或圖4-3所示的顯示面板。

顯示面板210包括第一基板211，第二基板212，以及設置在第一基板211和第二基板212之間的液晶層213。第一基板211遠離液晶層213的一側(cè)設置有分光結構214。準直背光源220設置在第一基板211遠離液晶層213的一側(cè)。

分光結構214用于對準直背光源220的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將至少一種顏色的光投射至顯示面板對應顏色的像素上。

可選的，準直背光源發(fā)出的光的準直度可以為-5°～+5°。優(yōu)選的，準直背光源發(fā)出的光的準直度為-2°～+2°。為了進一步提高分光結構的分光效果，準直背光源發(fā)出的光的準直度為-0.5°～+0.5°。

綜上所述，本發(fā)明實施例提供的顯示裝置，顯示面板的第一基板遠離液晶層的一側(cè)設置有分光結構，該分光結構能夠?qū)θ肷渲练止饨Y構的光進行分光處理，得到至少一種顏色的光，并將至少一種顏色的光投射至顯示面板對應顏色的像素上，無需彩膜基板進行濾光處理，所以提高了光透過率，提高了顯示裝置的顯示效果。

本領域普通技術人員可以理解實現(xiàn)上述實施例的全部或部分步驟可以通過硬件來完成，也可以通過程序來指令相關的硬件完成，所述的程序可以存儲于一種計算機可讀存儲介質(zhì)中，上述提到的存儲介質(zhì)可以是只讀存儲器，磁盤或光盤等。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。