一種基板處理系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種基板處理系統(tǒng)，屬于顯示面板制備技術(shù)領(lǐng)域，其可解決現(xiàn)有的基板處理裝置中因風(fēng)扇無法將基板完全吹干及導(dǎo)致顯影液分布不均勻?qū)е碌娘@影失敗的問題。本實用新型的基板處理系統(tǒng)，包括傳送裝置、沿傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的基板處理裝置和顯影裝置；傳送裝置位于基板處理裝置和顯影裝置下方，傳送裝置用于承載并運送基板；基板處理裝置包括沿傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的清洗單元和風(fēng)干單元，風(fēng)干單元設(shè)置有多個出氣口，出氣口面向傳送裝置；風(fēng)干單元用于通過多個出氣口向傳送裝置提供氣體，以使基板干燥；顯影裝置包括顯影噴嘴，顯影噴嘴用于向風(fēng)干單元干燥后的基板噴射顯影液。
【專利說明】
一種基板處理系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型屬于顯示面板制備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種基板處理系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]在當(dāng)代面板制造行業(yè)中，人們對工藝精度的要求越來越高，尤其對在曝光階段產(chǎn)生的缺陷管控提出了更高的要求，其中，顯示面板在顯影過程中產(chǎn)生的缺陷一直是研發(fā)人員重點關(guān)注的對象。
[0003]目前，顯影過程主要包括以下步驟:(I)對基板進(jìn)行清洗，主要是為了去除基板表面的雜質(zhì)；(2)利用風(fēng)扇將清洗后殘留在基板表面的水分吹干；(3)顯影噴嘴向基板噴灑顯影液；(4)顯影液靜置一段時間后進(jìn)行顯影。
[0004]但現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問題:(I)由于現(xiàn)有技術(shù)中利用風(fēng)扇對基板進(jìn)行吹干，風(fēng)扇的扇葉轉(zhuǎn)動形成的吹干氣流是漩渦狀的，其吹在基板上會導(dǎo)致基板上部分區(qū)域受到的風(fēng)力大，吹干較充分，基本上沒有水分殘留，在基板上噴灑顯影液后，該部分的顯影液濃度不發(fā)生變化，但同時，也會導(dǎo)致基板上部分區(qū)域受到的風(fēng)力小，吹干不充分，基板上有水分殘留，而這部分殘留的水分會導(dǎo)致在基板上噴灑顯影液后，該部分的顯影液被稀釋，即顯影液濃度低，由此，顯影液濃度相對高的部分的圖案會形成破口，使其下層的圖案暴露出來，造成圖案成型失敗，顯影液濃度相對低的部分會發(fā)生顯影不完全的現(xiàn)象，也就是說，清洗后的基板上的水分未吹干會導(dǎo)致顯影失?。?2)由于基板在進(jìn)過風(fēng)扇吹干后直接被顯影噴嘴噴灑顯影液，風(fēng)扇形成的漩渦狀氣流會導(dǎo)致噴灑的顯影液分布不均勻(即有的地方顯影液多，有的地方顯影液少)，從而導(dǎo)致顯影失敗。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]本實用新型針對現(xiàn)有的基板處理裝置中因風(fēng)扇無法將基板完全吹干及導(dǎo)致顯影液分布不均勻?qū)е碌娘@影失敗的問題，提供一種能夠?qū)⒒逋耆蹈汕也挥绊戯@影液分布的基板處理系統(tǒng)。
[0006]解決本實用新型技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種基板處理系統(tǒng)，包括傳送裝置、沿所述傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的基板處理裝置和顯影裝置;所述傳送裝置位于所述基板處理裝置和所述顯影裝置下方，所述傳送裝置用于承載并運送基板；
[0007]所述基板處理裝置包括沿所述傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的清洗單元和風(fēng)干單元，所述風(fēng)干單元設(shè)置有多個出氣口，所述出氣口面向所述傳送裝置；
[0008]所述風(fēng)干單元用于通過多個所述出氣口向所述傳送裝置提供氣體；
[0009]所述顯影裝置包括顯影噴嘴，所述顯影噴嘴用于向所述風(fēng)干單元干燥后的基板噴射顯影液。
[0010]其中，所述出風(fēng)口提供的氣體的風(fēng)向與所述傳送裝置的運送方向之間呈設(shè)定夾角。
[0011 ]其中，所述設(shè)定夾角大于O度且小于90度。
[0012]其中，所述基板處理裝置還包括:排風(fēng)單元，所述排風(fēng)單元位于所述傳送裝置下方，所述排風(fēng)單元用于將從所述基板上吹落的水汽排出。
[0013]其中，所述基板處理裝置還包括:供氣單元，所述供氣單元與所述風(fēng)干單元連接；所述供氣單元用于向所述風(fēng)干單元提供氣體。
[0014]其中，所述供氣單元為氣栗，所述供氣單元通過導(dǎo)通管道與所述風(fēng)干單元連接。
[0015]其中，所述基板處理裝置還包括:感應(yīng)單元，所述感應(yīng)單元位于所述清洗單元前方;所述感應(yīng)單元用于感應(yīng)基板的位置。
[0016]其中，所述感應(yīng)單元為傳感器。
[0017]本實用新型的基板處理系統(tǒng)中，包括傳送裝置、沿傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的基板處理裝置和顯影裝置，基板處理裝置包括沿傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的清洗單元和風(fēng)干單元，風(fēng)干單元設(shè)置有多個出氣口，出氣口面向傳送裝置，風(fēng)干單元用于通過多個出氣口向傳送裝置提供氣體，以使基板干燥，通過將現(xiàn)有技術(shù)中的風(fēng)扇改為設(shè)置有多個朝向傳送裝置提供氣體的出氣口，使氣體朝向同一個方向進(jìn)行吹干，可以使吹在基板上各部分的氣體量一致，將清洗后的基板上的水分吹干，當(dāng)基板上噴灑顯影液后不會造成基板上不同位置的顯影液濃度不同的現(xiàn)象，從而避免了因顯影液濃度不同導(dǎo)致的顯影失敗;而且，由于出氣口面向傳送裝置，因此，不會對噴灑在基板上的顯影液造成影響，即不影響顯影液的噴灑均勻性，從而避免了顯影失敗。
【附圖說明】
[0018]圖1為本實用新型的實施例1的基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2為本實用新型的實施例1中的風(fēng)干單元的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖3為本實用新型的實施例1中的顯影裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]其中，附圖標(biāo)記為:10、傳送裝置；11、輥輪；12、驅(qū)動器；21、清洗單元；22、風(fēng)干單元;221、出氣口； 23、排風(fēng)單元;24、供氣單元;25、感應(yīng)單元;30、顯影裝置;31、顯影噴嘴;40、基板。
【具體實施方式】
[0022]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本實用新型的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0023]實施例1:
[0024]請參照圖1至3，本實施例提供一種基板處理系統(tǒng)，包括傳送裝置10、沿傳送裝置10的傳送方向依次設(shè)置的基板處理裝置和顯影裝置30;傳送裝置10位于基板處理裝置和顯影裝置30下方，傳送裝置10用于承載并運送基板40。
[0025]由上述內(nèi)容可知，基板40放置在傳送裝置10上，由傳送裝置10承載并運送基板40完成后，通過基板處理裝置和顯影裝置30對基板40進(jìn)行處理。優(yōu)選地，傳送裝置10可以為傳送帶等利用驅(qū)動裝置驅(qū)動的傳送裝置。例如，傳送裝置10可以包括多個輥輪11和驅(qū)動器12等部件;其中，驅(qū)動器12帶動多個輥輪11轉(zhuǎn)動，輥輪11上覆蓋有傳送帶，驅(qū)動器12帶動傳送帶移動，從而實現(xiàn)對基板40的運送。當(dāng)然，傳送裝置10只要能起到承載并運送基板40的作用即可，在此不再贅述。
[0026]請參照圖1和圖2，基板處理裝置包括沿傳送裝置10的傳送方向依次設(shè)置的清洗單元21和風(fēng)干單元22，風(fēng)干單元22設(shè)置有多個出氣口221，出氣口221面向傳送裝置10;風(fēng)干單元22用于通過多個出氣口 221向傳送裝置10提供氣體，以使基板40干燥。
[0027]從圖2中可以看出，風(fēng)干單元22設(shè)置有多個出氣口221，在對基板40進(jìn)行吹干時，多個出氣口 221同時向基板40進(jìn)行噴出氣體，優(yōu)選地，多個出氣口 221均勻的分布在風(fēng)干單元22中，從而使基板40在吹干過程中，利用基板40上各位置受到的相同的氣體量，將清洗后的基板40上的水分吹干，從而在基板40上噴灑顯影液后不會造成基板40上不同位置的顯影液濃度不同，進(jìn)而避免了因顯影液濃度不同導(dǎo)致的顯影失敗。
[0028]其中，出風(fēng)口221提供的氣體的風(fēng)向與傳送裝置10的運送方向之間呈設(shè)定夾角。
[0029]也就是說，多個出風(fēng)口221是沿迎向基板40的方向進(jìn)行吹干的，之所以如此設(shè)置，是由于迎向基板40進(jìn)行吹干，可以增加風(fēng)干的長度。具體地，由于氣流的方向與基板40的運送方向相反，因此，在基板40向前運送時，氣流可以將殘留在基板40上的水分向與基板40運送方向相反的方向吹，從而延長了水分在基板40上的吹干距離，更有利于基板40上殘留水分的吹干。
[0030]其中，設(shè)定夾角大于O度且小于90度。
[0031]進(jìn)一步優(yōu)選地，該設(shè)定夾角大于15度且小于60度。當(dāng)然，也可以根據(jù)具體請具體設(shè)定。
[0032]其中，基板處理裝置還包括:排風(fēng)單元23，排風(fēng)單元23位于傳送裝置10下方，排風(fēng)單元23用于將從基板40上吹落的水汽排出。
[0033]之所以設(shè)置排風(fēng)單元23，是由于在吹干過程中，氣體會將殘留在基板40上的液滴吹成水汽或很小的液滴被氣體帶走，設(shè)置排風(fēng)單元23，可以將這些帶有水汽或小液滴的氣體排出，從而避免這些帶有水汽的氣體再次吹在基板40上，影響吹干效果，提高風(fēng)干效率；而之所以將排風(fēng)單元23設(shè)置在傳送裝置10的下方，是由于若將排風(fēng)單元23設(shè)置在傳送裝置10的上方，會直接將未對基板40進(jìn)行吹干的從出氣口221中噴出的干燥氣體直接排出，影響吹干效果，而將排風(fēng)單元23設(shè)置在傳送裝置10的下方，可以將已經(jīng)吹過基板40并帶有水汽的氣體排出，提高吹干效果。
[0034]其中，基板處理裝置還包括:供氣單元24，供氣單元24與風(fēng)干單元22連接;供氣單元24用于向風(fēng)干單元22提供氣體。
[0035]相較于現(xiàn)有技術(shù)的風(fēng)扇而言，本實施例的供氣單元24在驅(qū)動裝置的驅(qū)動下可以自行旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生氣流，而本實施例的風(fēng)干單元22無法如現(xiàn)有技術(shù)般產(chǎn)生氣流，因此需要設(shè)置為風(fēng)干單元22提供氣體的供氣單元24，供氣單元24與風(fēng)干單元22連接，其可以設(shè)置在基板處理裝置內(nèi)部，也可以設(shè)置在基板處理裝置外部，或者，供氣單元24不作為基板處理裝置的一部分，而是單獨作為一個獨立的裝置與基板處理裝置的風(fēng)干單元22連接(在此不具體畫出)，只要能夠為風(fēng)干單元22提供氣體即可，在此不對其位置進(jìn)行贅述。
[0036]其中，供氣單元24為氣栗，供氣單元24通過導(dǎo)通管道與風(fēng)干單元22連接。
[0037]當(dāng)然，供氣單元24還可以為其它類型的供氣裝置，在此不再贅述。另外，在基板處理裝置中還可以設(shè)置調(diào)節(jié)閥，通過調(diào)節(jié)閥控制供氣單元24向風(fēng)干單元22提供的氣流大小，以便將清洗后的基板40上的水分完全吹干。
[0038]其中，基板處理裝置還包括:感應(yīng)單元25，感應(yīng)單元25位于清洗單元21前方;感應(yīng)單元25用于感應(yīng)基板40的位置。
[0039]也就是說，基板40進(jìn)入清洗單元21進(jìn)行清洗前，需要先受到感應(yīng)單元25的感應(yīng)，感應(yīng)單元25用于感應(yīng)基板40的位置，包括感應(yīng)基板40是否進(jìn)入基板處理裝置以及基板40在傳送裝置10上的位置是否準(zhǔn)確等，一方面，可以避免因基板40在傳送裝置10上的位置不準(zhǔn)確導(dǎo)致的位置偏移和工藝處理不充分，另一方面，也可以在沒有基板40待處理的情況下，暫停清洗單元21和風(fēng)干單元22，從而節(jié)約資源和能耗。
[0040]其中，感應(yīng)單元25為傳感器。當(dāng)然，感應(yīng)單元25的類型并不局限于此，還可以是其他種類的傳感單元，在此不再贅述。
[0041]請參照圖3，顯影裝置30包括顯影噴嘴31，顯影噴嘴31用于向風(fēng)干單元22干燥后的基板40噴射顯影液。
[0042]在風(fēng)干單元22將殘留在基板40上的水分吹干后，基板40被傳送裝置10運送至顯影裝置30內(nèi)，并通過顯影噴嘴31向基板40上噴灑顯影液。優(yōu)選地，顯影噴嘴31均勻的分布在顯影裝置30中，因此，可以確保基板40上各部分被噴灑的顯影液的量相同，從而避免了因基板40上的顯影液分布不均勻?qū)е碌娘@影失敗。
[0043]本實施例的基板處理系統(tǒng)，包括傳送裝置10、依次設(shè)置的基板處理裝置和顯影裝置30，基板處理裝置包括依次設(shè)置的清洗單元21和風(fēng)干單元22，風(fēng)干單元22設(shè)置有多個出氣口221，出氣口221面向傳送裝置10，風(fēng)干單元22用于通過多個出氣口221向傳送裝置10提供氣體，以使基板40干燥，通過將現(xiàn)有技術(shù)中的風(fēng)扇改為設(shè)置有多個朝向傳送裝置提供氣體的出氣口，使氣體朝向同一個方向進(jìn)行吹干，可以使吹在基板上各部分的氣體量一致，將清洗后的基板上的水分吹干，當(dāng)基板上噴灑顯影液后不會造成基板上不同位置的顯影液濃度不同的現(xiàn)象，從而避免了因顯影液濃度不同導(dǎo)致的顯影失敗;而且，由于出氣口面向傳送裝置，因此，不會對噴灑在基板上的顯影液造成影響，即不影響顯影液的噴灑均勻性，從而避免了顯影失敗。
[0044]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本實用新型的原理而采用的示例性實施方式，然而本實用新型并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本實用新型的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本實用新型的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種基板處理系統(tǒng)，其特征在于，包括傳送裝置、沿所述傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的基板處理裝置和顯影裝置;所述傳送裝置位于所述基板處理裝置和所述顯影裝置下方，所述傳送裝置用于承載并運送基板； 所述基板處理裝置包括沿所述傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的清洗單元和風(fēng)干單元，所述風(fēng)干單元設(shè)置有多個出氣口，所述出氣口面向所述傳送裝置； 所述風(fēng)干單元用于通過多個所述出氣口向所述傳送裝置提供氣體； 所述顯影裝置包括顯影噴嘴，所述顯影噴嘴用于向所述風(fēng)干單元干燥后的基板噴射顯影液。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述出氣口提供的氣體的風(fēng)向與所述傳送裝置的運送方向之間呈設(shè)定夾角。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述設(shè)定夾角大于O度且小于90度。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括:排風(fēng)單元，所述排風(fēng)單元位于所述傳送裝置下方，所述排風(fēng)單元用于將從所述基板上吹落的水汽排出。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括:供氣單元，所述供氣單元與所述風(fēng)干單元連接;所述供氣單元用于向所述風(fēng)干單元提供氣體。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述供氣單元為氣栗，所述供氣單元通過導(dǎo)通管道與所述風(fēng)干單元連接。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括:感應(yīng)單元，所述感應(yīng)單元位于所述清洗單元前方;所述感應(yīng)單元用于感應(yīng)基板的位置。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述感應(yīng)單元為傳感器。
【文檔編號】H01L21/67GK205488061SQ201620207378
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年3月17日
【發(fā)明人】王峰超
【申請人】京東方科技集團股份有限公司