技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將通過處理裝置處理的撓性襯底的一部分以彎曲狀態(tài)或平坦狀態(tài)進行支承的襯底支承裝置、以及通過該支承裝置支承的撓性襯底的曝光裝置。本申請基于2012年8月28日申請的日本特愿意2012-188116號主張優(yōu)先權(quán)，并在此援引其內(nèi)容。
背景技術(shù)：
：近年來，作為平板顯示器，除了液晶方式和等離子體方式外，有機EL方式也受到關(guān)注。在是有源矩陣方式的有機EL(AMOLED)顯示器的情況下，在包括驅(qū)動各像素的薄膜晶體管(TFT)、驅(qū)動電路、各種信號線等的背板上，層疊有包括由有機EL形成的像素發(fā)光層及透明電極層等的上板。在由有機EL形成的顯示器的制造方式中，作為以更低成本且高量產(chǎn)性的方式之一，提出了如下方法：將可撓性(柔性)的樹脂材料、塑料或金屬箔形成為厚度在200μm以下的長條狀的薄片(薄膜)，并在其上以卷對卷(RolltoRoll)方式直接制造出顯示器的背板和上板(專利文獻1)。在專利文獻1中，公開如下的制造方法：將構(gòu)成各像素用TFT的電極層、半導(dǎo)體層、絕緣膜等、以及用于形成像素發(fā)光層、布線層的流動性材料通過噴墨方式等的印刷機連續(xù)地形成在可撓性的長條薄片(PET(Poly-EthyleneTerephthalate)薄膜等)上，由此低成本地制造顯示器。而且，在專利文獻1中還提出了如下方案：為了精密地加工出夾著絕緣層而上下層疊的TFT的柵極電極層與漏極/源極電極層的相對位置關(guān)系及各電極的形狀等，形成通過紫外線的照射能夠使表面的親疏水性改性的自組裝單分子層(SAM)，并使用利用了紫外線的圖案曝光裝置來更為精密地加工出各電極層的形狀?！粳F(xiàn)有技術(shù)文獻】【專利文獻1】國際公開2010/001537號技術(shù)實現(xiàn)要素：上述的專利文獻1的曝光裝置將平面掩模的圖案經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)投影曝光于被平坦地支承的可撓性的長條襯底薄片上。而在通過卷對卷方式在被連續(xù)搬運的撓性襯底薄片上將掩模的圖案反復(fù)進行曝光的情況下，通過采用將襯底薄片的搬運方向作為掃描方向、使掩模為圓筒狀的旋轉(zhuǎn)掩模的掃描型曝光裝置，能夠期待生產(chǎn)性的飛躍性提高。被連續(xù)搬運的撓性襯底薄片是薄的襯底，通過空氣軸承的平坦或彎曲的墊面等而被支承?；蛘?，襯底薄片卷附在旋轉(zhuǎn)滾筒(直徑大的輥)的圓筒狀外周面的一部分上，從而以彎曲狀態(tài)被支承。在利用曝光裝置在形成有ITO等透明層的透明度高的PET薄膜、PEN(Poly-EthyleneNaphthalate)薄膜、極薄玻璃等上布圖的情況下，向涂布于該襯底表面的感光層(例如，光致抗蝕劑、感光性硅烷偶聯(lián)劑等)投射的圖案曝光光會到達襯底之下的墊面或是旋轉(zhuǎn)滾筒的外周面。因此，存在在墊面或旋轉(zhuǎn)滾筒的外周面反射了光成分(返回光)從襯底的背面?zhèn)认虮砻鎮(zhèn)?投影光學(xué)系統(tǒng)那一方)返回來，從而使形成于感光層的圖案的像質(zhì)劣化的情況。若能夠?qū)⑽挥谝r底背側(cè)的墊面或旋轉(zhuǎn)滾筒的外周面的反射率抑制得很低，則能夠忽略該返回光帶來的影響。但是，為了進行曝光裝置的校準以及襯底的對位，會在平坦的墊面或旋轉(zhuǎn)滾筒的外周面的一部分上設(shè)置基準標記或基準圖案，在通過光學(xué)的對準顯微鏡等對這些基準標記或基準圖案進行檢測時，由于墊面或旋轉(zhuǎn)滾筒的外周面的反射率低，所以會產(chǎn)生難以以良好的對比度檢測基準標記或基準圖案的問題等。本發(fā)明方式的目的在于提供襯底支承裝置，其能夠降低來自對襯底進行支承的部件的反射光(返回光)所帶來的影響。此外，本發(fā)明方式的目的在于提供襯底支承裝置，其能夠利用由對準顯微鏡等形成的光學(xué)觀察裝置良好地檢測出在對襯底進行支承的裝置的支承面的一部分上形成的基準標記及基準圖案、或是來自形成在襯底上的標記及圖案的反射光(返回光)。再者，本發(fā)明方式的目的還在于提供曝光裝置，其在由上述那樣的襯底支承裝置支承的襯底上實施高精度的光布圖。根據(jù)本發(fā)明的第1方式，提供一種襯底支承裝置，包括：基材，具有對被實施光學(xué)處理(例如，曝光處理和對準時的計測處理)的具有透過性的撓性襯底以彎曲的狀態(tài)或平坦狀態(tài)進行支承的面；和膜體，形成在該基材的面之上，并且相對于在光學(xué)處理中所使用的光的反射率為50％以下。根據(jù)本發(fā)明的第2方式，提供一種襯底支承裝置，包括：基材，具有對被實施光學(xué)處理(例如，曝光處理和對準時的計測處理)的具有透過性的撓性襯底以彎曲的狀態(tài)或平坦狀態(tài)進行支承的面；膜體，形成在該基材的面之上，并且相對于在光學(xué)處理中所使用的光的反射率為50％以下；和基準圖案，在該膜體的表面通過微小層差形成。根據(jù)本發(fā)明的第3方式，提供一種曝光裝置，其利用第1方式或第2方式的襯底支承裝置進行圖案曝光。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明的第1方式、第2方式，能夠提供支承裝置，當在具有透過性的薄襯底上曝光圖案時，該支承裝置能夠降低成為噪聲的不需要的曝光(不需要圖案的映入等)。根據(jù)本發(fā)明的第3方式，能夠提供能進行精密的圖案曝光的曝光裝置。附圖說明圖1是示出第1實施方式的曝光裝置的概略構(gòu)成的圖。圖2是示出圖1的曝光裝置的主要部分的配置的立體圖。圖3是示出圖1、圖2的曝光裝置的投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成的圖。圖4是示出照明區(qū)域與投影區(qū)域的配置關(guān)系的示意圖。圖5是示出對襯底進行支承的旋轉(zhuǎn)滾筒與編碼器讀頭的配置的圖。圖6是示出襯底上的對準系統(tǒng)與投影區(qū)域的配置關(guān)系的圖。圖7是示意性示出被支承在旋轉(zhuǎn)滾筒上的襯底的構(gòu)造的圖。圖8是示出第1實施方式的旋轉(zhuǎn)滾筒的表面構(gòu)造的剖視圖。圖9是示出基于旋轉(zhuǎn)滾筒的表面材料的厚度的反射率特性的圖。圖10是示出第2實施方式的旋轉(zhuǎn)滾筒的表面構(gòu)造的立體圖。圖11是示出第2實施方式的旋轉(zhuǎn)滾筒的表面構(gòu)造的剖視圖。圖12是示出第3實施方式的圖案描畫裝置的構(gòu)成的圖。圖13是說明圖12的裝置所實現(xiàn)的襯底的描畫方式的圖。圖14是示出第4實施方式的旋轉(zhuǎn)滾筒的表面構(gòu)造的立體圖。圖15是示出第5實施方式的旋轉(zhuǎn)滾筒的表面構(gòu)造的剖面的圖。圖16是示出第6實施方式的圖案曝光裝置的構(gòu)成的圖。具體實施方式[第1實施方式]圖1是示出本實施方式的柔性襯底用的投影型曝光裝置EX的整體構(gòu)成的圖。曝光裝置EX對從前一工序的處理裝置搬運來的可撓性的薄片狀襯底P的感光層照射與顯示器用的電路圖案及布線圖案相對應(yīng)的紫外線布圖光。紫外線包括例如作為水銀放電等的輝光的g線(436Nm)、h線(405Nm)、I線(365Nm)，還有KrF、XECl、ArF等準分子激光(各自的波長為248nm、308nm、193nm)，還有來自半導(dǎo)體激光光源、LED光源、高頻波激光光源等的波長為400nm以下的光。圖1的曝光裝置EX設(shè)于溫度調(diào)節(jié)腔EVC內(nèi)。曝光裝置EX經(jīng)由被動或主動的防振單元SU1、SU2而設(shè)置于制造車間的地面上。在曝光裝置EX內(nèi)設(shè)有用于將從前一工序運送來的襯底P以規(guī)定的速度向后一工序運送的搬運機構(gòu)。搬運機構(gòu)由邊緣位置控制器EPC、驅(qū)動輥DR4、旋轉(zhuǎn)滾筒DR、張緊力調(diào)整輥RT1、RT2以及2組驅(qū)動輥DR6、DR7等構(gòu)成，所述邊緣位置控制器EPC用于將襯底P的Y方向(與長度方向正交的寬度方向)上的中心控制在恒定位置；所述驅(qū)動輥DR4被夾持著；旋轉(zhuǎn)滾筒DR一邊將襯底P上被圖案曝光的部分以圓筒面狀支承，一邊繞著旋轉(zhuǎn)中心線AX2旋轉(zhuǎn)來搬運襯底；張緊力調(diào)整輥RT1，RT2，用于對卷附在旋轉(zhuǎn)滾筒DR上的襯底P賦予規(guī)定的張緊力；所述2組驅(qū)動輥DR6、DR7用于對襯底P賦予規(guī)定的松弛量(富余量)DL。此外，在曝光裝置EX內(nèi)還設(shè)有：圍繞旋轉(zhuǎn)中心線AX1旋轉(zhuǎn)的圓筒狀的圓筒掩模DM；多個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1，PL2，…將形成在圓筒掩模DM的外周面上的透過型的掩模圖案的一部分的像投影于由旋轉(zhuǎn)滾筒DR支承的襯底P的一部分上；對準系統(tǒng)AM，用于使掩模圖案的一部分的投影像與襯底P相對地對位(對準)。對準系統(tǒng)AM包括對預(yù)先形成于襯底P的對準標記等進行檢測的對準顯微鏡。在以上的構(gòu)成中，在圖1中確定的正交坐標系XYZ的XY平面被設(shè)定為與車間的地面平行，襯底P的表面的寬度方向(也稱為TD方向)被設(shè)定為與Y方向一致。在該情況下，圓筒掩模DM的旋轉(zhuǎn)中心線AX1與旋轉(zhuǎn)滾筒DR的旋轉(zhuǎn)中心線AX2都被設(shè)定為與Y軸平行，且在Z軸方向上離開地配置。此外，本實施方式的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1，PL2，…作為多個投影視野(投影像)交錯配置那樣的多透鏡方式而構(gòu)成，其投影倍率被設(shè)定為等倍率(×1)，詳細情況將在后說明。圓筒掩模DM的外周面(圖案面)的直徑(距中心AX1的半徑)與旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面(支承面)的直徑(距中心AX2的半徑)可以實質(zhì)上相等。例如，可以使圓筒掩模DM的直徑為30cm，使旋轉(zhuǎn)滾筒DR的直徑為30cm。另外，圓筒掩模DM的外周面(圖案面)的直徑(距中心AX1的半徑)與旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面(支承面)的直徑(距中心AX2的半徑)沒必要必須相等，也可以大不相同。例如，也可以使圓筒掩模DM的直徑為30cm，使旋轉(zhuǎn)滾筒DR的直徑大約為40～50cm。另外，上述數(shù)值是一個例子，本發(fā)明并不被限定于此。另外，在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的直徑與圓筒掩模DM(圖案面)的直徑相等的情況下，嚴密地講，是將卷附在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面上的襯底P的厚度考慮在內(nèi)的。例如，若襯底P的厚度為100μm(0.1mm)，則旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面的半徑比圓筒掩模DM(圖案面)的半徑小0.1mm。再者，在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面的周向全長(周長)為恰好的長度，例如為100.0cm的情況下，旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面的直徑根據(jù)圓周率π而為100/πcm，因此需要對直徑以數(shù)μm～亞微米(submicro)的精度進行加工。在本實施方式中，由于采用透過型的圓筒掩模DM，所以在圓筒掩模DMの內(nèi)部空間設(shè)置照明系統(tǒng)IU，該照明系統(tǒng)IU朝向圓筒掩模DM的圖案面(外周面)照射與投影光學(xué)系統(tǒng)PL1，PL2，…的各個視野區(qū)域相對應(yīng)的曝光用的照明光(紫外線)。另外，在圓筒掩模DM為反射型的情況下，設(shè)有落射照明光學(xué)系統(tǒng)，該落射照明光學(xué)系統(tǒng)經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL1，PL2，…的一部分光學(xué)元件朝向圓筒掩模DM的外周面(反射型的圖案面)照射曝光用的照明光。在以上的構(gòu)成中，通過使圓筒掩模DM與旋轉(zhuǎn)滾筒DR以規(guī)定的旋轉(zhuǎn)速度比同步旋轉(zhuǎn)，能夠?qū)⑿纬稍趫A筒掩模DM的外周面上的掩模圖案的像連續(xù)地反復(fù)掃描曝光于卷附在旋轉(zhuǎn)滾筒DR外周面的一部分上的襯底P的表面(沿著圓筒面彎曲的面)。本實施方式中使用的襯底P例如是樹脂薄膜、由不銹鋼等金屬或合金構(gòu)成的箔(薄膜)等。樹脂薄膜的材質(zhì)例如包括聚乙烯樹脂，聚丙烯樹脂，聚酯樹脂，乙烯-乙烯醇共聚物樹脂，聚氯乙烯樹脂，纖維素樹脂，聚酰胺樹脂，聚酰亞胺樹脂，聚碳酸酯樹脂，聚苯乙烯樹脂，醋酸乙烯樹脂中的1種或2種以上。關(guān)于襯底P，為了能夠?qū)嵸|(zhì)上忽略因在各種處理工序中受熱而導(dǎo)致的變形量，可以選定熱膨脹系數(shù)不顯著變大的材質(zhì)。例如能夠通過將無機填料混合到樹脂薄膜中來減小熱膨脹系數(shù)。作為無機填料，例如能夠使用氧化鈦、氧化鋅、氧化鋁、氧化硅。此外，襯底P既可以是通過浮法等制造出的厚度例如為100μm左右的極薄玻璃的單層體，也可以是在該極薄玻璃上貼合上述的樹脂薄膜、箔等而成的層疊體。另外，上述數(shù)值是一個例子，本發(fā)明并不被限定于此。圖2用立體圖示出了圖1所示曝光裝置EX中的圓筒掩模DM、多個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1，PL2，…、旋轉(zhuǎn)滾筒DR的配置關(guān)系。在圖2中，設(shè)于圓筒掩模DM與旋轉(zhuǎn)滾筒DR之間的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2、PL3、PL4、…(此處圖示出了4個投影光學(xué)系統(tǒng))分別例如日本特開平7-57986號公報所公開的那樣，將2個使用圓形投影視野的一半(半視場)的反射折射型等倍成像透鏡沿Z方向串聯(lián)連接，從而將掩模圖案作為正立的非反轉(zhuǎn)像以等倍率投影于襯底側(cè)。投影光學(xué)系統(tǒng)PL1，PL2，PL3，PL4…均為同樣的構(gòu)成，詳細情況將在后說明。另外，投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2、PL3、PL4、…分別安裝于牢固的保持柱PLM并與之一體化。保持柱PLM由相對于溫度變化的熱膨脹系數(shù)小的因瓦合金等金屬構(gòu)成，從而能夠?qū)⒁驕囟茸兓瘜?dǎo)致的各投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2、PL3、PL4、…間的位置變動抑制得較小。如圖2所示，在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面上，分別在旋轉(zhuǎn)中心線AX2所延伸方向(Y方向)的兩端部，在整個周向范圍以環(huán)狀設(shè)置刻度部GPa、GPb，該刻度部GPa、GPb是對旋轉(zhuǎn)滾筒DR的旋轉(zhuǎn)角度位置(或周長方向的位置)進行計測的編碼器系統(tǒng)用的?？潭炔縂Pa、GPb是在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面的周方向上以恒定的間距(例如20μm)刻畫凹狀或凸狀的網(wǎng)格線而成的衍射網(wǎng)格，被構(gòu)成為增量型刻度。另外，上述數(shù)值是一個例子，本發(fā)明并不被限定于此。襯底P以卷附在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的避開了兩端的刻度部GPa、GPb的內(nèi)側(cè)的方式構(gòu)成。在需要嚴密的配置關(guān)系的情況下，設(shè)定成使得刻度部GPa、GPb的外周面與卷附于旋轉(zhuǎn)滾筒DR的襯底P的部分外周面成為同一面(距中心線AX2的半徑相同)。為此，使刻度部GPa、GPb的外周面相對于旋轉(zhuǎn)滾筒DR的襯底巻附用的外周面在徑向上高出襯底P的厚度那么多的量即可。為了使旋轉(zhuǎn)滾筒DR圍繞旋轉(zhuǎn)中心線AX2旋轉(zhuǎn)，在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的兩側(cè)設(shè)有與中心線AX2同軸的軸部Sf2。對該軸部Sf2賦予來自未圖示的驅(qū)動源(電機及減速齒輪機構(gòu)等)的旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)矩。此外，在本實施方式中，設(shè)有編碼器讀頭EN1、EN2，該編碼器讀頭EN1、EN2與旋轉(zhuǎn)滾筒DR兩端部的刻度部GPa、GPb分別相對，并固定設(shè)置于對各投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2、PL3、PL4、…進行固定的柱PLM。在圖2中，只示出了與刻度部GPa相對的2個編碼器讀頭EN1、EN2，但是與刻度部GPb相對地配置有同樣的編碼器讀頭EN1、EN2。這樣，通過將編碼器讀頭EN1、EN2安裝于柱PLM，能夠?qū)⒁驕囟茸兓挠绊懙榷a(chǎn)生的、各投影光學(xué)系統(tǒng)與各編碼器讀頭EN1、EN2間的相對位置變動抑制得較小。各編碼器讀頭EN1、EN2向刻度部GPa、GPb投射計測用的光束，并對其反射光束(衍射光)進行光電檢測，由此產(chǎn)生與刻度部GPa、GPb的周向位置變化相應(yīng)的的檢測信號(例如，具有90度相位差的2相信號)。通過未圖示的計數(shù)電路對該檢測信號進行內(nèi)插補而進行數(shù)字處理，由此能夠以亞微米的分辨率來計測旋轉(zhuǎn)滾筒DR的角度變化，即其外周面的周向位置變化。此外，如圖2所示，各編碼器讀頭EN1、EN2配置在設(shè)置方位線Le1、Le2上。設(shè)置方位線Le1、Le2是如下確定的假想線，即，其通過刻度部GPa(GPb)上的計測用光束的投射區(qū)域，且被設(shè)定在與圖2中的XZ面平行的面內(nèi)，且其延長線與旋轉(zhuǎn)滾筒DR的旋轉(zhuǎn)中心線AX2交叉。在XZ面內(nèi)觀察，設(shè)置方位線Le1被確定成與從第奇數(shù)個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3向襯底P投射的成像光束的主光線平行，詳細情況將在后說明。此外，在XZ面內(nèi)觀察，設(shè)置方位線Le2被確定成與從偶數(shù)個投影光學(xué)系統(tǒng)PL2、PL4向襯底P投射的成像光束的主光線平行。另一方面，在圓筒掩模DM的兩端側(cè)也與旋轉(zhuǎn)中心線AX1同軸地設(shè)有軸部Sf1，經(jīng)由該軸部Sf1，將來自未圖示的驅(qū)動源(電機等)的旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)矩賦予給圓筒掩模DM。分別在圓筒掩模DM的旋轉(zhuǎn)中心線AX1方向的兩端部邊緣，與旋轉(zhuǎn)滾筒DR同樣地在以旋轉(zhuǎn)中心線AX1為中心的整個周向范圍以環(huán)狀設(shè)置編碼器計測的刻度部GPM。在圓筒掩模DM的外周面形成的透過型的掩模圖案配置在避開兩端部的刻度部GPM的內(nèi)側(cè)。在需要嚴密的配置關(guān)系的情況下，設(shè)定為使得刻度部GPM的外周面與圓筒掩模DM的圖案面(圓筒面)的外周面成為同一面(距中心線AX1的半徑相同)。此外，在與圓筒掩模DM的各刻度部GPM相對的位置，且在從旋轉(zhuǎn)中心線AX1看的第奇數(shù)個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3、…的各視野的方向上，配置有編碼器讀頭EN11，在從旋轉(zhuǎn)中心線AX1看的第偶數(shù)個投影光學(xué)系統(tǒng)PL2、PL4、…的各視野的方向上，配置有編碼器讀頭EN12。這些編碼器讀頭EN11、EN12也安裝在對投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2、PL3、PL4、…進行固定的保持柱PLM上。而且，編碼器讀頭EN11、EN12與旋轉(zhuǎn)滾筒DR側(cè)的編碼器讀頭EN1、EN2的配置狀態(tài)同樣地配置在設(shè)置方位線Le11、Le12上。設(shè)置方位線Le11、Le12通過圓筒掩模DM的刻度部GPM上投射有編碼器讀頭的計測用光束的區(qū)域，且設(shè)定在與圖2中的XZ面平行的面內(nèi)，其延長線被設(shè)定為與圓筒掩模DM的旋轉(zhuǎn)中心線AX1交叉。在是圓筒掩模DM的情況下，由于能夠?qū)⒃诳潭炔縂PM刻畫的刻度、網(wǎng)格圖案連同器件(顯示面板的電路等)的掩模圖案一起描畫、形成在圓筒掩模DM的外周面上，所以能夠嚴密地設(shè)定掩模圖案與刻度部GPM的相對位置關(guān)系。在本實施方式中，用透過型例示了圓筒掩模DM，但是在反射型的圓筒掩模中也同樣，能夠?qū)⒖潭炔縂PM(刻度、網(wǎng)格、原點圖案等)連同器件的掩模圖案一起形成。一般，在制作反射型的圓筒掩模的情況下，通過高精度的車床和研磨機對具有軸部Sf1的金屬圓柱材料進行加工，因此能夠?qū)⑵渫庵苊娴恼龍A度和軸偏移(偏心)抑制成極小。因此，只要在外周面上通過與掩模圖案的形成相同的工序連刻度部GPM也一起形成，就能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的編碼器計測。如以上所述，在本實施方式中，將在圓筒掩模DM上形成的刻度部GPM的外周面設(shè)定成與掩模圖案面大致相同的半徑，將在旋轉(zhuǎn)滾筒DR上形成的刻度部GPa、GPb的外周面設(shè)定成與襯底P的外周面大致相同的半徑。因此，編碼器讀頭EN11、EN12能夠在與圓筒掩模DM上的掩模圖案面(照明系統(tǒng)IU的照明區(qū)域)相同的徑向位置處對刻度部GPM進行檢測し，編碼器讀頭EN1、EN2能夠在與卷附在旋轉(zhuǎn)滾筒DR上的襯底P上的投影區(qū)域(投影像の成像面)相同的徑向位置對刻度部GPa、GPb進行檢測。因此，能夠?qū)⒁蛴嫓y位置與處理位置在旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的徑向上不同而產(chǎn)生的阿貝誤差抑制成很小。下面參照圖3來說明本實施方式的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL4、…的具體構(gòu)成。由于各投影光學(xué)系統(tǒng)均是相同的構(gòu)成，所以僅代表性地說明投影光學(xué)系統(tǒng)PL1的構(gòu)成。圖3所示的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1包括反射折射型的焦闌第1成像光學(xué)系統(tǒng)51和第2成像光學(xué)系統(tǒng)58。第1成像光學(xué)系統(tǒng)51由多個透鏡元件、焦距修正光學(xué)部件44、像偏移修正光學(xué)部件45、第1偏向部件50、配置在光瞳面的第1凹面鏡52等構(gòu)成。第1成像光學(xué)系統(tǒng)51將通過來自照明系統(tǒng)IU的照明光D1(其主光線為EL1)而顯現(xiàn)在形成于圓筒掩模DM的圖案面(外周面)上的照明區(qū)域IR1內(nèi)的掩模圖案的像成像于配置有視場光闌43的中間像面。第2成像光學(xué)系統(tǒng)58由多個透鏡元件、第2偏向部件57、配置在光瞳面的第2凹面鏡59、倍率修正用光學(xué)部件47等構(gòu)成。第2成像光學(xué)系統(tǒng)58將通過第1成像光學(xué)系統(tǒng)51形成的中間像中的、被視場光闌43的開口形狀(例如梯形)限制而成的像再成像于襯底P的投影區(qū)域PA1內(nèi)。在以上的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1的構(gòu)成中，焦距修正光學(xué)部件44對在襯底P上形成的掩模圖案像(以下稱為投影像)的焦距狀態(tài)進行微調(diào)整，像偏移修正光學(xué)部件45使投影像在像面內(nèi)微小地橫向偏移，倍率修正用光學(xué)部件47在±數(shù)十ppm程度的范圍內(nèi)對投影像的倍率進行微小修正。而且，在投影光學(xué)系統(tǒng)PL1中設(shè)有旋轉(zhuǎn)修正機構(gòu)46，該旋轉(zhuǎn)修正機構(gòu)46使第1偏向部件50圍繞與圖3中的Z軸平行的軸微小旋轉(zhuǎn)，從而使在襯底P上成像的投影像在像面內(nèi)微小旋轉(zhuǎn)。來自圓筒掩模DM上的照明區(qū)域IR1內(nèi)的圖案的成像光束EL2從照明區(qū)域IR1沿法線方向出射，通過焦距修正光學(xué)部件44、像偏移修正光學(xué)部件45，在第1偏向部件50的第1反射面(平面鏡)P4上反射，并通過多個透鏡元件而在第1凹面鏡52反射，并再次通過多個透鏡元件而在第1偏向部件50的第2反射面(平面鏡)P5反射，從而到達視場光闌43。在本實施方式中，將包含圖2(或圖1)中示出的圓筒掩模DM的旋轉(zhuǎn)中心線AX1和旋轉(zhuǎn)滾筒DR的旋轉(zhuǎn)中心線AX2雙方的平面作為中心面p3(與YZ面平行)。在該情況下，第1成像光學(xué)系統(tǒng)51的光軸AX3和第2成像光學(xué)系統(tǒng)58的光軸AX4均以與中心面p3正交的方式配置。在本實施方式中，當在XZ面內(nèi)觀察時，由于照明區(qū)域IR1相對于中心面p3在-X方向上偏移規(guī)定量，所以將通過照明區(qū)域IR1內(nèi)的中心的照明光D1的主光線EL1的延長線設(shè)定成與圓筒掩模DM的旋轉(zhuǎn)中心線AX1交叉。由此，來自位于照明區(qū)域IR1內(nèi)的中心點處的圖案的成像光束EL2的主光線EL3也以相對于中心面p3在XZ面內(nèi)傾斜的狀態(tài)前進，并到達第1偏向部件50的第1反射面P4。第1偏向部件50是沿Y軸方向延伸的三棱鏡。在本實施方式中，第1反射面P4和第2反射面P5分別包括形成在三棱鏡表面的鏡面(反射膜的表面)。第1偏向部件50使成像光束EL2偏向，以使得從照明區(qū)域IR1到第1反射面p4的主光線EL3在XZ面內(nèi)相對于中心面p3傾斜，且使得從第2反射面p5到視場光闌43的主光線EL3與中心面p3平行。為了形成那樣的光路，在本實施方式中，將第1偏向部件50的、第1反射面p4與第2反射面p5相交的棱線配置在光軸AX3上。在將包含該棱線和光軸AX3且與XY面平行的平面作為p6時，相對于該平面p6，第1反射面p4和第2反射面p5以非對稱的角度配置。具體地說，若第1反射面p4相對于平面p6的角度為θ1，第2反射面p5相對于平面P6的角度為θ2，則在本實施方式中，角度(θ1+θ2)被設(shè)定為不足90°，角度θ1被設(shè)定為不足45°，角度θ2被設(shè)定為實質(zhì)上為45°。由于將在第1反射面P4反射而向多個透鏡元件入射的主光線EL3設(shè)定為與光軸AX3平行，所以該主光線EL3能夠通過第1凹面鏡52的中心、即光瞳面與光軸AX3的交點，從而能夠確保焦闌成像狀態(tài)。因此，在圖3中，將照明區(qū)域IR1與第1反射面p4之間的主光線EL3相對于中心面p3的XZ面內(nèi)的傾角作為θd，則第1反射面p4的角度θ1如以下的式(1)那樣設(shè)定即可。θ1＝45°-(θd/2)···(1)通過第1成像光學(xué)系統(tǒng)51并通過了視場光闌43的成像光束EL2在作為第2成像光學(xué)系統(tǒng)58的要素的第2偏向部件57的第3反射面(平面鏡)p8上反射，并通過多個透鏡元件而到達配置在光瞳面處的第2凹面鏡59。在第2凹面鏡59反射了的成像光束EL2再次通過多個透鏡元件而在第2偏向部件57的第4反射面(平面鏡)p9上反射，并通過倍率修正用光學(xué)部件47而到達襯底P上的投影區(qū)域PA1。由此，能夠?qū)⒃谡彰鲄^(qū)域IR1內(nèi)顯現(xiàn)的圖案的像以等倍率(×1)投影在投影區(qū)域PA1內(nèi)。第2偏向部件57也是沿Y軸方向延伸的三棱鏡。在本實施方式中，第3反射面p8和第4反射面p9均包括形成在三棱鏡的表面的鏡面(反射膜的表面)。第2偏向部件57使成像光束EL2偏向，以使得視場光闌43與第3反射面p8之間的主光線EL3在XZ面內(nèi)平行于中心面p3，且使得第4反射面p9與投影區(qū)域PA1之間的主光線EL3相對于中心面p3在XZ面內(nèi)傾斜。在本實施方式中，在XZ面內(nèi)觀察時，由于投影區(qū)域PA1也相對于中心面p3在-X方向上偏移規(guī)定量，所以將到達投影區(qū)域PA1內(nèi)的成像光束的主光線EL3的延長線設(shè)定成與旋轉(zhuǎn)滾筒DR的旋轉(zhuǎn)中心線AX2交叉。由此，形成在投影區(qū)域PA1中的像平面是被旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面支承的襯底P的表面(彎曲面)的相接觸平面，所以能夠進行確保了分辨率的忠實的投影曝光。為了形成那樣的光路，在本實施方式中，將第2偏向部件57的、第3反射面p8與第2反射面p9相交的棱線配置在光軸AX4上，在將包括該棱線和光軸AX4且與XY面平行的平面作為p7時，相對于該平面p7，第3反射面p8和第4反射面p9以非對稱的角度配置。具體地說，若第3反射面p8相對于平面p7的角度為θ3，第4反射面p9相對于平面p7的角度為θ4，則角度(θ3+θ4)被設(shè)定為不足90°，角度θ4被設(shè)定為不足45°，角度θ3被設(shè)定為實質(zhì)上為45°。通過將在第2凹面鏡59反射而從多個透鏡元件射出并到達第4反射面p9的主光線EL3設(shè)定成與光軸AX4平行，能夠確保焦闌成像狀態(tài)。因此，在圖3中，若將第4反射面p9與投影區(qū)域PA1之間的主光線EL3相對于中心面p3的在XZ面內(nèi)的傾角設(shè)為θs，則第4反射面p9的角度θ4如以下的式(2)那樣設(shè)定即可。θ4＝45°-(θs/2)···(2)以上，對投影光學(xué)系統(tǒng)PL1的構(gòu)成進行了說明，但是第奇數(shù)個投影光學(xué)系統(tǒng)PL3，…與圖3同樣地構(gòu)成，第偶數(shù)個投影光學(xué)系統(tǒng)PL2、PL4為將圖3的配置關(guān)于中心面p3對稱地翻轉(zhuǎn)而成的構(gòu)成。此外，針對第奇數(shù)個、第偶數(shù)個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL4…的每一個都設(shè)置焦距修正光學(xué)部件44、像偏移修正光學(xué)部件45、旋轉(zhuǎn)修正機構(gòu)46及倍率修正用光學(xué)部件47來作為成像特性調(diào)整機構(gòu)。由此，能夠按照各投影光學(xué)系統(tǒng)對在襯底P上的投影像的投影條件進行調(diào)整。此處所說的投影條件包括在襯底P上的投影區(qū)域的并進位置及旋轉(zhuǎn)位置、倍率、焦距中的1個以上的項目。投影條件能夠根據(jù)同步掃描時投影區(qū)域相對于襯底P的位置來確定。通過調(diào)整投影像的投影條件，能夠?qū)εc掩模圖案相比較時的投影像的變形進行修正。焦距修正光學(xué)部件44是將2片楔形的棱鏡以相反的朝向(在圖3中關(guān)于X方向朝向相反)且以使整體上成為透明的平行平板的方式重合而成的。使該1對棱鏡以彼此相對的面間的間隔不變地沿斜面方向滑動，能夠改變作為平行平板的厚度，由此能夠?qū)τ袑嵭У墓饴烽L度進行微調(diào)整，從而能夠?qū)υ谕队皡^(qū)域PA1形成的圖案像的對焦狀態(tài)進行微調(diào)整。像偏移修正光學(xué)部件45由在圖3中的XZ面內(nèi)能夠傾斜的透明的平行平板玻璃、和與之正交的方向上能夠傾斜的透明的平行平板玻璃構(gòu)成。通過調(diào)整這2片平行平板玻璃的各傾斜量，能夠使在投影區(qū)域PA1形成的圖案像在X方向及Y方向上微小偏移。倍率修正用光學(xué)部件47是將凹透鏡、凸透鏡、凹透鏡這3枚以規(guī)定間隔同軸地配置且以前后的凹透鏡固定而其間的凸透鏡沿光軸(主光線EL3)方向移動的方式構(gòu)成的。由此，在投影區(qū)域PA1形成的圖案像在維持焦闌成像狀態(tài)的同時，能夠等方向地以微小量擴大或縮小。旋轉(zhuǎn)修正機構(gòu)46通過執(zhí)行機構(gòu)(圖示略)使第1偏向部件50圍繞與Z軸平行的軸微小旋轉(zhuǎn)。通過旋轉(zhuǎn)修正機構(gòu)46能夠使在投影區(qū)域PA1形成的圖案像在其像面內(nèi)微小旋轉(zhuǎn)。圖4是示出本實施方式中的照明區(qū)域IR及投影區(qū)域PA的配置的圖。另外，在圖4中，作為投影光學(xué)系統(tǒng)PL，由3個第奇數(shù)個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3、PL5和3個第偶數(shù)個投影光學(xué)系統(tǒng)PL2、PL4、PL6沿著Y方向并列而成。圖4中的左圖是從-Z側(cè)觀察到的、針對該6個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL6在圓筒掩模DM上設(shè)定的6個照明區(qū)域IR1～IR6的俯視圖。圖4中的右圖是從+Z側(cè)觀察到的、針對該6個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL6被旋轉(zhuǎn)滾筒DR支承的襯底P上的6個投影區(qū)域PA1～PA6的俯視圖。圖4中的附圖標記Xs表示圓筒掩模DM或旋轉(zhuǎn)滾筒DR的移動方向(旋轉(zhuǎn)方向)。照明系統(tǒng)IU對圓筒掩模DM上的6個照明區(qū)域IR1～IR6分別地進行照明。在圖4中，將各照明區(qū)域IR1～IR6作為在Y方向細長的梯形區(qū)域來進行說明。另外，如在圖3中所說明的那樣，在視場光闌43的開口形狀為梯形的情況下，各照明區(qū)域IR1～IR6也可以為包含梯形區(qū)域在內(nèi)的長方形區(qū)域。第奇數(shù)個照明區(qū)域IR1、IR3、IR5是同樣的形狀(梯形或長方形)，且在Y軸方向上空開一定間隔而配置。第偶數(shù)個照明區(qū)域IR2，IR4，IR6也在Y軸方向上空開一定間隔而配置。第偶數(shù)個照明區(qū)域IR2、IR4、IR6具有關(guān)于中心面p3而與第奇數(shù)個照明區(qū)域IR1、IR3、IR5對稱的梯形(或長方形)形狀。此外，如圖4所示，6個照明區(qū)域IR1～IR6分別以關(guān)于Y方向使相鄰的照明區(qū)域的周邊部部分重疊的方式配置。在本實施方式中，圓筒掩模DM的外周面具有形成有圖案的布圖區(qū)域A3和沒有圖案形成的非圖案形成區(qū)域A4。非圖案形成區(qū)域A4以框狀包圍著布圖區(qū)域A3而配置，尤其具有對照射各照明區(qū)域IR1～IR6的照明光束進行遮擋的特性。布圖區(qū)域A3隨著圓筒掩模DM的旋轉(zhuǎn)而言方向Xs移動，布圖區(qū)域A3中的Y軸方向上的各部分區(qū)域通過6個照明區(qū)域IR1～IR6中的某一個。換言之，6個照明區(qū)域IR1～IR6以覆蓋布圖區(qū)域A3的Y軸方向上的整個寬度的方式配置。在圖4中，分別與6個照明區(qū)域IR1～IR6的各個相對應(yīng)地設(shè)置6個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL6。因此，如圖4中的右圖所示，各投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL6將在對應(yīng)的照明區(qū)域IR1～IR6內(nèi)顯現(xiàn)的掩模圖案的部分圖案像投影于襯底P上的6個投影區(qū)域PA1～PA6內(nèi)。如圖4中的右圖所示，第奇數(shù)個照明區(qū)域IR1、IR3、IR5中的圖案的像被分別投影于在Y軸方向上排成一列的第奇數(shù)個投影區(qū)域PA1、PA3、PA5中。第偶數(shù)個照明區(qū)域IR2、IR4、IR6中的圖案的像也被分別投影于在Y軸方向上排成一列的第偶數(shù)個投影區(qū)域PA2、PA4、PA6中。第奇數(shù)個投影區(qū)域PA1、PA3、PA5和第偶數(shù)個投影區(qū)域PA2、PA4、PA6關(guān)于中心面p3對稱地配置。6個投影區(qū)域PA1～PA6分別被配置成使得在與旋轉(zhuǎn)中心線AX2平行的方向(Y方向)上相鄰的投影區(qū)域的端部(梯形的三角部分)彼此互相重合。由此，隨著旋轉(zhuǎn)滾筒DR的旋轉(zhuǎn)而在6個投影區(qū)域PA1～PA6被曝光的襯底P的曝光區(qū)域A7在任何地方都是實質(zhì)上相同的曝光量。另外，如上述的圖1所示，在本實施方式的曝光裝置EX中設(shè)有對準系統(tǒng)AM，該對準系統(tǒng)AM用于對在襯底P上形成的對準標記或是在旋轉(zhuǎn)滾筒DR上形成的基準標記及基準圖案進行檢測以使襯底P與掩模圖案對位，或是對基準線及投影光學(xué)系統(tǒng)進行校準。關(guān)于該對準系統(tǒng)AM，下面參照圖5和圖6進行說明。圖5是在XZ面內(nèi)觀察到的、旋轉(zhuǎn)滾筒DR、編碼器讀頭EN1、EN2及對準系統(tǒng)AM1的配置的圖。圖6是在XY面內(nèi)觀察到的、旋轉(zhuǎn)滾筒DR、在襯底P上設(shè)定的6個投影區(qū)域PA1～PA6、及5個對準系統(tǒng)AM1～AM5的配置的圖。在圖5中，如先前所說明的那樣，編碼器讀頭EN1、EN2所配置的設(shè)置方位線Le1、Le2相對于包括旋轉(zhuǎn)中心線AX2且與YZ面平行的中心面p3對稱地傾斜設(shè)定。設(shè)置方位線Le1、Le2相對于中心面p3的傾角被設(shè)定為與到達圖3中說明的投影區(qū)域PA1(或是圖4中示出的第奇數(shù)個投影區(qū)域PA1、PA3、PA5和第偶數(shù)個投影區(qū)域PA2、PA4、PA6)中心的主光線EL3相對于中心面p3的傾角θs相等。在圖5中，對準系統(tǒng)AM1由下述部分等構(gòu)成，即：照明單元GC1，用于向襯底P或旋轉(zhuǎn)滾筒DR上的標記及圖案照射對準用的照明光；分光器GB1，將該照明光導(dǎo)向襯底P或旋轉(zhuǎn)滾筒DR；物鏡系統(tǒng)GA1，將照明光向襯底P或旋轉(zhuǎn)滾筒DR投射，并使在標記及圖案產(chǎn)生的光入射；拍攝系統(tǒng)GD1，通過二維CCD、CMOS等對經(jīng)由物鏡系統(tǒng)GA1和分光器GB1而受光的標記及圖案的像(亮視野像、暗視野像、熒光像等)進行拍攝。另外，來自照明單元GC1的對準用的照明光是相對于襯底P上的感光層幾乎不具有感度的波段的光，例如波長大約為500～800nm的光。通過對準系統(tǒng)AM1實現(xiàn)的標記及圖案的觀察區(qū)域(拍攝區(qū)域)在襯底P及旋轉(zhuǎn)滾筒DR上例如被設(shè)定在大約200μm角的范圍。對準系統(tǒng)AM1的光軸、即物鏡系統(tǒng)GA1的光軸以與從旋轉(zhuǎn)中心線AX1沿旋轉(zhuǎn)滾筒DR的徑向延伸的設(shè)置方位線La1相同的方向設(shè)定。該設(shè)置方位線La1從中心面p3以角度θj傾斜，并且相對于第奇數(shù)個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3、PL5的主光線EL3的傾角θs，被設(shè)定為θj＞θs。此外，在本實施方式中，在設(shè)置方位線La1上，在與旋轉(zhuǎn)滾筒DR的各刻度部GPa、GPb相對的位置處設(shè)有與編碼器讀頭EN1、EN2同樣的編碼器讀頭EN3。由此，對準系統(tǒng)AM1在觀察區(qū)域(拍攝區(qū)域)內(nèi)能夠精密地計測對標記及圖案的像采樣的瞬間的旋轉(zhuǎn)滾筒DR的旋轉(zhuǎn)角度位置(或周向位置)。另外，當在XZ面內(nèi)觀察時，在與中心面p3正交的X軸的方向上也設(shè)有與旋轉(zhuǎn)滾筒DR的各刻度部GPa、GPb相對的編碼器讀頭EN4。如圖6所示，對準系統(tǒng)AM設(shè)有5個與圖5的對準系統(tǒng)AM1同樣的構(gòu)成。在圖6中，為了易于理解，僅示出5個對準系統(tǒng)AM1～AM5的各物鏡系統(tǒng)GA1～GA5的配置。如圖6所示，通過各物鏡系統(tǒng)GA1～GA5實現(xiàn)的襯底P(或旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面)上的觀察區(qū)域(拍攝區(qū)域)Vw在與Y軸(旋轉(zhuǎn)中心線AX2)平行的方向上以規(guī)定的間隔配置。通過各觀察區(qū)域(拍攝區(qū)域)Vw的中心的各物鏡系統(tǒng)GA1～GA5的光軸均與XZ面平行地配置。如上述的圖2所示，在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的兩端側(cè)設(shè)有刻度部GPa、GPb，在這些刻度部GPa、GPb的內(nèi)側(cè)，在整周刻有由凹狀的槽或是凸狀的緣邊形成的狹幅的限制帶CLa、CLb。襯底P的Y方向上的寬度被設(shè)定為比該2條限制帶CLa、CLb之間的Y方向上的間隔小。襯底P與旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面中的由限制帶CLa、CLb夾著的內(nèi)側(cè)的區(qū)域緊密接觸著被支承。在襯底P上，如上述的圖4中的右圖所示，被6個投影區(qū)域PA1～PA6分別曝光的曝光區(qū)域A7在X方向上空開規(guī)定的間隔而配置。存在在襯底P的各曝光區(qū)域A7中已經(jīng)形成有圖案且在其上重合新的圖案并曝光的情況。在該情況下，在襯底P上的曝光區(qū)域A7的周圍，例如以十字形狀形成有用于對位的多個標記(對準標記)Ks1～Ks5。在圖6中，標記Ks1在曝光區(qū)域A7的-Y側(cè)的周邊區(qū)域沿X方向以恒定的間隔設(shè)置，標記Ks5在曝光區(qū)域A7的+Y側(cè)的周邊區(qū)域沿X方向以恒定的間隔設(shè)置。標記Ks2、Ks3、Ks4在沿X方向相鄰的2個曝光區(qū)域A7之間的空白區(qū)域中沿Y方向空開間隔地設(shè)置成一列。這些對準標記中的標記Ks1被設(shè)定為，在物鏡系統(tǒng)GA1(對準系統(tǒng)AM1)的拍攝區(qū)域Vw內(nèi)，在正在運送襯底P期間被依次捕捉。標記Ks5被設(shè)定為，在物鏡系統(tǒng)GA5(對準系統(tǒng)AM5)的拍攝區(qū)域Vw內(nèi)，在正在運送襯底P期間被依次捕捉。標記Ks2、Ks3、Ks4以分別在物鏡系統(tǒng)GA2(對準系統(tǒng)AM2)、物鏡系統(tǒng)GA3(對準系統(tǒng)AM3)、物鏡系統(tǒng)GA4(對準系統(tǒng)AM4)的各拍攝區(qū)域Vw內(nèi)被捕捉的方式確定Y方向上的位置。在以上那樣的構(gòu)成中，在將襯底P上的曝光區(qū)域A7與圓筒掩模DM上的掩模圖案相對地對位并曝光時，在各對準系統(tǒng)AM1～AM5的拍攝區(qū)域Vw內(nèi)，在所對應(yīng)的標記Ks1～Ks5進入的時刻對拍攝數(shù)據(jù)進行采樣，并從編碼器讀頭EN3讀出此時的旋轉(zhuǎn)滾筒DR的角度位置(周向位置)并存儲。通過對各拍攝數(shù)據(jù)進行圖像解析，來求出以各拍攝區(qū)域Vw為基準的各標記Ks1～Ks5在XY方向上的偏移量。在各對準系統(tǒng)AM1～AM5的拍攝區(qū)域Vw與各投影區(qū)域PA1～PA6的相對位置關(guān)系、即所謂的基準線預(yù)先通過校準等而被準確地求出的情況下，根據(jù)所求出的各標記Ks1～Ks5在XY方向上的偏移量和通過編碼器讀頭EN3讀取并存儲的旋轉(zhuǎn)滾筒DR的角度位置(周向位置)，能夠從配置在曝光位置的2個編碼器讀頭EN1、EN2的各計測值準確地推定出襯底P上的曝光區(qū)域A7與各投影區(qū)域PA1～PA6的位置關(guān)系(動態(tài)變化的位置關(guān)系)。因此，通過對2個編碼器讀頭EN1、EN2的各計測值與圓筒掩模DM側(cè)的編碼器讀頭EN11、EN12的計測值逐次進行比較，并進行同步制御，能夠?qū)⒀谀D案精密地重合在襯底P的曝光區(qū)域A7上并曝光。在以上那樣的曝光中，有時襯底P為100μm左右那么薄，并形成ITO等透明膜來作為基底層。在采用這樣的襯底P的情況下，若支承襯底P的旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面的反射率比較高，或是在其表面有很多數(shù)微米寬度程度的細小傷痕，則曝光用照明光會在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面反射、散熱、衍射，并從襯底P的背面?zhèn)确祷氐奖韨?cè)，對感光層施加本來的掩模圖案中沒有的成為噪聲的曝光。因此，旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面中的、至少與襯底P上曝光區(qū)域A7接觸的部分能夠使表面在局部具有亞微米程度的平坦性，且反射率均勻地降低。反射率例如相對于曝光用照明光為50、45、40、35、30、25、20、15、10、或5％以下，優(yōu)選能夠為20％以下。另外，上述數(shù)值是一個例子，本發(fā)明并不被限定于此。以下，利用圖7、圖8對旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面的構(gòu)造進行說明。圖7是示出緊密接觸于旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面而被支承的襯底P的構(gòu)成、及相對于曝光用的成像光束EL2(照明光IE0)、對準用的照明光ILa的各自的反射情況的圖。圖8是示出旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面的剖面構(gòu)造的圖。在圖7中，沿著主光線EL3行進的成像光束EL2(照明光IE0)投射于形成在厚度Tp的襯底P的表面上的感光層Pb3上。若感光層Pb3的基底層Pb2為ITO等光透過性高的材質(zhì)，則透過了基底層Pb2的照明光IE1相對于原始的照明光IE0幾乎沒有衰減地射向其下的襯底P的母材Pb1。由于襯底P的母材Pb1為PET、PEN等透明樹脂薄膜且厚度薄到100μm以下，所以在照明光IE0(IE1)的波段為350nm以上的情況下，母材Pb1具有相對于該照明光IE1比較大的透過率(80％以上)。因此，透過了母材Pb1的照明光IE1到達旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs。若外周表面DRs的反射率不為零，則因透過了母材Pb1的照明光IE1，會從外周表面DRs產(chǎn)生反射光(也包括散射光、衍射光)IE2，并以母材Pb1、基底層Pb2的順序向感光層Pb3一方返回。反射光IE2不是本來的布圖用的成像光束EL2，因此成為噪聲而在感光層Pb3上施加不必要的曝光。作為該噪聲之一，例如是通過成像光束EL2而形成的圖案像的離焦像。在是上述的圖3那樣的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1(～PL6)的情況下，根據(jù)曝光用照明光的波長λ和開口數(shù)NA來大概地確定分辨率(R)和焦點深度(DOF)。例如，在使用波長為365nm(I線)的照明光并能夠以線寬為3μm的分辨率(R)成像的投影光學(xué)系統(tǒng)中，在使K系數(shù)為0.35左右的情況下，其焦點深度(DOF)為70μm左右。若襯底P的母材Pb1的厚度為100μm，則成像光束EL2以稍微的離焦狀態(tài)向旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs投射，在外周表面DRs反射了的反射光IE2成為在感光層Pb3的面上進一步離焦的像光束。因此，在感光層Pb3上，隨著焦距對合了的成像光束EL2所成的圖案像，該圖案像自身的模糊像也被一起重合著投射。即，會產(chǎn)生不希望的不需要的圖案像(模糊像等)映入感光層Pb3的問題。另一方面，關(guān)于對準系統(tǒng)AM1～AM5所進行的標記檢測，例如,在作為形成于襯底P的母材Pb1上的對準用的標記Ks1～Ks5的材質(zhì)，使用高反射率的物質(zhì)、例如鋁(Al)等的情況下，由于向這些標記Ks1～Ks5照射的照明光ILa的反射光ILb的強度比較大，所以能夠進行良好的標記觀察、檢測。但是，在標記Ks1～Ks5的反射率不怎么高的情況下，通過了標記Ks1～Ks5周圍的透明區(qū)域的照明光ILa會到達旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs，此處反射的光隨來自標記Ks1～Ks5的反射光ILb一起被拍攝元件拍攝，因此存在標記Ks1～Ks5的像對比度低下的情況。由于以上的情況，本實施方式中的旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs形成為相對于曝光用的照明光IE0具有約50、45、40、35、30、25、20、15、10或5％以下的反射率。因此，在本實施方式的旋轉(zhuǎn)滾筒DR中，對鐵制(SUS)或鋁制(Al)的圓筒狀基材DR1的表面電鍍鉻(Cr)或銅(Cu)的基底層DR2(厚度Td2)。在對該基底層DR2的表面進行光學(xué)研磨而使局部的表面粗糙度充分小之后，在其上形成氧化鉻(Cr2O3)或類金剛石(DLC)構(gòu)成的頂層DR3(厚度Td3)?；讓覦R2的厚度Td2能夠在大約數(shù)百nm～數(shù)μm的范圍內(nèi)任意地設(shè)定，而頂層DR3的厚度Td3為了調(diào)整外周表面DRs的反射率而存在某條件范圍。因此，在基底層DR2為鉻(Cr)、頂層DR3為氧化鉻(Cr2O3)的情況下，參照圖9來說明以頂層DR3的厚度Td3為參數(shù)的、外周表面DRs的反射率的波長特性(分光反射率)。圖9是氧化鉻的折射率n為2.2、吸收系數(shù)k為0的情況下的模擬結(jié)果的圖表，縱軸表示外周表面DRs的反射率(％)，橫軸表示波長(nm)。在圖9中，示出了由氧化鉻形成的頂層DR3的厚度Td3在0～150Nnm之間每30nm改變而成的6個分光反射率的特性。例如，若氧化鉻的頂層DR3的厚度Td3為30nm左右，則能夠在350nm～500nm的整個波段范圍內(nèi)，使反射率為20％以下(模擬圖中為15％以下)。在該情況下，相對于波長436nm(g線曝光光)，反射率為大約7％，若對準用的照明光ILa的波長為500nm左右，則相對于該波長，反射率為大約12％。此外，若曝光光(照明光IE0)的波長為405nm(h線附近的藍光用的半導(dǎo)體激光等)，則通過使氧化鉻的頂層DR3的厚度Td3為120nm左右，能夠在曝光光的波長下反射率具有極小值，而相對于500nm附近的對準用的照明光ILa，反射率為40％左右。相反，若氧化鉻的頂層DR3的厚度Td3為60nm或150nm左右，則相對于波段為350～436nm的曝光光(照明光IE0)的反射率增高到50％左右，相對于波長500nm的對準用照明光ILa的反射率為40％以下。此外，若氧化鉻的頂層DR3的厚度Td3為90nm左右，相對于比波長350nm短的波段的紫外光，能夠?qū)⑼庵鼙砻鍰Rs的反射率減少到30％以下，相對于波長500nm的對準用照明光ILa的、外周表面DRs的反射率增加到60％左右。從圖9的模擬結(jié)果來判斷，通過控制由氧化鉻形成的頂層DR3的厚度Td3，能夠?qū)⑾鄬τ趯视谜彰鞴夂推毓庥谜彰鞴獾摹⑼庵鼙砻鍰Rs的反射率在大約數(shù)％～50％間任意地設(shè)定，能夠設(shè)定得比不設(shè)置由氧化鉻形成的頂層DR3(TD3＝0nm)而只有單純的鉻形成的基底層DR2的情況下的反射率低。如在上述的圖7中說明的那樣，在將相對于曝光用照明光(IE0)及對準用照明光(ILa)的外周表面DRs的反射率總的來說極力地抑制得很低的情況下，例如通過由氧化鉻性的頂層DR3的厚度Td3為30nm，能夠在波長350nm～500nm的整個范圍內(nèi)獲得大致15％以下的反射率。圖9的模擬是在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的基材DR1上形成鉻層并在其上以被控制了的厚度形成氧化鉻層來調(diào)整反射率的例子，但并不限于該組合。例如，基底層DR2的材質(zhì)除了鉻(Cr)，還可以是鋁(Al)、銅(Cu)、銀(Ag)、金(Au)等。作為基底層DR2上的頂層DR3的材質(zhì)，能夠同樣地使用上述的氧化鉻、比較能夠控制反射率的高折射率的電解質(zhì)、氧化鈦(TIO)、鋯石、氧化鉿、類金剛石(DLC)等氧化物和氮化物等金屬類化合物。此外，通常，曝光用的照明光(IE0)是波長為436nm(g線)以下的紫外線，在對準用的照明光(ILa)中使用不使感光層(Pb3)感光的可視波段～紅外波段的波段的光。因此，用銅(Cu)那樣相對于紫外波段的光反射率低而相對于紅外波段的光反射率高的金屬材料形成基底層DR2，由此能夠使相對于對準用的照明光(ILa)和曝光用的照明光(IE0)各自的反射率不同。在作為基底層DR2，將銅(Cu)通過電鍍而厚厚地沉積之后，作為頂層DR3將類金剛石(DLC)以0.5μm厚和2μm厚形成，并測定相對于波長355nm的紫外線(曝光光)的反射率Re和相對于波長450nm～650nm的可視波段的光(對準光)的反射率Rv。其結(jié)果如表1。【表1】DLC厚度0.5μm2μm反射率Re約15％約20％反射率Rv約15％約15％這樣，通過至少抑制相對于旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs的曝光用照明光(IE0)的反射率，能夠消除在曝光時映入不需要的圖案像(模糊像)這樣的問題。[第2實施方式]上述的第1實施方式的曝光裝置是所謂的多透鏡方式，因此需要使在多個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL6的各投影區(qū)域PA1～PA6中形成的掩模圖案像從結(jié)果上在Y方向(或X方向)上良好地連接，并需要與襯底P上的基底的圖案良好地對位(重合)。因此，為了將基于多個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL6的連接精度抑制在容許范圍內(nèi)而需要校準。此外，各投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL6的投影區(qū)域PA1～PA6與對準系統(tǒng)AM1～AM5的觀察(拍攝)區(qū)域Vw的相對位置關(guān)系需要通過基準線管理來精密地求出。為了該基準線管理，需要校準。在用于確認基于多個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL6的連接精度的校準、用于對準系統(tǒng)AM1～AM5的基準線管理的校準中，需要在支承襯底P的旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面的至少一部分設(shè)有基準標記或基準圖案。在將平面玻璃板載置于平坦的襯底保持器上，并使該襯底保持器二維移動，并進行投影曝光的以往的曝光裝置中，在襯底保持器的外周部，在沒有被玻璃板覆蓋的部分設(shè)置校準用的基準標記或基準圖案，在校準時，使該基準標記或基準圖案移動至投影光學(xué)系統(tǒng)和對準系統(tǒng)的物鏡下方。但是，如上述的第1實施方式的曝光裝置所示，在幾乎全部的動作時間中，旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面的一部(投影區(qū)域PA1～PA6的位置)上都卷附有襯底P的狀態(tài)下，這樣的基準標記和基準圖案不得不設(shè)置在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面上與襯底P接觸的部分。因此在本實施方式中，如圖10所示，對采用在外周面設(shè)有基準標記和基準圖案的旋轉(zhuǎn)滾筒DR的情況進行說明。圖10是與同軸于旋轉(zhuǎn)中心線AX2的軸部SF2一體地經(jīng)車床加工的旋轉(zhuǎn)滾筒DR的立體圖，與上述的圖2、圖6中所示的構(gòu)成同樣地設(shè)有編碼器計測用的刻度部GPa、GPb和限制帶CLa、CLb。此外在本實施方式中，還在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面的被限制帶CLa，CLb夾著的整周上設(shè)置網(wǎng)格狀的基準圖案(也能夠作為基準標記來利用)RMP，該網(wǎng)格狀的基準圖案RMP通過將相對于Y軸以+45度傾斜的多個線圖案RL1和相對于Y軸以-45度傾斜的多個線圖案RL2以恒定的間距(周期)Pf1，Pf2反復(fù)刻畫而成。通過旋轉(zhuǎn)滾筒DR的旋轉(zhuǎn)，其外周面、即被限制帶CLa，CLb夾著的整周必然與襯底P接觸，因此基準圖案RMP為了使得襯底P與旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面相接觸的部位的摩擦力及襯底P的張力等不發(fā)生變化而成為整面均勻的傾斜圖案(斜格子狀圖案)。分別相對于襯底P的搬運方向(X方向)和襯底P的寬度方向(Y方向)，使線圖案RL1、RL2傾斜，能夠緩和摩擦力及張力等的方向性。但是，線圖案RL1、RL2也沒必要必須是斜向45度，線圖案RL1與Y軸平行、線圖案RL2與X軸平行的縱橫網(wǎng)格狀圖案也可以。此外，線圖案RL1、RL2也沒必要以90度交叉，以使得由相鄰的2條線圖案RL1和相鄰的2條線圖案RL2圍成的矩形區(qū)域成為正方形(或長方形)以外的菱形那樣的角度使線圖案RL1、RL2交叉也可以。此外，關(guān)于在圖10中示出的線圖案RL1、RL2的間距Pf1、Pf2，在考慮對準系統(tǒng)的基準線(投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影區(qū)域PA與拍攝區(qū)域Vw的相對位置關(guān)系)的預(yù)想變動量、或多透鏡方式的多個投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL6間的預(yù)想變動量的情況下，為該預(yù)想變動量的最低2倍以上即可。例如，預(yù)想變動量的最大值為10μm的情況下，間距Pf1、Pf2根據(jù)線圖案RL1、RL2的線寬LW(5～20μm)而不同，但是只要在大約30～50μm，就能夠進行準確的校準。各線圖案RL1、RL2的線寬LW能夠根據(jù)刻畫各線圖案RL1、RL2的描畫裝置的精度(分辨率)，蝕刻條件等來決定能夠細的界限，在通過對準系統(tǒng)AM1～AM5能夠安定地進行圖像解析的范圍內(nèi)優(yōu)選盡量地細。另外，當在各對準系統(tǒng)AM1～AM5的拍攝(觀察)區(qū)域Vw中檢測基準圖案RMP并進行基準線計測等的情況下，使線圖案RL1、RL2的間距Pf1，Pf2為50μm左右。于是，線圖案RL1、RL2的交點部分在Y方向、X方向上以70μm左右的間距出現(xiàn)，若拍攝(觀察)區(qū)域Vw為200μm角的范圍，則能夠良好地捕捉特定的1個交點部分，并進行位置偏移的圖像解析。圖11是沿著在圖10中的圓內(nèi)所示的X軸對線圖案RL1、RL2形成的基準圖案RMP的局部剖切而成的剖視圖。在本實施方式中，也與上述的第1實施方式的圖8同樣地，在鐵或鋁的圓筒狀的基材DR1的表面上通過電鍍厚厚地沉積鉻或銅的基底層DR2。然后，在對基底層DR2的表面進行光學(xué)研磨而提高平坦性之后，在基底層DR2的整周涂布光致抗蝕劑，并通過描畫裝置在基底層DR2上曝光線圖案RL1、RL2形成的基準圖案RMP。此時，由于刻度部GPa、GPb的網(wǎng)格線也一并描畫，所以能夠使基準圖案RMP與刻度部GPa、GPb的相對位置關(guān)系(尤其是周向上的位置關(guān)系)恒定。然后，通過光致抗蝕劑的顯影將與線圖案RL1、RL2對應(yīng)部分的抗蝕劑除去，并將露出的基底層DR2(鉻或銅)蝕刻到規(guī)定的深度，而后在其表面上以規(guī)定的厚度沉積頂層DR3(氧化鉻或DLC)。關(guān)于頂層DR3的厚度，在是氧化鉻的情況下，根據(jù)上述的圖9的特性來設(shè)定。最終形成的頂層DR3的線圖案RL1、RL2(凹部)的層差量ΔDP通過計測而與設(shè)計值進行比較，確認處于規(guī)定的容許范圍內(nèi)。這樣的線圖案RL1，RL2形成的基準圖案RMP能夠?qū)⑵浔砻娴南鄬τ谄毓庥谜彰鞴獾姆瓷渎嗜缟鲜龅牡?實施方式同樣地也抑制在20％以下。因此，即使曝光用照明光在基準圖案RMP反射，也不是能夠作為感光層Pb3中不需要的圖案曝光的程度的能量，因而不會成為實質(zhì)上的問題。另外，線圖案RL1、RL2如圖11所示通過蝕刻而形成為凹部，但是也可以使用負性光致抗蝕劑將線圖案RL1，RL2形成為凸部。另外，線圖案RL1，RL2形成的基準圖案RMP在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs上作為凹凸而形成，因此若事先時該凹凸的層差量為特定的條件，則整個基準圖案RMP能夠成為對曝光用的照明光和對準用的照明光雙方抑制反射強度的相位圖案。因此，將圖11所示的層差量ΔDP以下述那樣的條件設(shè)定為好。此處，若使曝光用照明光IE0的中心波長為λ1，使對準用的照明光ILa的中心波長為λ2，使m為包括0在內(nèi)的任意整數(shù)(m＝0，1，2，···)，則關(guān)于曝光用的照明光IE0的中心波長λ1，在λ1·(m+1/8)/2≦ΔDP≦λ1·(m+7/8)/2···(3)的范圍內(nèi)設(shè)定層差量ΔDP為好。進一步，能夠在λ1·(m+1/4)/2≦ΔDP≦λ1·(m+3/4)/2···(4)的范圍內(nèi)設(shè)定層差量ΔDP。另一方面，關(guān)于對準用的照明光ILa的中心波長λ2，將上述的式(3)、(4)中的波長λ1置換成λ2，能夠確定層差量ΔDP的范圍。此時，對關(guān)于曝光用照明光的波長λ1求出的層差量ΔDP的范圍和關(guān)于對準用照明光的波長λ2求出的層差量ΔDP的范圍進行比較，將雙方的范圍重合的地方或是接近的地方設(shè)定為最佳的層差量ΔDP，就能夠?qū)ζ毓庥玫恼彰鞴夂蛯视玫恼彰鞴怆p方降低由基準圖案RMP產(chǎn)生的反射光的強度。即，只要針對曝光用照明光的中心波長λ1和對準用照明光的中心波長λ2雙方，設(shè)定滿足或是近似上述的式(3)、式(4)的層差量ΔDP即可。以上，在第1實施方式和第2實施方式中，在作為旋轉(zhuǎn)滾筒DR的圓筒狀基材DR1的外周面上層疊了比較厚的基底層DR2和頂層DR3，并調(diào)整了反射率，但是更多層數(shù)的層疊構(gòu)造也可以。例如，為了使旋轉(zhuǎn)滾筒DR輕型化，也可以從Al(鋁)塊上切削出基材DR1，在該基材DR1的外周面上厚厚地電鍍用于平面度(正圓度和表面粗糙度)加工的比較硬的鉻(Cr)，然后進一步在其上實施上述的圖8和圖11所示的作為基底層DR2的銅(Cu)的電鍍，并在其上以規(guī)定的厚度成層疊作為頂層DR3的DLC。在該情況下，基準圖案RMP(線圖案RL1、RL2)和刻度部GPa、GPb的網(wǎng)格線是相對于硬的鉻層或其上的銅基底層DR2而刻畫的。[第3實施方式]上述的實施方式的曝光裝置是使用圓筒掩模DM在襯底P上掃描曝光掩模圖案而成的，即使是不使用掩模的曝光裝置、即所謂的圖案生成那樣的曝光裝置，也能夠一邊使用旋轉(zhuǎn)滾筒DR支承襯底P，一邊進行圖案曝光。參照圖12、圖13對那樣的曝光裝置的例子進行說明。圖12是在XZ面內(nèi)觀察到的、本實施方式的曝光裝置(圖案描畫裝置)的主要部分的俯視圖，圖13是在XY面內(nèi)觀察到的、圖12的構(gòu)成的上表面圖。在本實施方式中，如圖13所示，對緊密接觸于旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周面而被支承的襯底P上的曝光區(qū)域A7，通過沿Y方向(旋轉(zhuǎn)中心線AX2所延伸的方向)高速掃描的激光點光(例如，直徑為4μm)的直線性的掃描線LL1、LL2、LL3、LL4來進行圖案描畫。各掃描線LL1～LL4由于在Y方向上的掃描長度比較短，因此，相對于中心面p3對稱地交錯配置。各掃描線LL1～LL4中，第奇數(shù)個掃描線LL1、LL3相對于中心面p3配置在-X側(cè)，第偶數(shù)個掃描線LL2、LL4相對于中心面p3配置在+X側(cè)。這是因為，如圖12所示，沿著各掃描線LL1～LL4掃描光點光的第奇數(shù)個描畫模塊UW1、UW3與第偶數(shù)個描畫模塊UW2，UW4避開空間上的干渉而相對于中心面P3對稱地配置。在本實施方式中，在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的軸部SF2各自獨立地安裝編碼器計測用的刻度圓盤SD?？淘诳潭葓A盤SD的外周面上的刻度部GPa(及GPb)由配置在設(shè)置方位線Le1上的編碼器讀頭EN1和配置在設(shè)置方位線Le2上的編碼器讀頭EN2計測。此外，在上述的圖5、圖6那樣的配置有對準系統(tǒng)AM1～AM5的設(shè)置方位線La1的位置處也配置有讀取刻度部GPa(及GPb)的編碼器讀頭EN3。如圖12所示，4個描畫模塊UW1～UW4均是相同的構(gòu)成，因此代表性地關(guān)于描畫模塊UW1說明詳細的構(gòu)成。描畫模塊UW1包括：入射有來自外部的紫外激光光源(連續(xù)或脈沖式)的光束LB，并對光束LB向襯底P的投射/非投射高速地切換的AOM(Acousto-OpticModulator；聲光調(diào)制器)80；用于使來自AOM80的光束LB沿著襯底P上的掃描線LL1掃描的旋轉(zhuǎn)多邊形反射鏡82；彎折反射鏡84；f-θ透鏡系統(tǒng)86；以及光電元件88等。經(jīng)由f-θ透鏡系統(tǒng)86而向襯底P投射的光束BS1在Y方向的掃描中通過根據(jù)應(yīng)描畫的圖案的CAD信息而被ON/OFF的AOM80調(diào)制，并在襯底P的感光層上描畫圖案。通過使沿著掃描線LL1的光束BS1的Y方向的掃描和通過旋轉(zhuǎn)滾筒DR的旋轉(zhuǎn)實現(xiàn)的襯底P的X方向上的移動同步，能夠在曝光區(qū)域A7中的與掃描線LL1對應(yīng)的部分曝光圖案。由于是這樣的描畫方式，所以如圖12那樣，當在XZ面內(nèi)觀察時，到達襯底P的光束BS1的軸線的方向與設(shè)置方位線Le1一致。該情況對于從第偶數(shù)個描畫模塊UW2投射來的光束BS2也是同樣，到達襯底P的光束BS2的軸線的方向與設(shè)置方位線Le2一致。這樣，在通過4個掃描線LL1～LL4在曝光區(qū)域A7中描畫圖案的情況下，各掃描線LL1～LL4之間的連接部的精度很重要。在圖13的情況下，曝光區(qū)域A7首先開始與第奇數(shù)個掃描線LL1、LL3對應(yīng)的區(qū)域的曝光，在襯底P從該位置沿周長方向行進了距離ΔXu而在的位置開始與第偶數(shù)個掃描線LL2，LL4對應(yīng)的區(qū)域的曝光。因此，通過準確地設(shè)定各掃描線LL1～LL4的光點光形成的描畫開始點和描畫結(jié)束點，能夠?qū)⒃谡麄€曝光區(qū)域A7內(nèi)形成的圖案良好地連接。在以上那樣的圖案描畫裝置中，也通過采用在上述第1實施方式的圖8中所示出構(gòu)造的旋轉(zhuǎn)滾筒DR或在第2實施方式的圖10、圖11中示出的構(gòu)造的旋轉(zhuǎn)滾筒DR來降低作為噪聲的不需要的圖案的映入，從而達成高精度的布圖。以上說明了各實施方式，但是，作為襯底P的支承裝置，除了圓筒狀的旋轉(zhuǎn)滾筒DR以外，具有平坦的支承面的結(jié)構(gòu)、具有在襯底P的搬運方向上以大的曲率彎曲成圓筒狀的支承面的結(jié)構(gòu)也可以?；蛘?，在這些支承裝置的支承面上形成通過空氣軸承而形成的氣體層，并通過該氣體層使襯底以微小量上浮而進行支承的支承裝置也同樣能夠應(yīng)用本發(fā)明。此外，在上述的各實施方式中，作為基底層DR2、頂層DR3的金屬類薄膜，列舉了Cu(銅)、Cr(鉻)、Cr2O3(三價的氧化鉻)，但是不限于此，CrO(二價的氧化鉻)也可以。例如，可以使在基材DR1(SUS、Al等)上成膜的基底層DR2為Cu，作為沉積在基底層DR2上的頂層DR3，可以使CrO通過電鍍、蒸鍍、濺射成膜。此外，作為上述的各實施方式的頂層DR3而成膜的類金剛石(DLC)由碳原子構(gòu)成，是非晶質(zhì)構(gòu)造和/或包括結(jié)晶質(zhì)的非結(jié)晶構(gòu)造，作為碳原子間的結(jié)合，是石墨的SP2結(jié)合與金剛石的SP3結(jié)合混合存在的構(gòu)造。DLC作為硬質(zhì)膜而成膜，但是根據(jù)氫含有量的多少、所含結(jié)晶質(zhì)的電子軌道是靠近金剛石還是靠近石墨，其性質(zhì)是有區(qū)別的。[第4實施方式]另外，關(guān)于在上述的圖10中示出的旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs上形成的基準圖案RMP的方式，只要通過透過襯底P的曝光光的照射不會從其基準圖案RMP產(chǎn)生強雜散光(不需要的反射光)，怎樣的形狀都可以。圖14是示出作為第4實施方式的、在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs上形成的基準圖案RMP的變形例的立體圖，對于與圖10中的旋轉(zhuǎn)滾筒DR的部件相同的部件標注相同的附圖標記。在圖14中，在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的軸部SF2所延伸的方向(Y軸方向)的兩端面，與上述的圖12、圖13同樣地，通過多個螺釘FB緊固編碼器計測用的刻度圓盤SD。在本實施方式中，在刻度圓盤SD的外周面上形成的刻度部GPa、GPb的直徑(或距中心線AX2的半徑)被設(shè)定為與旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs的直徑(或距中心線AX2的半徑)相同。在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs，沿著與旋轉(zhuǎn)中心線AX2平行的方向(Y軸方向)直線狀延伸的線圖案RLa、和沿著周向直線狀延伸的(在與XZ面平行的面內(nèi)環(huán)繞)2條線圖案RLb、RLc作為基準圖案RMP而形成。在圖14的情況下，線圖案RLa在周向上以45°間隔配置。2根線圖案RLb、RLc在與旋轉(zhuǎn)中心線AX2平行的方向(Y軸方向)上空開恒定間隔而配置。線圖案RLa的周向上的角度間隔η不限于45°，可以是任意度。該恒定間隔與上述的圖6所示的對準系統(tǒng)AM1～AM5的各拍攝區(qū)域Vw的Y軸方向上的間隔相對應(yīng)。即，將各線圖案RLa、RLb、RLc配置成使得線圖案RLa與2條線圖案RLb、RLc的交叉部ALA隨著旋轉(zhuǎn)滾筒DR的旋轉(zhuǎn)而每次出現(xiàn)在對準系統(tǒng)AM1～AM5的各拍攝區(qū)域Vw內(nèi)，交叉部ALA的線圖案部作為基準圖案RMP而被檢測。如上述的圖6所示，由于在襯底P上形成標記Ks1～Ks5，所以2根線圖案RLb、RLc的至少一方以不與標記Ks1～Ks5的Y軸方向上的位置重合的方式錯開配置。作為一例，若將2根線圖案RLb、RLc的各線寬LW設(shè)定為15μm，將Y軸方向上的間隔距離設(shè)定為150μm，將各個標記Ks1～Ks5設(shè)定在位于該2根線圖案RLb、RLc之間，則各對準系統(tǒng)AM1～AM5能夠在其拍攝區(qū)域Vw內(nèi)對標記Ks1～Ks5和線圖案RLb、RLc都進行檢測。進一步，若使圖6所示的襯底P上的在進給方向相鄰配置的2個曝光區(qū)域A7之間的空白部(配置標記Ks1～Ks5的透明區(qū)域)為規(guī)定的尺寸以上，則能夠在其空白部之下確實地配置由在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs上形成的線圖案RLa、RLb、RLc所形成的交叉部ALA。例如，若旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs的直徑為Rdd，則沿著外周表面DRs的線圖案RLa的周向上的間隔距離LK在采用先前說明的線圖案RLa的周向上的角度間隔η時，能夠用LK＝π·Rdd·(η/360)···(5)表示。若2個曝光區(qū)域A7間的空白部的、關(guān)于襯底P的長邊方向(進行方向)的尺寸為LU，則一旦設(shè)定成滿足LU＞LK的條件，就能夠在襯底P的空白部內(nèi)配置至少1條線圖案RLa。根據(jù)以上所述，在本實施方式中，基準圖案RMP由在襯底P的長邊方向(進給方向)和短邊方向(Y軸方向)的各方向上直線狀延伸的線圖案RLa、RLb，RLc構(gòu)成，因此能夠在沿著拍攝元件的水平掃描線和垂直掃描線的方向上直接計測在對準系統(tǒng)AM1～AM5的各拍攝區(qū)域Vw內(nèi)出現(xiàn)的交叉部ALA的二維位置，從而具有能夠縮短圖像處理的運算時間的優(yōu)點。[第5實施方式]另外，若將圖14那樣的線圖案RLa、RLb，RLc形成在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs上，則在襯底P上的曝光區(qū)域A7中形成的布線圖案和像素圖案的排列方向是一致的。因此，即使例如通過基底層DR2、頂層DR3(參照上述圖8)使外周表面DRs的相對于曝光光的反射率變小，在線圖案RLa、RLb，RLc的層差邊緣部產(chǎn)生的微少散射光等也會在線圖案RLa、RLb，RLc的方向上分布，與在襯底P上的曝光區(qū)域A7中形成的布線圖案和像素圖案的排列方向一致，從而有可能成為問題。因此，在本實施方式中，如圖15所示，為了減少可能在線圖案RLa、RLb，RLc的層差邊緣部產(chǎn)生的微少散射光等，使在旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs上形成的線圖案RLa、RLb，RLc為線寬Lw的凹部，并在該凹部內(nèi)填充吸收紫外線(曝光光)的材料PI。材料PI是含有紫外線吸收劑量的涂料(干燥后硬化)，能夠吸收在層差邊緣產(chǎn)生的散射光和衍射光，使到達襯底P的表側(cè)的散射光和衍射光的量降低。作為紫外線吸收劑的一例，BASF-SE公司以商品名Ubinul(注冊商標)或TINUVIN(注冊商標)而銷售，并具有吸收紫外波段的曝光光，但是幾乎不吸收可視波段的對準用照明光的特性。如以上那樣，在本實施方式中，構(gòu)成基準圖案RMP的線圖案由凹部形成，在該凹部內(nèi)填充有紫外線吸收物質(zhì)，因此能夠使因曝光光的照射而從旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs反射的雜散光進一步降低。另外，向外周表面DRs的凹部填充紫外線吸收物質(zhì)的方法對于上述的圖10、圖11所示的線圖案RL1、RL2也能夠同樣地應(yīng)用。此外，含有這樣的紫外線吸收劑的涂料也能夠用于對與襯底P接觸的外周表面DRs上所帶有的傷痕或凹坑等不平整部分的修補。[第6實施方式]下面，根據(jù)圖16對在無掩模方式的圖案曝光裝置中應(yīng)用在上述的圖2、圖7、圖10、圖14中說明的襯底支承裝置的情況下的構(gòu)成。在圖16中，襯底支承裝置與前面的各實施方式同樣，由張緊力調(diào)整輥TR1、TR2、由軸部SF2軸支承且卷附有襯底P的旋轉(zhuǎn)滾筒DR、刻度圓盤SD、編碼器讀頭EN1、EN3等構(gòu)成。對準系統(tǒng)AM1(及AM2～AM5)也同樣由物鏡系統(tǒng)GA1、分光器GB1、照明單元GC1及拍攝系統(tǒng)GD1構(gòu)成。曝光單元包括：產(chǎn)生曝光用照明光(曝光光)的光源100；由許多的可動微反射鏡對二維排列的DMD(DigitalMicromirrorDecive；數(shù)字微鏡器件，注冊商標)104以均一的照度均勻地照明的照明系統(tǒng)101；反射鏡103；將在DMD104的各微反射鏡反射的曝光光匯聚額透鏡系統(tǒng)105；許多的微透鏡二維排列而成的MLA(Micro-LensArray；微透鏡陣列)106；與卷繞在旋轉(zhuǎn)滾筒DR上的襯底P的面共軛的視場光闌107；用于將通過MLA106的各微透鏡而在視場光闌107的開口內(nèi)形成的光點向襯底P上投影的由透鏡系統(tǒng)108、109構(gòu)成的投影光學(xué)系統(tǒng)PL。此外，在本實施方式的投影光學(xué)系統(tǒng)PL內(nèi)的光瞳面處設(shè)置能夠在與圖16的紙面正交的方向(Y軸方向)上插拔的分光器110。當該分光器110插入時，來自MLA106的曝光光經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL的透鏡系統(tǒng)108、分光器110、透鏡系統(tǒng)109而向襯底P的表面或是旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs上投射時，在襯底P的表面或是外周表面DRs反射而返回的反射光的一部分能夠被引導(dǎo)至包括匯聚透鏡和光電元件等的監(jiān)視器系統(tǒng)112。該監(jiān)視器系統(tǒng)112作為用于對來自襯底P的表面或外周表面DRs的反射光(曝光光)的光量進行計測，以判斷對襯底P是否施加了恰好的曝光量(照度)的光量監(jiān)視器而構(gòu)成，或者作為根據(jù)反射光(曝光光)來收集與襯底P上的標記Ks1～Ks5和外周表面DRs上的基準圖案RMP有關(guān)的光信息(光學(xué)像、衍射光等)的對準監(jiān)視器而構(gòu)成。在圖16那樣的無掩模型的圖案曝光裝置中，根據(jù)圖案描畫數(shù)據(jù)(CAD數(shù)據(jù))、基于來自編碼器讀頭EN1(或EN3)的計測信號的襯底P的進給位置信息、或是通過對準系統(tǒng)AM1(AM2～AM5)計測的襯底P的標記Ks1～Ks5的位置信息，對DMD104的各微反射鏡的角度高速地進行切換。由此，能夠在各微反射鏡反射的曝光光向MLA106的對應(yīng)的微透鏡入射的狀態(tài)和不入射的狀態(tài)之間切換，因此能夠在襯底P上曝光(描畫)按照描畫數(shù)據(jù)而成的圖案。圖16所示的本實施方式的圖案曝光裝置能夠在上述的圖2、圖4所示那樣的條件下，通過在與旋轉(zhuǎn)中心線AX2平行的方向(Y軸方向)上設(shè)置多個曝光單元來應(yīng)對Y軸方向上的寬度大的襯底P的曝光處理。在該情況下，圖16中的視場光闌107的開口形狀為與圖4中的各曝光區(qū)域PA1～PA6的形狀同樣的梯形形狀，并使得在該梯形狀的開口內(nèi)以恒定間隔排列通過MLA106而形成的許多光點為好。此外，為了由在MLA107的射出側(cè)形成的許多光點的匯聚點規(guī)定的焦距面與旋轉(zhuǎn)滾筒DR的外周表面DRs同樣地彎曲成圓筒狀，在例如是圖16中的MLA106的情況下，可以在其各微透鏡中的在X方向上并列的微透鏡間使焦點距離一點一點地不同。附圖標記的說明DM···圓筒掩模，DR···旋轉(zhuǎn)滾筒，DRs···旋轉(zhuǎn)滾筒的外周表面，DR1···旋轉(zhuǎn)滾筒的基材，DR2···旋轉(zhuǎn)滾筒的基底層，DR3···旋轉(zhuǎn)滾筒的頂層，P···撓性襯底，PL1、PL2、PL3、PL4···投影光學(xué)系統(tǒng)，AM1～AM5···對準系統(tǒng)，RMP···基準圖案，RL1、RL2、RLa、RLb、RLc···線圖案，UW1～UW4···描畫模塊。當前第1頁1 2 3