本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤指一種基板及顯示裝置。

背景技術(shù)：

數(shù)據(jù)線斷路(Data Open，DO)不良是液晶顯示器件工藝制造過程中最常見的不良之一，也是重大頑疾之一。

玻璃長(zhǎng)邊聚集DO不良是占常規(guī)型DO不良的50％以上，此類DO不良產(chǎn)生的原因是在于涂膠工藝前的清洗步驟，清洗時(shí)玻璃為5°傾斜狀態(tài)，如圖1所示，圖1中的(a)為清洗過程中，灰塵在清洗過程中隨水流方向移動(dòng)，清洗完畢后，玻璃上的灰塵會(huì)在傾斜角度最低的位置聚集，如圖1中的(b)所示，待基板上的水風(fēng)干后，顆粒會(huì)留在基板的最底端的邊緣處，如圖1中的(c)所示。在刻蝕過程中，在數(shù)據(jù)線圖形的邊緣處的顆粒，會(huì)導(dǎo)致刻蝕液從顆粒位置滲入到被光刻膠保護(hù)的位置處，與數(shù)據(jù)線金屬成分反應(yīng)，從而產(chǎn)生數(shù)據(jù)線斷路不良。生產(chǎn)中考慮到玻璃上下水刀氣刀的壓力，不能隨意加大，會(huì)導(dǎo)致玻璃變形乃至破碎等隱患，而玻璃邊緣整齊，斷口平整位置，也是液體最容易掛壁的位置，生產(chǎn)中雖然通過控制一些延遲(Lot Delay)、清洗水過濾器密度減小等來(lái)減少基板邊緣顆粒伴隨水滴的積聚，但DO不良仍在間斷性發(fā)生，呈現(xiàn)不穩(wěn)定狀態(tài)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種基板及顯示裝置，用以緩解現(xiàn)有技術(shù)中存在由于基板清洗后，基板底端的邊緣處積聚的顆粒造成的數(shù)據(jù)線斷路的問題。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種基板，所述基板的至少一個(gè)側(cè)邊的表面為與所述基板表面具有設(shè)定夾角的坡面。

在一種可能的實(shí)施方式中，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述基板中，所述坡面與所述基板表面的夾角為120°-150°。

在一種可能的實(shí)施方式中，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述基板中，所述坡面在垂直于所述基板表面的方向上的高度小于所述基板的厚度。

在一種可能的實(shí)施方式中，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述基板中，所述坡面的表面為平面，或，所述坡面的表面為有一定弧度的凸面。

在一種可能的實(shí)施方式中，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述基板中，所述基板的其中一個(gè)表面的全部側(cè)邊均為坡面。

在一種可能的實(shí)施方式中，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述基板中，各所述坡面與所述基板表面的夾角均相同。

在一種可能的實(shí)施方式中，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述基板中，各所述坡面在垂直于所述基板表面的方向上的高度均相同。

在一種可能的實(shí)施方式中，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述基板中，所述基板為顯示基板或觸控基板。

在一種可能的實(shí)施方式中，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述基板中，所述顯示基板為液晶顯示屏的陣列基板或?qū)ο蚧?，或所述顯示基板為電致發(fā)光顯示面板的陣列基板。

本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，包括上述基板。

本實(shí)用新型有益效果如下：

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種基板及顯示裝置，該基板的至少一個(gè)側(cè)邊的表面為與基板表面具有設(shè)定夾角的坡面，在清洗基板時(shí)，基板一般放置在呈一定傾斜角度(一般為5度)的傳送裝置上，具有坡面的側(cè)邊作為基板傾斜時(shí)較低的一端并且坡面朝上放置，由于該側(cè)邊的表面為坡面，從而使基板上聚集的灰塵隨水向外引流，防止在刻蝕過程中由于灰塵導(dǎo)致的數(shù)據(jù)線斷路不良。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的現(xiàn)有技術(shù)中基板清洗過程示意圖；

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種基板的側(cè)視圖之一；

圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種基板的頂視圖之一；

圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種基板的側(cè)視圖之二；

圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種基板的側(cè)視圖之三；

圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種基板的側(cè)視圖之四；

圖7為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種基板的頂視圖之二。

具體實(shí)施方式

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的由于基板清洗后，基板底端的邊緣處積聚的顆粒造成的數(shù)據(jù)線斷路的問題，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種基板及顯示裝置。

本實(shí)用新型實(shí)施方式提供了一種基板，如圖2所示，該基板100的至少一個(gè)側(cè)邊的表面為與基板100表面具有設(shè)定夾角的坡面101。在清洗基板100時(shí)，基板100一般放置在呈一定傾斜角度(一般為5度)的傳送裝置上，具有坡面101的側(cè)邊作為基板100傾斜時(shí)較低的一端并且坡面101朝上放置，由于該側(cè)邊的表面為坡面101，從而使基板100上聚集的灰塵隨水向外引流，防止在刻蝕過程中由于灰塵導(dǎo)致的數(shù)據(jù)線斷路不良。

在具體實(shí)施時(shí)，上述坡面101與基板100表面的夾角優(yōu)選為120°-150°，如圖2中的角a所示。參照?qǐng)D3，圖3中以基板的一個(gè)側(cè)邊為坡面為例進(jìn)行舉例說(shuō)明，在實(shí)際應(yīng)用時(shí)，可以根據(jù)基板100上不同的產(chǎn)品圖案102距離基板100邊緣的寬度，來(lái)確定該坡面101的寬度b。視基板100的利用率而言，對(duì)于尺寸為1.1m×1.3m的基板，一般利用率高(例如85％-90％)的產(chǎn)品圖案102最邊緣到基板100邊緣的距離g在1cm-5cm之間，因此坡面101的寬度b＜g即可，優(yōu)選1cm。這里坡面101的寬度指的是該坡面101在基板100上的正投影的寬度，如圖2或圖3中的b所示。

具體地，若上述基板為玻璃基板，可以通過玻璃減薄(slimming)工藝制作上述坡面。

同樣參照?qǐng)D2，上述坡面101在垂直于基板100表面的方向上的高度優(yōu)選為小于基板100的厚度。圖中標(biāo)注的h為坡面101在垂直于基板100表面的方向上的高度，H為基板100的厚度。在具體實(shí)施時(shí)，上述坡面101在垂直于基板100表面的方向上的高度也可以和基板100的厚度相同，如圖4所示，此處不對(duì)坡面在垂直于基板表面的方向上的高度h進(jìn)行限定。

具體地，如圖2或圖4所示，上述坡面101的表面為平面，或，如圖5所示，上述坡面101的表面為有一定弧度的凸面。該坡面的表面為平面或凸面是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，在實(shí)際應(yīng)用中，也可以將該設(shè)置為其他形狀，例如有一定弧度的凹面，如圖6所示，此處不對(duì)其進(jìn)行限定。

參照?qǐng)D7，作為一種優(yōu)選的實(shí)施方式，上述基板100的其中一個(gè)表面的全部側(cè)邊均為坡面101，這樣在清洗基板100時(shí)，基板100的任意一個(gè)側(cè)邊都可以作為基板100傾斜時(shí)的底端放置，省去了區(qū)分基板100的放置方向的步驟，并且在不同的工藝步驟制作過程中，基板100在不同的儀器上的方向不同，基板100的其中一個(gè)表面的全部側(cè)邊均為坡面101，不用考慮清洗過程中基板100的放置方向，使工藝制作過程更簡(jiǎn)便。圖7中以基板為長(zhǎng)方體為例進(jìn)行示意，在實(shí)際應(yīng)用中，基板也可以為其他形狀，此處不對(duì)基板的形狀進(jìn)行限定。

具體地，可以設(shè)置各坡面與基板表面的夾角均相同，各坡面在垂直于基板表面的方向上的高度均相同，這種設(shè)置是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，在具體實(shí)施時(shí)，也可以設(shè)置為各坡面與基板表面的夾角不同，或者各坡面在垂直于基板表面的方向上的高度不同，此處不做限定。

在具體實(shí)施時(shí)，上述基板可以為顯示基板或觸控基板。其中，顯示基板為液晶顯示屏的陣列基板或?qū)ο蚧?，或顯示基板為電致發(fā)光顯示面板的陣列基板。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種顯示裝置，包括上述基板，該顯示裝置可以應(yīng)用于手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。由于該顯示裝置解決問題的原理與上述基板相似，因此該顯示裝置的實(shí)施可以參見上述基板的實(shí)施，重復(fù)之處不再贅述。

本實(shí)用新型提供的一種基板及顯示裝置，該基板的至少一個(gè)側(cè)邊的表面為與基板表面具有設(shè)定夾角的坡面，在清洗基板時(shí)，基板一般放置在呈一定傾斜角度(一般為5度)的傳送裝置上，具有坡面的側(cè)邊作為基板傾斜時(shí)較低的一端并且坡面朝上放置，由于該側(cè)邊的表面為坡面，從而使基板上聚集的灰塵隨水向外引流，防止在刻蝕過程中由于灰塵導(dǎo)致的數(shù)據(jù)線斷路不良。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。