本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置。

背景技術(shù)：

完全內(nèi)嵌式觸摸屏(Full In-Cell，簡(jiǎn)稱(chēng)FIC)是將觸摸屏的觸摸感應(yīng)元件設(shè)置在顯示面板的內(nèi)部，以使顯示面板能夠?qū)崿F(xiàn)觸控功能的一種觸摸屏。為了實(shí)現(xiàn)顯示面板的結(jié)構(gòu)緊湊性，F(xiàn)IC可設(shè)計(jì)為分時(shí)復(fù)用公共電極(Common-Indium Tin Oxide，簡(jiǎn)稱(chēng)C-ITO)的結(jié)構(gòu)，也就是顯示面板在實(shí)現(xiàn)觸控功能時(shí)，公共電極可作為觸摸感應(yīng)元件，用于實(shí)現(xiàn)觸摸感測(cè)；在實(shí)現(xiàn)顯示功能時(shí)，公共電極用于實(shí)現(xiàn)畫(huà)面的顯示。

常見(jiàn)的FIC的陣列基板包括：襯底基板，以及設(shè)置于襯底基板上的源漏金屬層，參見(jiàn)圖1，源漏金屬層包括平行設(shè)置的源極信號(hào)線1和觸控信號(hào)線2(Touch Panel Metal，簡(jiǎn)稱(chēng)TPM)，陣列基板還包括設(shè)置于源漏金屬層上的公共電極層，公共電極層與TPM電連接，從而在觸控的時(shí)間段內(nèi)，TPM能夠向公共電極層提供觸控信號(hào)，使顯示面板實(shí)現(xiàn)觸控功能，在顯示的時(shí)間段內(nèi)，TPM能夠向公共電極層提供公共電極信號(hào)，使顯示面板實(shí)現(xiàn)顯示功能，可見(jiàn)，通過(guò)分時(shí)復(fù)用公共電極層分別實(shí)現(xiàn)了顯示面板的顯示和觸控兩個(gè)功能。

隨著生產(chǎn)過(guò)程中，對(duì)陣列基板上每英寸所擁有的像素?cái)?shù)目(Pixels Per Inch，簡(jiǎn)稱(chēng)PPI)要求的提高，陣列基板上的布線要求也提高，其中，要求TPM2與源極信號(hào)線1之間的距離必須滿(mǎn)足小于3μm。但是受到構(gòu)圖工藝的限制，源極信號(hào)線1與TPM 2之間會(huì)有金屬材料殘余，TPM 2與源極信號(hào)線1之間的距離過(guò)小極易造成源極信號(hào)線1與TPM 2短路，從而導(dǎo)致TPM 2中提供的公共電極信號(hào)與源極信號(hào)線1中提供的源極信號(hào)相互干擾，進(jìn)而在顯示畫(huà)面中形成暗線，降低顯示質(zhì)量。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置，以消除因源極信號(hào)與公共電極信號(hào)相互干擾在顯示畫(huà)面中形成的暗線，提高顯示裝置的顯示質(zhì)量。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

第一方面，本發(fā)明提供了一種陣列基板，所述陣列基板包括襯底基板和公共電極層，所述陣列基板還包括設(shè)置于所述襯底基板和所述公共電極層之間的遮光金屬層，所述遮光金屬層包括遮光圖形和觸控信號(hào)線，所述觸控信號(hào)線與所述公共電極層電連接。

本發(fā)明提供的陣列基板包括遮光金屬層，且觸控信號(hào)線設(shè)置在遮光金屬層中，觸控信號(hào)線與公共電極層電連接，使觸控信號(hào)線在不同的時(shí)間段能夠分別向公共電極層提供公共電極信號(hào)和觸控信號(hào)，以分別實(shí)現(xiàn)顯示面板的顯示功能和觸控功能，同時(shí)，遮光金屬層中包括遮光圖形，可起到遮光作用，提高顯示裝置的顯示質(zhì)量。更為重要的是，觸控信號(hào)線設(shè)置在遮光金屬層中，使得觸控信號(hào)線與源極信號(hào)線設(shè)置在不同層，這樣就避免了觸控信號(hào)線與源極信號(hào)線同層設(shè)置時(shí)，在構(gòu)圖工藝中，因觸控信號(hào)線與源極信號(hào)線之間的金屬材料殘余而引起二者短路的現(xiàn)象發(fā)生，也就避免了觸控信號(hào)線與公共電極層電連接產(chǎn)生的公共電極信號(hào)與源極信號(hào)線中的源極信號(hào)相互干擾的現(xiàn)象，因此因公共電極信號(hào)與源極信號(hào)相互干擾在顯示畫(huà)面中形成的暗線被消除，顯示裝置的顯示質(zhì)量提高。

第二方面，本發(fā)明提供了一種顯示裝置，所述顯示裝置包括上述陣列基板。

本發(fā)明所提供的顯示裝置的有益效果與上述陣列基板的有益效果相同，在此不再贅述。

第三方面，本發(fā)明提供了一種陣列基板的制備方法，所述制備方法包括：在襯底基板上形成遮光金屬層，對(duì)所述遮光金屬層進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成遮光圖形和觸控信號(hào)線；在所述遮光金屬層上形成公共電極層，所述公共電極層與所述觸控信號(hào)線電連接。

本發(fā)明所提供的陣列基板的制備方法的有益效果與上述陣列基板的有益效果相同，在此不再贅述。

附圖說(shuō)明

此處所說(shuō)明的附圖用來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本發(fā)明的一部分，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中：

圖1為現(xiàn)有的陣列基板的平面結(jié)構(gòu)圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例一所提供的陣列基板的截面結(jié)構(gòu)圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例一所提供的陣列基板的平面結(jié)構(gòu)圖；

圖4～圖10為本發(fā)明實(shí)施例三所提供的陣列基板的制備方法的各步驟圖。

附圖標(biāo)記：

1-源極信號(hào)線； 2-觸控信號(hào)線； 10-襯底基板；

20-遮光金屬層； 21-遮光圖形； 30-公共電極層；

40-層間介質(zhì)層； 41-第一過(guò)孔； 50-源漏金屬層；

60-平坦層； 61-第二過(guò)孔； 70-有源層；

80-柵極金屬層； 81-柵極。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明所提出的技術(shù)方案的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面將結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明所提出的技術(shù)方案的實(shí)施例進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是所提出的技術(shù)方案的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，均屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

實(shí)施例一

參見(jiàn)圖2和圖3，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種陣列基板，該陣列基板包括襯底基板10，遮光金屬(Light Shielding，簡(jiǎn)稱(chēng)LS)層20和公共電極層30，遮光金屬層20設(shè)置于襯底基板10上，遮光金屬層20包括用于遮光的遮光圖形21和用于提供公共電極信號(hào)和觸控信號(hào)的觸控信號(hào)線2，公共電極層30設(shè)置于遮光金屬層20上，且公共電極層30與觸控信號(hào)線2電連接。

本實(shí)施例中的陣列基板，包括遮光金屬層20和公共電極層30，其中遮光金屬層20中的觸控信號(hào)線2與公共電極層30電連接，從而觸控信號(hào)線2在顯示面板的顯示時(shí)間段內(nèi)能夠?yàn)楣搽姌O層30提供公共電極信號(hào)，以實(shí)現(xiàn)顯示面板的顯示功能，觸控信號(hào)線2在顯示面板的觸控時(shí)間段內(nèi)又能夠?yàn)楣搽姌O層30提供觸控信號(hào)，以實(shí)現(xiàn)顯示面板的觸控功能。不僅如此，在上述通過(guò)分時(shí)復(fù)用公共電極層30來(lái)實(shí)現(xiàn)顯示面板的顯示和觸控兩大功能的前提下，本實(shí)施例中的陣列基板的觸控信號(hào)線2是設(shè)置在遮光金屬層20中的，這樣就避免了現(xiàn)有技術(shù)中將觸控信號(hào)線2與源極信號(hào)線1同層設(shè)置時(shí)出現(xiàn)的觸控信號(hào)線2中公共電極信號(hào)與源極信號(hào)線1中的源極信號(hào)相干擾的現(xiàn)象，因此也就消除了因公共電極信號(hào)與源極信號(hào)相干擾而在顯示畫(huà)面中出現(xiàn)的暗線，從而顯示裝置的顯示質(zhì)量提高。

參見(jiàn)圖2和圖3，進(jìn)一步的，為了保護(hù)遮光金屬層20，以防止遮光金屬層20被氧化等，本實(shí)施例提供的陣列基板還可包括層間介質(zhì)層40(inter layer dielectric，簡(jiǎn)稱(chēng)ILD)，層間介質(zhì)層40設(shè)置于遮光金屬層20上，上述公共電極層30設(shè)置于層間介質(zhì)層40上。為了使公共電極層30與遮光金屬層20中的觸控信號(hào)線2保持電連接，層間介質(zhì)層40中還包括第一過(guò)孔41，從而公共電極層30能夠通過(guò)第一過(guò)孔41與觸控信號(hào)線2電連接。

參見(jiàn)圖2和圖3，進(jìn)一步的，陣列基板還可包括源漏金屬層50，源漏金屬層50設(shè)置于層間介質(zhì)層40和公共電極層30之間，源漏金屬層50中包括源極信號(hào)線1，當(dāng)然了，源漏金屬層50中還可包括漏極等。為了保護(hù)源漏金屬層50，同時(shí)為了使制備公共電極層30的基板的表面平整，源漏金屬層50和公共電極層30之間還設(shè)置有平坦層60，結(jié)合上述第一過(guò)孔41的方案，平坦層60中設(shè)置有第二過(guò)孔61，且第二過(guò)孔61在平坦層60中的位置與第一過(guò)孔41相對(duì)應(yīng)，從而公共電極層30能夠依次通過(guò)第二過(guò)孔61和第一過(guò)孔41與觸控信號(hào)線2電連接。

這里需要說(shuō)明的是，因?qū)娱g介質(zhì)層40和平坦層60之間的源漏金屬層50為導(dǎo)電層，因此不需要設(shè)置過(guò)孔。

值得一提的是，第二過(guò)孔61與第一過(guò)孔41可設(shè)計(jì)為同軸孔，且第二過(guò)孔61的孔徑大于第一過(guò)孔41的孔徑?？梢?jiàn)，從第二過(guò)孔61到第一過(guò)孔41孔徑減小，兩個(gè)過(guò)孔形成一個(gè)臺(tái)階式的套孔，使得公共電極層30與觸控信號(hào)線2之間的連接有一個(gè)坡度，這樣可以降低了因公共電極層30較薄而在過(guò)孔處斷裂的概率，有效避免了公共電極層30與觸控信號(hào)線2連接不正常帶來(lái)的一些風(fēng)險(xiǎn)，例如，公共電極層30與觸控信號(hào)線2連接不正常導(dǎo)致陣列基板無(wú)法正常工作，從而顯示面板無(wú)法實(shí)現(xiàn)顯示功能和觸控功能。

在這一方案中可以看出，源漏金屬層50和遮光金屬層20之間設(shè)置有層間介質(zhì)層40，進(jìn)一步將源漏金屬層50中的源極信號(hào)線1和遮光金屬層20中的觸控信號(hào)線2阻隔，從而進(jìn)一步避免了源極信號(hào)線1與觸控信號(hào)線2發(fā)生短路的現(xiàn)象，也就避免了源極信號(hào)線1中的源極信號(hào)與觸控信號(hào)線2中的公共電極信號(hào)發(fā)生相互干擾的現(xiàn)象，進(jìn)而消除了因源極信號(hào)與公共電極信號(hào)相互干擾而在顯示畫(huà)面中產(chǎn)生的暗線。

參見(jiàn)圖2，為了完善本實(shí)施例中的陣列基板，陣列基板還可包括有源層70和柵極金屬層80，其中，有源層70設(shè)置于遮光金屬層20和層間介質(zhì)層40之間，柵極金屬層80設(shè)置于有源層70和層間介質(zhì)層40之間，其中，柵極金屬層80中包括柵極81。

由于多晶硅的原子規(guī)則排列，載流子遷移率高，同時(shí)也有較高的驅(qū)動(dòng)電流，可以加快液晶的反應(yīng)時(shí)間，縮小薄膜晶體管的體積，增加透過(guò)面積，可以使顯示裝置具有較高的亮度和解析度，因此，優(yōu)選的，本實(shí)施例中有源層70的形成材料可選用多晶硅。可見(jiàn)，本實(shí)施例中的陣列基板可用于形成低溫多晶硅(Low Temperature Poly-silicon，簡(jiǎn)稱(chēng)LTPS)液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display，簡(jiǎn)稱(chēng)LCD)。

其中，本實(shí)施例中的遮光金屬層20中包括遮光圖形21，該遮光圖形21的作用之一就是為了防止顯示面板背光側(cè)的光線照射在有源層70上對(duì)有源層70產(chǎn)生影響，因此遮光金屬層20中的遮光圖形21可進(jìn)一步提高了顯示裝置的顯示質(zhì)量。

需要說(shuō)明的是，公共電極層30實(shí)際上是層結(jié)構(gòu)，而為了在圖3中清楚地表達(dá)公共電極層30，僅以圖中的兩個(gè)矩形表示整層公共電極層30。

實(shí)施例二

本實(shí)施例提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括上述實(shí)施例中提供的陣列基板。

本實(shí)施例提供的顯示裝置中包括實(shí)施例一中的陣列基板，遮光金屬層20中的觸控信號(hào)線2和源漏金屬層50中的源極信號(hào)線1不同層設(shè)置，這樣，也就避免了源漏金屬層50進(jìn)行構(gòu)圖工藝時(shí)，因觸控信號(hào)線2和源極信號(hào)線1距離太近，而導(dǎo)致二者之間的金屬材料殘余引起的觸控信號(hào)線2和源極信號(hào)線1的短路現(xiàn)象，因此，觸控信號(hào)線2中傳輸?shù)墓搽姌O信號(hào)和源極信號(hào)線1中傳輸?shù)脑礃O信號(hào)不會(huì)互相干擾，從而消除了因上述干擾現(xiàn)象引起的暗線類(lèi)不良，顯示裝置的顯示質(zhì)量相應(yīng)提高。

實(shí)施例三

本實(shí)施例提供了一種陣列基板的制備方法，包括：

在襯底基板上形成遮光金屬層，對(duì)遮光金屬層進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成遮光圖形和觸控信號(hào)線；

在遮光金屬層上形成公共電極層，公共電極層與觸控信號(hào)線電連接。

本實(shí)施例提供的陣列基板的制備方法，在制備遮光金屬層時(shí)，進(jìn)行構(gòu)圖工藝，一次形成遮光圖形和觸控信號(hào)線，可見(jiàn)，本方法并沒(méi)有增加制備觸控信號(hào)線的工序，工序簡(jiǎn)單。進(jìn)一步的，在遮光金屬層上形成公共電極層，使觸控信號(hào)線與公共電極層電連接，從而觸控信號(hào)線能夠在顯示面板進(jìn)行顯示時(shí)為公共電極層提供公共電極信號(hào)，以使公共電極層為驅(qū)動(dòng)顯示提供電壓，同時(shí)，觸控信號(hào)線能夠在顯示面板進(jìn)行觸控時(shí)為公共電極層提供觸控信號(hào)，以使公共電極層作為觸控的驅(qū)動(dòng)電極，可見(jiàn)，本方法能夠?qū)崿F(xiàn)顯示面板的顯示和觸控功能。

在現(xiàn)有的陣列基板的制備方法中，對(duì)源漏金屬層進(jìn)行一次構(gòu)圖工藝，一次形成觸控信號(hào)線和源極信號(hào)線，在構(gòu)圖工藝的光刻及刻蝕工序時(shí)，很容易在刻蝕的圖形上殘余金屬顆粒，或者在觸控信號(hào)線和源極信號(hào)線之間出現(xiàn)光刻膠殘余，或者出現(xiàn)刻蝕異常的現(xiàn)象，由于觸控信號(hào)線和源極信號(hào)線間隔較近，因此上述幾種情況極易造成觸控信號(hào)線和源極信號(hào)線短路，從而使觸控信號(hào)線中的公共電極信號(hào)傳輸?shù)皆礃O信號(hào)線中，進(jìn)而在顯示畫(huà)面中形成豎條暗線。除此之外，由于觸控信號(hào)線和源極信號(hào)線之間的空間較少，激光(Laser)在二者之間的空間對(duì)陣列基板進(jìn)行切割或維修時(shí)，極易損壞觸控信號(hào)線和源極信號(hào)線，該損壞的修復(fù)率較低，且修復(fù)過(guò)程中還容易造成二次損壞，所以該損壞幾乎是無(wú)法修復(fù)的，從而導(dǎo)致產(chǎn)品的不良率增加。而相比于現(xiàn)有的陣列基板的制備方法，本實(shí)施例中的制備方法中，將觸控信號(hào)線與源極信號(hào)線設(shè)置在不同層上，有效避免了觸控信號(hào)線與源極信號(hào)線相接觸的情況發(fā)生，因此避免了觸控信號(hào)線中傳輸?shù)墓搽姌O信號(hào)與源極信號(hào)線中傳輸?shù)脑礃O信號(hào)因干擾而在顯示畫(huà)面中出現(xiàn)暗線的現(xiàn)象，從而提高了顯示裝置的顯示質(zhì)量，而且降低了激光對(duì)陣列基板進(jìn)行切割時(shí)造成的損壞，提高了顯示裝置產(chǎn)品的良率。

進(jìn)一步的，在形成公共電極層之前，制備方法還可包括：

在遮光金屬層上形成層間介質(zhì)層，在層間介質(zhì)層中與觸控信號(hào)線對(duì)應(yīng)的區(qū)域內(nèi)形成第一過(guò)孔，公共電極層通過(guò)第一過(guò)孔與觸控信號(hào)線電連接。

在這一方案中，層間介質(zhì)層可有效保護(hù)遮光金屬層，避免遮光金屬層發(fā)生氧化而失去性能，從而保證了顯示裝置的高品質(zhì)。同時(shí)，為了保證公共電極層與觸控信號(hào)線的電連接，可在層間介質(zhì)層中形成第一過(guò)孔，以使公共電極層通過(guò)第一過(guò)孔與觸控信號(hào)線保持電連接。這里第一過(guò)孔的位置與觸控信號(hào)線所在的區(qū)域相對(duì)應(yīng)。

進(jìn)一步的，制備方法還包括形成源漏金屬層的步驟，該步驟設(shè)置在形成層間介質(zhì)層之后，形成公共電極層之前，該步驟可包括：

在層間介質(zhì)層上形成源漏金屬層，對(duì)源漏金屬層進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成源極信號(hào)線。

當(dāng)然了，在對(duì)源漏金屬層進(jìn)行構(gòu)圖工藝時(shí)，還可一同形成漏極等。

可以看出，在遮光金屬層和源漏金屬層之間形成了層間介質(zhì)層，這里的層間介質(zhì)層不僅可以對(duì)兩層金屬層起到絕緣保護(hù)的作用，更為重要的是，遮光金屬層和源漏金屬層之間間隔有層間介質(zhì)層，進(jìn)一步的阻隔了遮光金屬層中的觸控信號(hào)線和源漏金屬層中的源極信號(hào)線，避免了觸控信號(hào)線與源極信號(hào)線相隔太近發(fā)生的短路現(xiàn)象，從而也就避免了因觸控信號(hào)線中的公共電極信號(hào)和源極信號(hào)線中的源極信號(hào)相互干擾引起的在顯示畫(huà)面中出現(xiàn)暗線的現(xiàn)象，進(jìn)而提高了顯示裝置的產(chǎn)品良率。

優(yōu)選的，在上述，形成源漏金屬層的步驟之后，還可在源漏金屬層上形成平坦層。平坦層可用于保護(hù)源漏金屬層，以隔絕外界的污染等，同時(shí)，平坦層還可用于使基板的表面保持平整，這樣有利于在平坦層上制備公共電極層。

與層間介質(zhì)層采用同樣的措施，在平坦層中也形成過(guò)孔，稱(chēng)為第二過(guò)孔，第二過(guò)孔在平坦層的位置與第一過(guò)孔的位置對(duì)應(yīng)，第二過(guò)孔的作用也是為了保證公共電極層與觸控信號(hào)線的電連接，因此，公共電極層依次通過(guò)第二過(guò)孔和第一過(guò)孔與觸控信號(hào)線電連接。在平坦層和層間介質(zhì)層之間形成的源漏金屬層為導(dǎo)電層，因此不需要設(shè)置過(guò)孔來(lái)使公共電極層和觸控信號(hào)線保持電連接。

公共電極層與觸控信號(hào)線電連接時(shí)，因公共電極層較薄容易在過(guò)孔處斷裂，因此造成陣列基板無(wú)法正常工作，從而影響顯示裝置進(jìn)行顯示。為了解決這一問(wèn)題，本實(shí)施例中，將第一過(guò)孔和第二過(guò)孔設(shè)計(jì)為臺(tái)階式套孔，這樣，兩個(gè)過(guò)孔內(nèi)有一個(gè)坡度，相比于公共電極層通過(guò)沒(méi)有坡度的過(guò)孔與觸控信號(hào)線連接，公共電極層不易斷裂?？蛇x的，第二過(guò)孔與第一過(guò)孔為同軸孔，且第二過(guò)孔的孔徑大于第一過(guò)孔的孔徑。

優(yōu)選的，本實(shí)施例中的制備方法中，在形成遮光金屬層之后，形成層間介質(zhì)層之前，還包括以下步驟：

在遮光金屬層上形成有源層；

在有源層上形成柵極金屬層，對(duì)柵極金屬層進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成柵極。

需要說(shuō)明的是，前述形成遮光金屬層的步驟中，形成了遮光圖形，該遮光圖形可用來(lái)防止顯示面板背光側(cè)的光線照射在有源層上而對(duì)有源層產(chǎn)生影響，從而進(jìn)一步提高了顯示裝置的顯示質(zhì)量。

參見(jiàn)圖4～圖10，總結(jié)本實(shí)施例中的陣列基板的制備方法，該制備方法可包括以下幾個(gè)步驟：

參見(jiàn)圖4，在襯底基板上形成遮光金屬層，對(duì)遮光金屬層進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成遮光圖形21和觸控信號(hào)線2；

參見(jiàn)圖5，在遮光金屬層上形成有源層70；

參見(jiàn)圖6，在有源層70上形成柵極金屬層，對(duì)柵極金屬層進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成柵極81；

參見(jiàn)圖7，在柵極金屬層上形成層間介質(zhì)層，在層間介質(zhì)層中與觸控信號(hào)線2對(duì)應(yīng)的區(qū)域內(nèi)形成第一過(guò)孔41；

參見(jiàn)圖8，在層間介質(zhì)層上形成源漏金屬層，對(duì)源漏金屬層進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成源極信號(hào)線1；

參見(jiàn)圖9，在源漏金屬層上形成平坦層，在平坦層中與第一過(guò)孔41對(duì)應(yīng)的位置處形成第二過(guò)孔61；

參見(jiàn)圖10，在平坦層上形成公共電極層30，公共電極層30依次通過(guò)第二過(guò)孔61、源漏金屬層、第一過(guò)孔41、柵極金屬層和有源層與觸控信號(hào)線2電連接。

其中，柵極金屬層和有源層均可導(dǎo)電，在保證公共電極層30與觸控信號(hào)線2電連接時(shí)不需要形成過(guò)孔。

需要解釋的是，在圖10中，圖標(biāo)30所指的矩形代表整個(gè)公共電極層，實(shí)際上公共電極層并不僅僅是圖中所指的小部分。

特別的，以上實(shí)施例均適用于雙源極(Dual source)結(jié)構(gòu)的FIC。

值得一提的是，以上實(shí)施例中的有益效果均可用于解釋其它實(shí)施例。

需要說(shuō)明的是，本實(shí)施例所提供的顯示裝置的類(lèi)型可為液晶型、OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機(jī)發(fā)光二極管)型或電子紙型，適用于手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。