技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種灌晶裝置，包括灌晶盤、灌晶條和壓板，所述灌晶條包括基體與設(shè)置于所述基體上的凸臺(tái)，所述凸臺(tái)的一側(cè)開有液晶槽，所述凸臺(tái)的另一側(cè)與所述基體相連，所述基體上設(shè)有凹槽，所述凹槽環(huán)繞所述凸臺(tái)，所述凹槽具有能夠使液晶流動(dòng)的緩坡道和能夠容納液晶的收集槽，所述緩坡道與所述收集槽相連通，所述壓板將所述灌晶條固定于所述灌晶盤上。由于設(shè)置了環(huán)繞凸臺(tái)的凹槽，加注到液晶槽內(nèi)的液晶溢出時(shí)，流到凹槽中，凹槽具有能夠使液晶流動(dòng)的緩坡道和能夠容納液晶的收集槽，緩坡道與收集槽相連通，多加注的液晶最終匯集到收集槽中，得以回收利用，降低了液晶灌注的單耗，節(jié)約了生產(chǎn)成本。

技術(shù)研發(fā)人員：黃海忠;賀術(shù)春
受保護(hù)的技術(shù)使用者：郴州市晶訊光電有限公司
文檔號(hào)碼：201611150091
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.14
技術(shù)公布日：2017.03.15