1.一種用于光刻設(shè)備的照射系統(tǒng)，包括：
透鏡陣列，被配置成接收輻射束且將所述輻射束聚焦成多個子束；
反射元件陣列，被配置成接收所述子束且反射所述子束以便形成照射束；
分束裝置，被配置成將所述照射束分裂成第一部分和第二部分，其中所述第一部分被引導以入射到光刻圖案形成裝置上；
聚焦單元，被配置成將所述照射束的所述第二部分聚焦至檢測平面上使得在所述檢測平面處形成圖像，且其中所述圖像是所述多個子束在位于所述反射元件陣列上游的平面中的圖像，且其中所述子束在所述圖像中彼此并不重疊；和
檢測器元件陣列，被配置成測量入射到所述檢測平面上的輻射的強度。
2.一種用于光刻設(shè)備的照射系統(tǒng)，包括：
反射元件陣列，被配置成接收輻射束且反射所述輻射束的多個子束以便形成照射束；
分束裝置，被配置成將所述照射束分裂成第一部分及第二部分，其中所述第一部分被引導以入射到光刻圖案形成裝置上；
聚焦單元，被配置成將所述照射束的所述第二部分聚焦至檢測平面上使得在所述檢測平面處形成圖像，且其中所述圖像是所述多個子束在位于所述反射元件陣列下游的平面中的圖像，且其中所述子束在所述圖像中彼此并不重疊；和
檢測器元件陣列，被配置成測量入射到所述檢測平面上的輻射的強度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的照射系統(tǒng)，還包括透鏡陣列，所述透鏡陣列被配置成接收所述輻射束，將所述輻射束聚焦成所述多個子束且將所述多個子束引導至所述反射元件陣列上。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的照射系統(tǒng)，其中所述檢測器元件陣列被布置成使得多個檢測器元件接收對應(yīng)于每個子束的輻射。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的照射系統(tǒng)，還包括控制器，所述控制器被配置成確定每個子束的空間強度分布且使用所述空間強度分布來確定所述反射元件陣列的所述反射元件中的每個反射元件的定向。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的照射系統(tǒng)，其中所述聚焦單元被配置成將所述照射束的所述第二部分聚焦至所述檢測平面上使得每個檢測器元件接收與所述多個子束中的單一子束對應(yīng)的輻射。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的照射系統(tǒng)，其還包括控制器，所述控制器被配置成確定所述多個子束中的每個子束的強度。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的照射系統(tǒng)，其還包括多個致動器，所述多個致動器被配置成調(diào)整所述反射元件陣列的所述反射元件的所述定向。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的照射系統(tǒng)，其中所述控制器在照射時段期間能夠操作以響應(yīng)于所述多個子束的經(jīng)確定的強度而控制所述致動器，以便形成具有所需空間強度分布的照射束。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的照射系統(tǒng)，其中所述控制器進一步能夠操作以在除了所述照射時段期間以外的時間控制所述致動器，以便定向所述反射元件使得與在所述照射時段期間的平面的范圍相比較時，當成像至所述檢測平面上時形成所述子束并不重疊的所述子束的圖像的平面的范圍被擴展。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的照射系統(tǒng)，其中所述聚焦單元能夠操作以調(diào)整成像至所述檢測平面上的所述平面。
12.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的照射系統(tǒng)，其中所述照射系統(tǒng)還包括濾光片元件，所述濾光片元件定位于所述反射元件陣列上游，其中所述濾光片元件被配置成透射輻射使得其入射到所述反射元件陣列上。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的照射系統(tǒng)，其中所述濾光片元件能夠操作以阻擋所述濾光片元件的一個或更多個區(qū)，以便防止輻射入射到一個或更多個反射元件上。
14.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的照射系統(tǒng)，其中所述檢測器元件陣列被定位成實質(zhì)上處于所述檢測平面。
15.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項所述的照射系統(tǒng)，還包括熒光板，所述熒光板定位成實質(zhì)上處于所述檢測平面，且其中所述檢測器元件陣列被配置成測量從所述熒光板發(fā)射的輻射的強度。
16.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的照射系統(tǒng)，還包括第二分束裝置，所述第二分束裝置被配置成將所述照射束的所述第二部分分裂成第一檢測束及第二檢測束，其中所述第一檢測束被引導至所述檢測系統(tǒng)且所述第二檢測束被引導至第二檢測系統(tǒng)，所述第二檢測系統(tǒng)包括第二聚焦單元及第二檢測器元件陣列，其中所述第二聚焦單元被配置成將所述第二檢測束聚焦至第二檢測平面上使得在所述第二檢測平面處形成第二圖像，且其中所述第二圖像是所述多個子束在第二平面中的圖像，所述第二平面不同于由接收所述第一檢測束的所述檢測系統(tǒng)而成像的所述平面。
17.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的照射系統(tǒng)，其中所述聚焦單元被定向成實質(zhì)上平行于所述檢測平面。
18.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的照射系統(tǒng)，其中所述聚焦單元被定向成實質(zhì)上平行于所述反射元件陣列。
19.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的照射系統(tǒng)，還包括控制器，所述控制器被配置成從由所述檢測器元件陣列進行的測量確定與所述反射元件陣列的反射元件相關(guān)的故障。
20.一種光刻設(shè)備，包括：
根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的照射系統(tǒng)；
支撐結(jié)構(gòu)，用于支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置用以在所述照射束的所述第一部分的橫截面中將圖案賦予所述照射束的所述第一部分，由此形成圖案化的輻射束；
襯底臺，用于保持襯底；及
投影系統(tǒng)，用于將所述圖案化的輻射束投影至所述襯底的目標部分上。
21.一種使輻射束成像的方法，所述方法包括：
提供輻射束；
利用透鏡陣列將所述輻射束聚焦成多個子束；
利用反射元件陣列來反射所述多個子束以便形成照射束；
將所述照射束分裂成第一部分及第二部分；
引導所述照射束的所述第一部分以入射到光刻圖案形成裝置上；
聚焦所述照射束的所述第二部分使得在檢測平面處形成圖像，其中所述圖像是所述多個子束在位于所述反射元件陣列上游的平面中的圖像，且其中所述子束在所述圖像中彼此并不重疊；及
運用檢測器元件陣列來測量入射到所述檢測平面上的輻射的強度。
22.一種使幅射束成像的方法，所述方法包括：
提供輻射束；
利用反射元件陣列來反射所述輻射束的多個子束以便形成照射束；
將所述照射束分裂成第一部分及第二部分；
引導所述照射束的所述第一部分以入射到光刻圖案形成裝置上；
聚焦所述照射束的所述第二部分使得在檢測平面處形成圖像，其中所述圖像是所述多個子束在位于所述反射元件陣列下游的平面中的圖像，且其中所述子束在所述圖像中彼此并不重疊；和
利用檢測器元件陣列來測量入射到所述檢測平面上的輻射的強度。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法，還包括利用透鏡陣列將所述輻射束聚焦成所述多個子束且將所述多個子束引導至所述反射元件陣列上。
24.根據(jù)權(quán)利要求21至23中任一項所述的方法，其中所述檢測器元件陣列被布置成使得多個檢測器元件接收對應(yīng)于每個子束的輻射。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的方法，還包括確定每個子束的空間強度分布，且使用所述空間強度分布以確定所述反射元件陣列的所述反射元件中的每個反射元件的定向。
26.根據(jù)權(quán)利要求21至25中任一項所述的方法，其中所述照射束的所述第二部分聚焦至所述檢測平面上使得每個檢測器元件接收對應(yīng)于所述多個子束中的單一子束的輻射。
27.根據(jù)權(quán)利要求21至26中任一項所述的方法，還包括確定所述多個子束中的每個子束的強度。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的方法，還包括在照射時段期間響應(yīng)于所述多個子束的所確定的強度而調(diào)整所述反射元件陣列的所述反射元件的所述定向，以便形成具有所需空間強度分布的照射束。
29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的方法，還包括在除了所述照射時段期間以外的時間調(diào)整所述反射元件陣列的所述反射元件的所述定向，使得與在所述照射時段期間的平面的范圍相比較時，當成像至所述檢測平面上時形成所述子束并不重疊的所述子束的圖像的平面的范圍被擴展。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的方法，還包括在除了所述照射時段期間以外的時間確定所述多個子束中的每個子束的強度。
31.根據(jù)權(quán)利要求25及權(quán)利要求28至30中至少一項所述的方法，還包括在除了所述照射時段期間以外的時間確定所述反射元件的所述定向。
32.根據(jù)權(quán)利要求21至31中任一項所述的方法，還包括調(diào)整成像至所述檢測平面上的所述平面。
33.根據(jù)權(quán)利要求21至32中任一項所述的方法，還包括根據(jù)由所述檢測器元件陣列進行的測量而將定位于所述反射元件陣列上游的濾光片元件對準，其中所述濾光片元件被配置成透射輻射以入射到所述反射元件陣列上。
34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的方法，還包括阻擋所述濾光片元件的一個或更多個區(qū)，以便防止輻射入射到一個或更多個反射元件上。
35.根據(jù)權(quán)利要求21至34中任一項所述的方法，還包括從入射到所述檢測平面上的輻射的所述強度的所述測量確定與所述反射元件陣列的反射元件相關(guān)的故障。
36.根據(jù)權(quán)利要求21至35中任一項所述的方法，還包括：
將所述照射束的所述第二部分分裂成第一檢測束及第二檢測束，其中所述第一檢測束被引導至所述檢測系統(tǒng)；和
聚焦所述第二檢測束使得在第二檢測平面處形成第二圖像，且其中所述第二圖像是所述多個子束在第二平面中的圖像，所述第二平面不同于由接收所述第一檢測束的所述檢測系統(tǒng)而成像的所述平面。
37.一種用于光刻設(shè)備的照射系統(tǒng)，包括：
透鏡陣列，被配置成接收輻射束且將所述輻射束聚焦成多個子束；
反射元件陣列，被配置成接收所述子束且反射所述子束以便形成照射束；
分束裝置，被配置成將所述照射束分裂成第一部分及第二部分，其中所述第一部分被引導以入射到光刻圖案形成裝置上；
聚焦單元，被配置成將所述照射束的所述第二部分聚焦至檢測平面上使得在所述檢測平面處形成圖像，且其中所述圖像是所述多個子束的圖像，在所述圖像中所述子束彼此并不重疊；和
檢測器元件陣列，被配置成測量入射到所述檢測平面上的輻射的強度。
38.一種使幅射束成像的方法，所述方法包括：
提供輻射束；
利用透鏡陣列將所述輻射束聚焦成多個子束；
利用反射元件陣列來反射所述多個子束以便形成照射束；
將所述照射束分裂成第一部分及第二部分；
引導所述照射束的所述第一部分以入射到光刻圖案形成裝置上；
聚焦所述照射束的所述第二部分使得在檢測平面處形成圖像，其中所述圖像是所述多個子束的圖像，在所述圖像中所述多個子束中的所述子束彼此并不重疊；和
利用檢測器元件陣列來測量入射到所述檢測平面上的輻射的強度。