1.一種曝光裝置，使用相移掩模對(duì)基板進(jìn)行曝光，該相移掩模包含在基準(zhǔn)波長下使透射光的相位相互不同的第1區(qū)域以及第2區(qū)域，所述曝光裝置的特征在于，包括：
第1變更部，變更對(duì)所述相移掩模進(jìn)行照明的光的照明波長；
投影光學(xué)系統(tǒng)，將所述相移掩模的圖案圖像投影到所述基板；
第2變更部，變更所述投影光學(xué)系統(tǒng)的球面像差；以及
控制部，根據(jù)利用所述第1變更部變更為與所述基準(zhǔn)波長不同的波長的所述照明波長及所述基準(zhǔn)波長，控制利用所述第2變更部進(jìn)行的所述球面像差的變更，
在變更為與所述基準(zhǔn)波長不同的波長的所述照明波長下，對(duì)所述相移掩模進(jìn)行照明，使用具有根據(jù)所述照明波長及所述基準(zhǔn)波長變更了的所述球面像差的所述投影光學(xué)系統(tǒng)，將所述相移掩模的圖案圖像投影到所述基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，
所述控制部以抑制由于所述照明波長是與所述基準(zhǔn)波長不同的波長而產(chǎn)生的所述相移掩模的圖案圖像的焦深降低的方式，控制利用所述第2變更部進(jìn)行的所述球面像差的變更。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，
所述控制部以使由于利用所述第1變更部將所述照明波長變更30nm以上而產(chǎn)生的焦深的變化降低的方式，控制利用所述第2變更部進(jìn)行的所述球面像差的變更。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，
還包括射出包含多個(gè)亮線光譜的光的光源，
所述第1變更部通過使從所述光源射出的包含所述多個(gè)亮線光譜的光的波長頻帶變窄來變更所述照明波長。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，
所述控制部根據(jù)表示所述投影光學(xué)系統(tǒng)的球面像差相對(duì)所述基準(zhǔn)波長和變更后的所述照明波長之差的變更量的信息，控制所述第2變更部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光裝置，其特征在于，
所述控制部將所述照明波長變更為相互不同的多個(gè)波長的各個(gè)波長，針對(duì)所述多個(gè)波長的各個(gè)波長而求出焦深為最大的所述投影光學(xué)系統(tǒng)的球面像差，從而取得所述信息。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，
所述第2變更部通過使在所述投影光學(xué)系統(tǒng)中的光路上配置的光學(xué)元件移動(dòng)，變更所述投影光學(xué)系統(tǒng)的球面像差。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，
所述第2變更部通過更換在所述投影光學(xué)系統(tǒng)中的光路上配置的光學(xué)元件，變更所述投影光學(xué)系統(tǒng)的球面像差。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，
所述投影光學(xué)系統(tǒng)包括凹面鏡以及凸面鏡，
所述光學(xué)元件包括在所述凹面鏡與所述凸面鏡之間的光路上配置的彎月面透鏡。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，
還包括變更散焦量的第3變更部，
所述控制部以校正控制所述第2變更部之后的散焦量的方式控制第3變更部。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，
所述基準(zhǔn)波長是所述第1區(qū)域的透射光和所述第2區(qū)域的透射光的相位差為180度時(shí)的波長。
12.一種曝光方法，使用相移掩模和投影光學(xué)系統(tǒng)對(duì)基板進(jìn)行曝光，所述相移掩模包含在基準(zhǔn)波長下透射光的相位相互不同的第1區(qū)域以及第2區(qū)域，所述投影光學(xué)系統(tǒng)將所述相移掩模的圖案圖像投影到所述基板，所述曝光方法的特征在于，包括：
將對(duì)所述相移掩模進(jìn)行照明的光的照明波長變更為與所述基準(zhǔn)波長不同的波長的工序；
根據(jù)變更為與所述基準(zhǔn)波長不同的波長的所述照明波長及所述基準(zhǔn)波長，變更所述投影光學(xué)系統(tǒng)的球面像差的工序；以及
在變更為與所述基準(zhǔn)波長不同的波長的所述照明波長下，對(duì)所述相移掩模進(jìn)行照明，使用具有根據(jù)所述照明波長及所述基準(zhǔn)波長變更了的所述球面像差的所述投影光學(xué)系統(tǒng)，將所述相移掩模的圖案圖像投影到所述基板的工序。
13.一種曝光方法，使用相移掩模和曝光裝置對(duì)基板進(jìn)行曝光，所述相移掩模包含在基準(zhǔn)波長下使透射光的相位相互不同的第1區(qū)域以及第2區(qū)域，
所述曝光裝置包括：
第1變更部，變更對(duì)所述相移掩模進(jìn)行照明的光的照明波長；
投影光學(xué)系統(tǒng)，將所述相移掩模的圖案圖像投影到基板；
第2變更部，變更所述投影光學(xué)系統(tǒng)的球面像差；以及
控制部，根據(jù)利用所述第1變更部進(jìn)行的波長的變更，控制利用所述第2變更部進(jìn)行的所述球面像差的變更，
所述曝光方法的特征在于，具有：
根據(jù)利用所述第1變更部變更為與所述基準(zhǔn)波長不同的波長的所述照明波長及所述基準(zhǔn)波長，控制利用所述第2變更部進(jìn)行的所述球面像差的變更的工序；以及
在變更為與所述基準(zhǔn)波長不同的波長的所述照明波長下，對(duì)所述相移掩模進(jìn)行照明，使用具有根據(jù)所述照明波長及所述基準(zhǔn)波長變更了的所述球面像差的所述投影光學(xué)系統(tǒng)，將所述相移掩模的圖案圖像投影到所述基板的工序。
14.一種物品的制造方法，其特征在于，包括：
使用權(quán)利要求1至11中的任意一項(xiàng)所述的曝光裝置對(duì)基板進(jìn)行曝光的工序；以及
使在所述工序中進(jìn)行了曝光的所述基板顯影的工序。