1.一種陣列基板，包含襯底基板，其特征在于該陣列基板還包含有：
柵極，設(shè)置于該襯底基板上；
第一絕緣層，設(shè)置于該襯底基板以及該柵極上；
有源層，設(shè)置于該第一絕緣層上，且該有源層對應(yīng)該柵極；以及
源極及漏極，設(shè)置于該有源層與該第一絕緣層上，并對應(yīng)該柵極的兩側(cè)，
其中，該第一絕緣層鄰近該柵極的第一側(cè)設(shè)置有第一孔洞，該源極包含相互連接的第一主體及第一延伸部，該第一延伸部位于該第一孔洞中，并遮擋住該柵極的該第一側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于：該第一絕緣層鄰近該柵極的第二側(cè)設(shè)置有第二孔洞，該漏極包含相互連接的第二主體及第二延伸部，該第二延伸部位于該第二孔洞中，并遮擋住該柵極的該第二側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于：定義該有源層于該襯底基板上的垂直投影為第一投影，定義該柵極于該襯底基板上的垂直投影為第二投影，該第一投影的面積小于該第二投影的面積；或者
定義該有源層中對應(yīng)該源極與該漏極之間的區(qū)域于該襯底基板上的垂直投影為第一投影，定義該柵極于該襯底基板上的垂直投影為第二投影，該第一投影的面積小于該第二投影的面積。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于：該陣列基板還包含保護(hù)層及黑色矩陣，該保護(hù)層設(shè)置于該第一絕緣層、該有源層、該源極以及該漏極上，該黑色矩陣位于該保護(hù)層上，且該黑色矩陣對應(yīng)該柵極并用于遮擋該有源層。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其特征在于：該陣列基板還包含柵線，該柵極具有順次相連的該第一側(cè)、第三側(cè)、該第二側(cè)以及第四側(cè)，該柵極的該第三側(cè)與該柵線相連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于：該第一孔洞自該柵極的該第一側(cè)延伸至該第四側(cè)，且該第一孔洞不與該第二孔洞相接觸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于：該陣列基板還包含柵線，該柵極具有順次相連的該第一側(cè)、第三側(cè)、該第二側(cè)以及第四側(cè)，該柵極的該第三側(cè)與該柵線相連接，該源極于該襯底基板上的垂直投影為U型圖案，該U型圖案具有開口區(qū)域，部分該漏極于該襯底上的垂直投影位于該開口區(qū)域中，該第一絕緣層鄰近該柵極的該第二側(cè)設(shè)置有第三孔洞，該源極還包含與該第一主體相連接的第三延伸部，該第三延伸部位于該第三孔洞中，并遮擋該柵極的該第二側(cè)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列基板，其特征在于：該第一絕緣層鄰近該柵極的第四側(cè)設(shè)置有第二孔洞，該漏極包含相互連接的第二主體及第二延伸部，該第二延伸部位于該第二孔洞中，并遮擋住該柵極的該第四側(cè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于：該陣列基板還包含歐姆接觸層，該歐姆接觸層位于該有源層與該源極、該漏極之間。
10.一種顯示裝置，其特征在于：該顯示裝置包含權(quán)利要求1至9中任一項所述的陣列基板。