技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供遠(yuǎn)紫外光光刻用的防護(hù)膜組件、其制造方法以及曝光方法。本發(fā)明涉及的防護(hù)膜組件具備：配置有防護(hù)膜的第1框體；支持上述第1框體的第2框體；貫通上述第1框體的貫通孔；以及在上述第1框體的配置有上述防護(hù)膜的面?zhèn)雀采w上述貫通孔的過濾器。上述貫通孔可以貫通上述防護(hù)膜，上述過濾器可以配置在上述防護(hù)膜上。此外，上述過濾器可以與上述防護(hù)膜相鄰地配置在上述第1框體上。

技術(shù)研發(fā)人員：高村一夫;種市大樹;河關(guān)孝志;小野陽介;石川比佐子;美谷島恒明;大久保敦;佐藤泰之;廣田俊明
受保護(hù)的技術(shù)使用者：三井化學(xué)株式會(huì)社
文檔號(hào)碼：201580046926
技術(shù)研發(fā)日：2015.09.18
技術(shù)公布日：2017.05.31