技術(shù)總結(jié)
提供一種曝光裝置，使用相移掩模曝光基板，相移掩模包含在基準(zhǔn)波長下使透射光的相位相互不同的第1區(qū)域及第2區(qū)域，曝光裝置的特征在于包括第1變更部，變更照明所述相移掩模的光的照明波長；投影光學(xué)系統(tǒng)，將所述相移掩模的圖案圖像投影到所述基板；第2變更部，變更所述投影光學(xué)系統(tǒng)的球面像差；控制部，根據(jù)利用所述第1變更部變更為與所述基準(zhǔn)波長不同的波長的所述照明波長及所述基準(zhǔn)波長，控制基于所述第2變更部的所述球面像差的變更，在變更為與所述基準(zhǔn)波長不同的波長的所述照明波長下，照明所述相移掩模，使用具有根據(jù)所述照明波長及所述基準(zhǔn)波長變更的所述球面像差的所述投影光學(xué)系統(tǒng)，將所述相移掩模的圖案圖像投影到所述基板。

技術(shù)研發(fā)人員：永井善之
受保護(hù)的技術(shù)使用者：佳能株式會社
文檔號碼：201611142628
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.13
技術(shù)公布日：2017.06.23