1.一種掩膜板，包括：完全透光區(qū)和完全不透光區(qū)；其特征在于，
在所述完全透光區(qū)和所述完全不透光區(qū)的交界位置處設置有半透光結構，且所述半透光結構的透光性從靠近所述完全透光區(qū)的一側向靠近所述完全不透光區(qū)的一側逐漸減弱。
2.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，
所述半透光結構包括：在所述完全透光區(qū)和所述完全不透光區(qū)的交界位置處，沿所述完全透光區(qū)和所述完全不透光區(qū)的交界線間隔排列的多個遮光塊。
3.根據權利要求2所述的掩膜板，其特征在于，
相鄰兩個遮光塊之間的間隙為能夠使得在相鄰兩個遮光塊之間發(fā)生光衍射現象的預設間隙，所述預設間隙小于掩膜工藝所采用的曝光機的分辨率。
4.根據權利要求2所述的掩膜板，其特征在于，
從靠近所述完全透光區(qū)一側到靠近所述完全不透光區(qū)的一側的方向上，相鄰兩個遮光塊之間的間隙的寬度處處相等。
5.根據權利要求2所述的掩膜板，其特征在于，
所述遮光塊為完全不透光的矩形塊結構。
6.根據權利要求2所述的掩膜板，其特征在于，
所述掩膜板用于進行樹脂層的掩膜工藝，所述樹脂層包括與所述完全透光區(qū)所對應的挖空區(qū)域以及與所述完全不透光區(qū)所對應的非挖空區(qū)域，其中所述樹脂層的非挖空區(qū)域上在與所述挖空區(qū)域的第一交界位置處形成金屬層；
所述掩膜板的完全透光區(qū)和完全不透光區(qū)的交界位置形成多條交界線，所述多條交界線至少包括與所述第一交界位置所對應的第一交界線，其中所述半透光結構僅形成于所述第一交界線所對應的位置上。
7.根據權利要求2所述的掩膜板，其特征在于，
所述遮光塊與所述掩膜板的完全不透光區(qū)采用的材料相同，并連接為一體結構。
8.根據權利要求2所述的掩膜板，其特征在于，
所述完全透光區(qū)至少包括兩個子完全透光區(qū)，在每一子完全透光區(qū)與所述 完全不透光區(qū)域的交界處分別設置有所述半透光結構。
9.根據權利要求8所述的掩膜板，其特征在于，
所述兩個子完全透光區(qū)包括第一子完全透光區(qū)和第二子完全透光區(qū)，其中所述第一子完全透光區(qū)的面積與所述第二子完全透光區(qū)的面積不同，且所述第一子完全透光區(qū)與所述完全不透光區(qū)域的交界位置處設置多個第一遮光塊，所述第二子完全透光區(qū)與所述完全不透光區(qū)域的交界位置處設置多個第二遮光塊，所述第一遮光塊與所述第二遮光塊的尺寸不同。
10.根據權利要求9所述的掩膜板，其特征在于，
所述第一子完全透光區(qū)的面積大于所述第二子完全透光區(qū)的面積，所述第一遮光塊的尺寸大于等于所述第二遮光塊的尺寸。